3-羟基-1-金刚烷基甲基丙烯酸酯 | 115372-36-6

• 物质功能分类: 有机原料 - 羧酸类化合物及衍生物
• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 中文名称: 3-羟基-1-金刚烷基甲基丙烯酸酯
• 中文别名: 1-甲基丙烯酸-3-金刚烷醇；1,3-金刚烷二醇单甲基丙烯酸酯；3-羟基-1-甲基丙烯酰氧基金刚烷；1-甲基丙烯酰氧基-3-金刚烷醇
• 英文名称: 3-hydroxy-1-adamantyl methacrylate
• 英文别名: 3-hydroxyadamantyl methacrylate；1-methacryloyloxy-3-adamantanol；3-methacryloyloxy-1-adamantanol；1-methacryloyloxy-3-hydroxyadamantane；methacrylic acid-3-hydroxy-1-adamantyl ester；methacrylic acid 3-hydroxyadamantane-1-yl；1-hydroxy-3-methacryloyloxyadamantane；3-hydroxy-1-adamantyl methylacrylate；3-hydroxyadamantan-1-yl methacrylate；hydroxyadamantyl methacrylate；(3-hydroxy-1-adamantyl) 2-methylprop-2-enoate
• CAS: 115372-36-6
• 化学式: C₁₄H₂₀O₃
• 分子量: 236.311
• InChiKey: OOIBFPKQHULHSQ-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  89.0 to 93.0 °C
• 沸点：
  329 °C
• 密度：
  1.17
• 闪点：
  133 °C
• 溶解度：
  溶于甲醇

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.3
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.79
• 拓扑面积：
  46.5
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  3

安全信息

• 海关编码：
  2916140000
• 危险性防范说明：
  P305+P351+P338
• 危险性描述：
  H315,H319
• 储存条件：
  室温且干燥

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  3-羟基-1-金刚烷基甲基丙烯酸酯 在 四氧化锇 、 N-甲基吗啉氧化物 作用下， 以 氯仿 、 水 为溶剂， 反应 18.0h， 生成 (3-Hydroxy-1-adamantyl) 2,3-dihydroxy-2-methylpropanoate
  参考文献：
  名称：

  SALT, PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING PHOTORESIST PATTERN

  摘要：

  一种光阻剂组合物，包括由式(I)表示的盐：其中Q1和Q2分别独立表示氟原子或C1-C6全氟烷基基团，R1、R2和R3分别独立表示氢原子或C1-C10一价脂肪饱和碳氢基团，X1和X2分别独立表示单键、羰基或C1-C10双价脂肪饱和碳氢基团，其中氢原子可以被羟基取代，亚甲基基团可以被氧原子、磺酰基或羰基取代，A1表示C1-C30有机基，m1表示1到4的整数，Z+表示有机阳离子，以及一种树脂，该树脂在酸的作用下几乎不溶或不溶，但在水性碱溶液中可溶。

  公开号：

  US20130040237A1
• 作为产物：
  描述：

  1-甲基乙烯基甲基丙烯酸酯 以90%的产率得到3-羟基-1-金刚烷基甲基丙烯酸酯
  参考文献：
  名称：

  POLYMERIZABLE ADAMANTANE DERIVATIVES AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME

  摘要：

  公开号：

  EP0915077B1
• 作为试剂：
  描述：

  1,3-金刚烷二醇 、 甲基丙烯酸 、 4-甲氧基苯酚 、 硫酸 、 氧气 、 sodium hydroxide 在 氮气 、 水 、 3-羟基-1-金刚烷基甲基丙烯酸酯 、 resultant solution 、 硫酸 、 ion 、 ice water 、 正庚烷 作用下， 以 甲苯 、 水 为溶剂， 反应 29.0h， 以results of the obtained 3-hydroxy-1-adamantyl methacrylate的产率得到3-羟基-1-金刚烷基甲基丙烯酸酯
  参考文献：
  名称：

  ADAMANTYL (METH)ACRYLIC MONOMER AND (METH)ACRYLIC POLYMER CONTAINING THE SAME AS REPEATING UNIT

  摘要：

  根据本发明提供了一种由式（1）表示的金刚烷基（甲基）丙烯酸酯，在甲基乙基酮或四氢呋喃中具有小于1.7 NTU（浊度单位）的福马星标准浊度，以及包含金刚烷基（甲基）丙烯酸酯作为重复单元的（甲基）丙烯酸共聚物：（在公式中，R1代表氢或甲基基团；R2到R4各自独立地表示氢原子，羟基，具有1至3个碳原子的烷基，芳基，烷氧基，芳氧基，卤素基，烷基卤素基或羟基烷基基团；n1表示0或1）。

  公开号：

  US20130023638A1

文献信息

• ANTIREFLECTIVE COMPOSITIONS WITH THERMAL ACID GENERATORS
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials Korea Ltd.

