2-羟基-4-氧杂三环[4,2,1,0 37]-5-壬酮 | 92343-46-9

• 物质功能分类: 有机原料 - 酮类化合物
• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 异戊烯醇脂质
• 中文名称: 2-羟基-4-氧杂三环[4,2,1,0 37]-5-壬酮
• 中文别名: 6-羟基六氢-2H-3,5-甲基桥连环戊[b]呋喃-2-酮；2-羟基-4-氧杂三环[4.2.1.0(3,7)]-5-壬酮；5-羟基降冰片烷-2,6-内酯；5-羟基降莰烷-2,6-内酯；2-羟基-4-氧杂三环[4,2,1,037]-5-壬酮；2-羟基-4-氧杂三环[4,2,1, 37]-5-壬酮
• 英文名称: 2-hydroxy-4-oxatricyclo[4.2.1.03,7]nonan-5-one
• 英文别名: 5-hydroxynorbornane 2,6-lactone；6-Hydroxyhexahydro-2H-3,5-methanocyclopenta[b]furan-2-one
• CAS: 92343-46-9
• 化学式: C₈H₁₀O₃
• mdl: MFCD00988184
• 分子量: 154.166
• InChiKey: SCDJKGVPVLZLED-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  156.0 to 160.0 °C
• 沸点：
  365.2±25.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.451±0.06 g/cm3(Predicted)
• 溶解度：
  溶于甲醇

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.1
• 重原子数：
  11
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.875
• 拓扑面积：
  46.5
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  3

安全信息

• 危险等级：
  IRRITANT
• 海关编码：
  2932209090
• 危险性防范说明：
  P280,P305+P351+P338
• 危险性描述：
  H302
• 储存条件：
  室温、干燥且密封保存。

SDS

5-羟基降冰片烷-2,6-内酯

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模块 1. 化学品
产品名称： 5-Hydroxynorbornane 2,6-Lactone
5.3

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模块 2. 危险性概述
GHS分类
物理性危害 未分类
健康危害
皮肤腐蚀/刺激 第2级
严重损伤/刺激眼睛 2A类
环境危害 未分类
GHS标签元素
图标或危害标志
信号词 警告
危险描述 造成皮肤刺激
造成严重眼刺激
防范说明
[预防] 处理后要彻底清洗双手。
穿戴防护手套/护目镜/防护面具。
[急救措施] 眼睛接触：用水小心清洗几分钟。如果方便，易操作，摘除隐形眼镜。继续冲洗。
眼睛接触：求医/就诊
皮肤接触：用大量肥皂和水轻轻洗。
若皮肤刺激：求医/就诊。
脱掉被污染的衣物，清洗后方可重新使用。

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模块 3. 成分/组成信息
单一物质/混和物 单一物质
化学名(中文名)： 5-羟基降冰片烷-2,6-内酯
百分比： >98.0%(GC)
CAS编码： 92343-46-9
俗名： 6-Hydroxyhexahydro-2H-3,5-methanocyclopenta[b]furan-2-one
5-羟基降冰片烷-2,6-内酯

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模块 3. 成分/组成信息
分子式： C8H10O3

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模块 4. 急救措施
吸入： 将受害者移到新鲜空气处，保持呼吸通畅，休息。若感不适请求医/就诊。
皮肤接触： 立即去除/脱掉所有被污染的衣物。用大量肥皂和水轻轻洗。
若皮肤刺激或发生皮疹：求医/就诊。
眼睛接触： 用水小心清洗几分钟。如果方便，易操作，摘除隐形眼镜。继续清洗。
如果眼睛刺激：求医/就诊。
食入： 若感不适，求医/就诊。漱口。
紧急救助者的防护： 救援者需要穿戴个人防护用品，比如橡胶手套和气密性护目镜。

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模块 5. 消防措施
合适的灭火剂： 干粉，泡沫，雾状水，二氧化碳
特定方法： 从上风处灭火，根据周围环境选择合适的灭火方法。
非相关人员应该撤离至安全地方。
周围一旦着火：如果安全，移去可移动容器。
消防员的特殊防护用具： 灭火时，一定要穿戴个人防护用品。

