2-(Hydroxymethyl)-6-[[3,4,5-trihydroxy-5-(hydroxymethyl)oxolan-2-yl]methoxy]oxane-3,4,5-triol | 58166-27-1

• 物质功能分类: 食品添加剂 - 甜味剂
• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: 2-(Hydroxymethyl)-6-[[3,4,5-trihydroxy-5-(hydroxymethyl)oxolan-2-yl]methoxy]oxane-3,4,5-triol
• CAS: 58166-27-1
• 化学式: C₁₂H₂₂O₁₁
• 分子量: 342.3
• InChiKey: PVXPPJIGRGXGCY-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  125-128°C
• 比旋光度：
  100 º (c=2, H2O)
• 沸点：
  684.1±55.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.77±0.1 g/cm3(Predicted)
• 溶解度：
  DMSO（少许）、水（少许）
• 稳定性/保质期：
  <p>遵照规定使用和储存，则不会分解。</p>

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -4.3
• 重原子数：
  23
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  190
• 氢给体数：
  8
• 氢受体数：
  11

安全信息

• 安全说明：
  S24/25
• 海关编码：
  29329990

制备方法与用途

概述

近年来，随着人们生活水平的提高、保健意识增强以及消费观念的进步，人们对甜味剂的要求也更加注重其保健与营养的统一。蔗糖作为天然营养型甜味剂，虽是人类生命活动和生理代谢不可或缺的部分，但不当摄入可能会导致某些现代疾病。因此，开发新型可替代蔗糖的天然甜味剂已成为当今的重要课题之一。

帕拉金糖（Palatinose）是一种以蔗糖为原料，通过α-葡萄糖基转移酶转化精制而成的异构体。它是运用生物技术——酶工程改变蔗糖性质而获得的一种天然营养型糖，能够避免多食蔗糖所带来的缺点和疾病。虽然帕拉金糖常被称为“帕拉金糖”，其学名实为异麦芽酮糖（Isomaltulose），是一种由葡萄糖与果糖通过α-1,6连接形成的双糖。这一过程是通过葡萄糖基转移酶（Glucosyltransferase）的作用使蔗糖中的葡萄糖与果糖原有的α-1,2结合部分离解，转变成α-1,6结合而得。与蔗糖的区别仅在于分子内葡萄糖与果糖的连接部位不同，因此它属于蔗糖的同分异构体。

帕拉金糖为白色结晶，无异味，分子量360.32，并含有一摩尔结晶水，熔点124℃，比旋光度[α][20]0为97.2。其不吸湿或甚低，溶解度及粘度均低于蔗糖，耐酸解。

目前，帕拉金糖通常采用生物技术中的固定化细胞（酶）方法来合成。

应用

由于帕拉金糖具有以下性能：低甜度、不吸潮、耐酸解、酵母及其他微生物不能利用、不会导致龋齿、糖尿病患者可以食用、风味类似于蔗糖等特性，因此可用于替代或部分取代蔗糖在食品、饮料、冷冻食品中的使用。它主要用于冷饮类、糕点、浓缩果汁、糖果蜜饯、果酱类、配制酒、饼干、面包等领域。

帕拉金糖在小肠中能够被一种复合酶逐步分解为葡萄糖和果糖，从而缓慢吸收进入代谢，并有助于保持血糖水平的稳定。由于其缓慢吸收特性，胰岛素水平变化不大，糖尿病患者可以食用。此外，这种甜味剂适合生长发育中的婴儿及青少年，因其不会导致龋齿。

日本对帕拉金糖有严格的食品审查标准规定：可用帕拉金糖取代或部分取代蔗糖作为食品和饮料的甜味剂，并制成不致龋齿的产品。日本营养食品协会还进一步指出，在食品中使用70%以上帕拉金糖即可表明该产品为不产生龋齿的产品。未来，帕拉金糖有望广泛应用于21世纪的生物工程高科技产品，成为用途广泛的食品配料之一，让人们对甜美食品充满期待。

文献信息

• Composition for forming a coating type BPSG film, substrate formed a film by said composition, and patterning process using said composition
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：EP2826826A1

  公开（公告）日：2015-01-21

  The present invention provides a composition for forming a coating type BPSG film, which comprises: one or more structures comprising a silicic acid represented by the following general formula (1) as a skeletal structure, one or more structures comprising a phosphoric acid represented by the following general formula (2) as a skeletal structure and one or more structures comprising a boric acid represented by the following general formula (3) as a skeletal structure. There can be provided a composition for forming a coating type BPSG film which is excellent in adhesiveness in fine pattern, can be easily wet etched by a peeling solution which does not cause any damage to the semiconductor apparatus substrate, the coating type organic film or the CVD film mainly comprising carbon which are necessary in the patterning process, and can suppress generation of particles by forming it in the coating process.