  公开号：US20190085173A1

  公开（公告）日：2019-03-21

  New methods and substrates are provided that include antireflective compositions that comprise one or more thermal acid generators.

  提供了包括一个或多个热酸发生剂的防反射组分的新方法和基板。
• MONOMERS, POLYMERS AND PHOTORESIST COMPOSITIONS
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials Korea Ltd.

  公开号：US20180059545A1

  公开（公告）日：2018-03-01

  In one preferred embodiment, polymers are provided that comprise a structure of the following Formula (I): Photoresists that comprises such polymers also are provided.

  在一个首选实施例中，提供了包含以下化学式（I）结构的聚合物： 还提供了包含这种聚合物的光刻胶。
• Salt suitable for an acid generator and a chemically amplified resist composition containing the same
  申请人：Harada Yukako

  公开号：US20070078269A1

  公开（公告）日：2007-04-05

  The present invention provides a salt of the formula (I): wherein ring Y represents monocyclic or polycyclic hydrocarbon group having 3 to 30 carbon atoms, in which one —CH 2 — group is substituted with —COO— group, and at least one hydrogen atom in the monocyclic or polycyclic hydrocarbon group may optionally be substituted with alkyl group having 1 to 6 carbon atom, alkoxy group having 1 to 6 carbon atom, perfluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms, hydroxyalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, hydroxyl group or cyano group; Q 1 and Q 2 each independently represent fluorine atom or perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms; A + represents organic counter ion; and n shows an integer of 0 to 12. The present invention also provides a chemically amplified resist composition comprising the salt of the formula (I).

  本发明提供了一种具有公式(I)的盐： 其中环Y代表具有3至30个碳原子的单环或多元环烃基团，其中一个—CH2—基团被—COO—基团取代，并且单环或多元环烃基团中的至少一个氢原子可以可选地被具有1至6个碳原子的烷基取代，具有1至6个碳原子的烷氧基，具有1至4个碳原子的全氟烷基，具有1至6个碳原子的羟基烷基，羟基或腈基；Q1和Q2各自独立地代表氟原子或具有1至6个碳原子的全氟烷基；A+代表有机反离子；n表示0至12的整数。 本发明还提供了一种含有公式(I)盐的化学放大抗蚀剂组合物。
• SALT AND PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME
  申请人：ICHIKAWA Koji

  公开号：US20100304293A1

  公开（公告）日：2010-12-02

  A salt represented by the formula (a): wherein Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom etc., X 1 represents a single bond etc., X 2 represents a single bond etc., Y 1 represents a C3-C6 alicyclic hydrocarbon group etc., with the proviso that —X 2 —Y 1 group has one or more fluorine atoms, and Z + represents an organic counter cation, and a photoresist composition comprising the salt represented by the formula (a) and a resin comprising a structural unit having an acid-labile group and being insoluble or poorly soluble in an aqueous alkali solution but becoming soluble in an aqueous alkali solution by the action of an acid.

  由公式(a)表示的盐：其中Q1和Q2各自独立代表氟原子等，X1代表单键等，X2代表单键等，Y1代表C3-C6的脂环烃基等，但条件是—X2—Y1基团具有一个或多个氟原子，以及Z+代表有机反离子，以及包含由公式(a)表示的盐的光阻剂组合物和包含具有酸不稳定的基团并且在水性碱液中不溶或微溶于但在酸性作用下水性碱液中变得可溶的树脂的结构单元。
• SALT AND PROCESS FOR PRODUCING ACID GENERATOR
  申请人：YOSHIDA Isao

  公开号：US20110201823A1

  公开（公告）日：2011-08-18

  A salt represented by the formula (I0): wherein Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom or a C1-C6 perfluoroalkyl group, L 1 represents a divalent C1-C17 hydrocarbon group in which one or more —CH 2 — can be replaced by —O— or —CO—, m represents 1 or 2, and Z m+ represents m-valent organic or inorganic cation.

  根据您提供的化学公式(I0)，其翻译成中文为： 其中Q1和Q2各自独立代表一个氟原子或一个C1-C6全氟烷基团，L1代表一个二价的C1-C17碳氢化合物基团，在该基团中，一个或多个—CH2—可以被—O—或—CO—所替换，m代表1或2，而Zm+代表m价有机或无机阳离子。