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模块 6. 泄漏应急处理
个人防护措施，防护用具， 使用个人防护用品。远离溢出物/泄露处并处在上风处。
紧急措施： 泄露区应该用安全带等圈起来，控制非相关人员进入。
环保措施： 防止进入下水道。
控制和清洗的方法和材料： 清扫收集粉尘，封入密闭容器。注意切勿分散。附着物或收集物应该立即根据合适的
法律法规处置。

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模块 7. 操作处置与储存
处理
技术措施： 在通风良好处进行处理。穿戴合适的防护用具。防止粉尘扩散。处理后彻底清洗双手
和脸。
注意事项： 如果粉尘或浮质产生，使用局部排气。
操作处置注意事项： 避免接触皮肤、眼睛和衣物。
贮存
储存条件： 保持容器密闭。存放于凉爽、阴暗处。
远离不相容的材料比如氧化剂存放。
包装材料： 依据法律。

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模块 8. 接触控制和个体防护
工程控制： 尽可能安装封闭体系或局部排风系统，操作人员切勿直接接触。同时安装淋浴器和洗
眼器。
个人防护用品
呼吸系统防护： 防尘面具。依据当地和政府法规。
手部防护： 防护手套。
眼睛防护： 安全防护镜。如果情况需要，佩戴面具。
皮肤和身体防护： 防护服。如果情况需要，穿戴防护靴。

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模块 9. 理化特性
外形（20°C）： 固体
外观： 晶体-粉末
颜色： 极淡的黄色-浅黄色
5-羟基降冰片烷-2,6-内酯

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模块 9. 理化特性
气味： 无资料
pH: 无数据资料
熔点：
158°C
沸点/沸程 无资料
闪点： 无资料
爆炸特性
爆炸下限： 无资料
爆炸上限： 无资料
密度： 无资料
溶解度：
[水] 无资料
[其他溶剂]
溶于： 甲醇

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模块 10. 稳定性和反应性
化学稳定性： 一般情况下稳定。
危险反应的可能性： 未报道特殊反应性。
须避免接触的物质 氧化剂
危险的分解产物: 一氧化碳, 二氧化碳

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模块 11. 毒理学信息
急性毒性： 无资料
对皮肤腐蚀或刺激： 无资料
对眼睛严重损害或刺激： 无资料
生殖细胞变异原性： 无资料
致癌性：
IARC = 无资料
NTP = 无资料
生殖毒性： 无资料

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模块 12. 生态学信息
生态毒性：
鱼类： 无资料
甲壳类： 无资料
藻类： 无资料
残留性 / 降解性： 无资料
潜在生物累积 （BCF): 无资料
土壤中移动性
log水分配系数： 无资料
土壤吸收系数 （Koc）： 无资料
亨利定律 无资料
constant(PaM3/mol):

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模块 13. 废弃处置
如果可能，回收处理。请咨询当地管理部门。建议在可燃溶剂中溶解混合，在装有后燃和洗涤装置的化学焚烧炉中
焚烧。废弃处置时请遵守国家、地区和当地的所有法规。

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模块 14. 运输信息
联合国分类： 与联合国分类标准不一致
5-羟基降冰片烷-2,6-内酯

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模块 14. 运输信息
UN编号： 未列明

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模块 15. 法规信息
《危险化学品安全管理条例》（2002年1月26日国务院发布，2011年2月16日修订）: 针对危险化学品的安全使用、
生产、储存、运输、装卸等方面均作了相应的规定。

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模块16 - 其他信息
N/A

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-羟基-4-氧杂三环[4,2,1,0 37]-5-壬酮 以 甲苯 为溶剂， 以65%的产率得到4-hydroxy-6-oxatricyclo[3.2.1.13,8]nonane-7-thione
  参考文献：
  名称：