  本发明提供了一种用于形成涂层型 BPSG 薄膜的组合物，该组合物包括：由以下通式 (1) 所代表的硅酸作为骨架结构的一种或多种结构、由以下通式 (2) 所代表的磷酸作为骨架结构的一种或多种结构以及由以下通式 (3) 所代表的硼酸作为骨架结构的一种或多种结构。本发明可提供一种用于形成涂层型 BPSG 薄膜的组合物，该组合物在精细图案方面具有优异的粘附性，可通过剥离溶液轻松进行湿蚀刻，不会对半导体设备基板、涂层型有机薄膜或图案化过程中所需的主要由碳构成的 CVD 薄膜造成任何损害，并且通过在涂层过程中形成该组合物，可抑制颗粒的生成。
• Method of pattern formation and method of producing polysilane resin precursor
  申请人：TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

  公开号：US10747113B2

  公开（公告）日：2020-08-18

  A method of pattern formation. The method is capable of inhibiting a post-development residue from remaining on a support equipped with an electrode, and a method of producing a polysilane-polysiloxane resin precursor that is suitable for use in the method of pattern formation. The method of pattern formation includes forming a film of a silicon-containing composition on the support equipped with an electrode forming a film of a resin composition on the film of a silicon-containing composition, and forming the film of a resin composition into a pattern.

  一种图案形成方法。该方法能够抑制显影后残留物残留在装有电极的支架上，以及生产适合用于图案形成方法的聚硅烷-聚硅氧烷树脂前体的方法。图案形成方法包括在装有电极的支架上形成一层含硅组合物薄膜，在含硅组合物薄膜上形成一层树脂组合物薄膜，以及将树脂组合物薄膜形成图案。
• Resin composition, method for producing resin composition, film formation method, and cured product
  申请人：TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

  公开号：US10767017B2

  公开（公告）日：2020-09-08

  A resin composition including a silicon-containing resin component and a solvent, the silicon-containing resin component including at least one of (I) and (II) mentioned below, the solvent including at least one of a terpene compound having at least one of a hydroxy group and an acetoxy group, and a cyclic skeleton-containing acetate compound (excluding the terpene compound): (I) a polysilane-polysiloxane resin having a polysilane structure and a polysiloxane structure, and (II) a mixture of a resin having a polysilane structure and a resin having a polysiloxane structure.

  一种树脂组合物，包括含硅树脂组分和溶剂，含硅树脂组分包括下述（I）和（II）中的至少一种，溶剂包括具有羟基和乙酰氧基中的至少一种的萜烯化合物和含环骨架的乙酸酯化合物（不包括萜烯化合物）中的至少一种： (I) 具有聚硅烷结构和聚硅氧烷结构的聚硅烷-聚硅氧烷树脂，以及 (II) 具有聚硅烷结构的树脂和具有聚硅氧烷结构的树脂的混合物。
• COMPOSITION FOR FORMING A COATING TYPE BPSG FILM, SUBSTRATE FORMED A FILM BY SAID COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS USING SAID COMPOSITION
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：EP2826826B1

  公开（公告）日：2018-08-01
• CARBOHYDRATE DERIVATIVES
  申请人：Dekany Gyula

  公开号：US20110060139A1

  公开（公告）日：2011-03-10

  A 1,2-dideoxy-1,2-diamino oligosaccharide or polysaccharide in its free base, salt or metal-complex form as shown in General Formula 1 and derivative thereof is described. R 1 , R 2 and R 3 are each independently selected from the group consisting of H and a carbohydrate moiety, with the proviso that at least one of the groups R 1 , R 2 or R 3 is a carbohydrate moiety; R 4 is selected from the group consisting of: H, optionally substituted C 1-20 -alkyl, optionally substituted heteroalkyl, optionally substituted C 2-20 -alkenyl, optionally substituted C 2-20 -alkynyl, optionally substituted C 3-10 -cycloalkyl, optionally substituted heterocyclyl, optionally substituted aryl, and optionally substituted heteroaryl.