  Monomer having electron-withdrawing group and process for preparing the same

  摘要：

  本发明的含有电子吸引基团的单体由以下化学式(a)、(b)或(c)表示：其中A1、A2和A3各自为一个环；Ra、Rb、Rc和Ru相同或不同，各自为氢原子或有机基团；Rs、Rw和Rv中至少有一个，Rt和Rw1中至少有一个，两个Rw2中至少有一个为电子吸引基团，其他的为氢原子或有机基团；W1为单键或连接基团；n表示2到25的整数，其中至少有两个Ra、Rb、Rc、Rs、Rt、Ru、Rv、Rw、Rw1、Rw2、W1和构成环A1的碳原子、构成环A2的碳原子以及构成环A3的碳原子可以分别结合形成一个环。 Rs、Rt、Rv、Rw、Rw1和Rw2中的电子吸引基团，例如，是每个含有氟原子的基团。该单体可用作光刻胶聚合物化合物的原材料。

  公开号：

  US20030059710A1
• 作为产物：
  描述：

  5-降冰片烯-2-羧酸 在 甲酸 、 双氧水 、 potassium carbonate 作用下， 以 甲醇 为溶剂， 反应 12.0h， 生成 2-羟基-4-氧杂三环[4,2,1,0 37]-5-壬酮
  参考文献：
  名称：

  一种光刻胶树脂单体及其中间体的制备方法

  摘要：

  本发明提供一种光刻胶树脂单体及其中间体的制备方法。该光刻胶树脂中间体的制备方法包括如下步骤：a)进行解聚得到b)将与反应得到c)将步骤b)的反应产物进行碱化处理、酸化处理和浓缩。该光刻胶树脂单体的制备方法包括如下步骤：将与氧化剂进行环氧化反应，然后进行内酯化反应；然后与进行酯化反应，获得光刻胶树脂单体。本发明光刻胶树脂单体及其中间体的制备方法收率高、纯度高，尤其在百公斤级制备下仍然具有收率高和纯度高的有益效果。

  公开号：

  CN114085138A

文献信息

• Salt suitable for an acid generator and a chemically amplified resist composition containing the same
  申请人：Harada Yukako

  公开号：US20070078269A1

  公开（公告）日：2007-04-05

  The present invention provides a salt of the formula (I): wherein ring Y represents monocyclic or polycyclic hydrocarbon group having 3 to 30 carbon atoms, in which one —CH 2 — group is substituted with —COO— group, and at least one hydrogen atom in the monocyclic or polycyclic hydrocarbon group may optionally be substituted with alkyl group having 1 to 6 carbon atom, alkoxy group having 1 to 6 carbon atom, perfluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms, hydroxyalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, hydroxyl group or cyano group; Q 1 and Q 2 each independently represent fluorine atom or perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms; A + represents organic counter ion; and n shows an integer of 0 to 12. The present invention also provides a chemically amplified resist composition comprising the salt of the formula (I).

  本发明提供了一种具有公式(I)的盐： 其中环Y代表具有3至30个碳原子的单环或多元环烃基团，其中一个—CH2—基团被—COO—基团取代，并且单环或多元环烃基团中的至少一个氢原子可以可选地被具有1至6个碳原子的烷基取代，具有1至6个碳原子的烷氧基，具有1至4个碳原子的全氟烷基，具有1至6个碳原子的羟基烷基，羟基或腈基；Q1和Q2各自独立地代表氟原子或具有1至6个碳原子的全氟烷基；A+代表有机反离子；n表示0至12的整数。 本发明还提供了一种含有公式(I)盐的化学放大抗蚀剂组合物。
• SALT AND PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME
  申请人：ICHIKAWA Koji

  公开号：US20100304293A1

  公开（公告）日：2010-12-02

  A salt represented by the formula (a): wherein Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom etc., X 1 represents a single bond etc., X 2 represents a single bond etc., Y 1 represents a C3-C6 alicyclic hydrocarbon group etc., with the proviso that —X 2 —Y 1 group has one or more fluorine atoms, and Z + represents an organic counter cation, and a photoresist composition comprising the salt represented by the formula (a) and a resin comprising a structural unit having an acid-labile group and being insoluble or poorly soluble in an aqueous alkali solution but becoming soluble in an aqueous alkali solution by the action of an acid.

  由公式(a)表示的盐：其中Q1和Q2各自独立代表氟原子等，X1代表单键等，X2代表单键等，Y1代表C3-C6的脂环烃基等，但条件是—X2—Y1基团具有一个或多个氟原子，以及Z+代表有机反离子，以及包含由公式(a)表示的盐的光阻剂组合物和包含具有酸不稳定的基团并且在水性碱液中不溶或微溶于但在酸性作用下水性碱液中变得可溶的树脂的结构单元。
• Salt suitable for an acid generator and a chemically amplified positive resist composition containing the same
  申请人：Shigematsu Junji

  公开号：US20080086014A1

  公开（公告）日：2008-04-10

  The present invention provides a salt represented by the formula (I): wherein X represents a C3-C30 divalent group containing at least one divalent alicyclic hydrocarbon group, and at least one —CH 2 — in the C3-C30 divalent group may be substituted with —O— or —CO—, Y represents a C3-C30 cyclic hydrocarbon group which may be substituted with at least one group selected from a C1-C6 alkoxy group, a C1-C4 perfluoroalkyl group, a C1-C6 hydroxyalkyl group, a hydroxyl group and a cyano group, and at least one —CH 2 — in the C3-C30 cyclic hydrocarbon group may be substituted with —O— or —CO—, Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom or a C1-C6 perfluoroalkyl group, and A + represents an organic counter ion.

  本发明提供了一种由公式(I)表示的盐：其中X代表含至少一个二价脂环烃基的C3-C30二价基团，并且C3-C30二价基团中的至少一个—CH2—可以被—O—或—CO—取代，Y代表一个C3-C30环烃基，该环烃基可以至少被选自C1-C6烷氧基、C1-C4全氟烷基、C1-C6羟基烷基、羟基和氰基的至少一个取代基取代，并且C3-C30环烃基中的至少一个—CH2—可以被—O—或—CO—取代，Q1和Q2各自独立地代表一个氟原子或一个C1-C6全氟烷基，以及A+代表一个有机反离子。
• ACID-LABILE ESTER MONOMER HAVING SPIROCYCLIC STRUCTURE, POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Kinsho Takeshi

  公开号：US20100304295A1

  公开（公告）日：2010-12-02

  An acid-labile ester monomer of spirocyclic structure has formula (1) wherein Z is a monovalent group having a polymerizable double bond, X is a divalent group which forms a cyclopentane, cyclohexane or norbornane ring, R 2 is H or monovalent hydrocarbon, R 3 and R 4 are H or monovalent hydrocarbon, or R 3 and R 4 , taken together, stand for a divalent group which forms a cyclopentane or cyclohexane ring, and n is 1 or 2. A polymer obtained from the acid-labile ester monomer has so high reactivity in acid-catalyzed elimination reaction that the polymer may be used to formulate a resist composition having high resolution.

  一种酸敏感酯单体具有螺环结构，其化学式如下（1），其中Z是具有可聚合双键的一价基团，X是形成环戊烷、环己烷或诺邦烷环的二价基团，R2是H或一价碳氢基团，R3和R4是H或一价碳氢基团，或者R3和R4一起表示形成环戊烷或环己烷环的二价基团，n为1或2。从酸敏感酯单体获得的聚合物在酸催化消除反应中具有很高的反应性，因此可以用于制备具有高分辨率的抗蚀组合物。
• HEMIACETAL COMPOUND, POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20160238930A1

  公开（公告）日：2016-08-18

  A polymer for resist use is obtainable from a hemiacetal compound having formula (1 a ) wherein R 1 is H, CH 3 or CF 3 , R 2 to R 4 each are H or a monovalent hydrocarbon group, X 1 is a divalent hydrocarbon group, ZZ designates a non-aromatic mono- or polycyclic ring of 4 to 20 carbon atoms having a hemiacetal structure, k 1 =0 or 1, and k 2 =0 to 3. A resist composition comprising the polymer displays controlled acid diffusion and low roughness during both positive and negative tone developments.

  从具有以下式（1a）的半缩醛化合物获得用于抗蚀的聚合物，其中R1为H、CH3或CF3，R2至R4分别为H或单价碳氢基团，X1为二价碳氢基团，ZZ表示具有半缩醛结构的非芳香性4至20个碳原子的单环或多环环，k1=0或1，k2=0至3。包含该聚合物的抗蚀组合物显示出在正片和负片显影过程中控制酸扩散和低粗糙度。