4,4'-二羟基二环己烷 | 20601-38-1

• 物质功能分类: 有机原料 - 烃类化合物及其衍生物 - 环烃
• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 中文名称: 4,4'-二羟基二环己烷
• 中文别名: 1,1'-联环己烷-4,4'-二醇；4,4'-联环己醇；4,4’-二羟基二环己烷；4,4'-联苯酚氢化；4,4-联环己醇
• 英文名称: 4,4'-bicyclohexanol
• 英文别名: 4,4′-dihydroxybicyclohexyl；[1,1'-bi(cyclohexane)]-4,4'-diol；4,4'-dihydroxybicyclohexane；[1,1'-Bicyclohexyl]-4,4'-diol；4-(4-hydroxycyclohexyl)cyclohexan-1-ol
• CAS: 20601-38-1
• 化学式: C₁₂H₂₂O₂
• mdl: MFCD00012056
• 分子量: 198.305
• InChiKey: MZXNOAWIRQFYDB-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  184-188 °C
• 沸点：
  324.2±10.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.098±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.9
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  40.5
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  2

安全信息

• 危险品标志：
  Xi
• 安全说明：
  S26,S36
• 危险类别码：
  R36/37/38
• WGK Germany：
  3
• 危险性防范说明：
  P261,P305+P351+P338
• 危险性描述：
  H315,H319,H335

SDS

4,4'-联环己醇 修改号码：5

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模块 1. 化学品
产品名称： 4,4'-Bicyclohexanol
修改号码： 5

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模块 2. 危险性概述
GHS分类
物理性危害 未分类
健康危害
皮肤腐蚀/刺激 第2级
严重损伤/刺激眼睛 2A类
环境危害 未分类
GHS标签元素
图标或危害标志
信号词 警告
危险描述 造成皮肤刺激
造成严重眼刺激
防范说明
[预防] 处理后要彻底清洗双手。
穿戴防护手套/护目镜/防护面具。
[急救措施] 眼睛接触：用水小心清洗几分钟。如果方便，易操作，摘除隐形眼镜。继续冲洗。
眼睛接触：求医/就诊
皮肤接触：用大量肥皂和水轻轻洗。
若皮肤刺激：求医/就诊。
脱掉被污染的衣物，清洗后方可重新使用。

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模块 3. 成分/组成信息
单一物质/混和物 单一物质
化学名(中文名)： 4,4'-联环己醇
百分比： >98.0%(GC)
CAS编码： 20601-38-1
俗名： 1,1'-Bicyclohexyl-4,4'-diol , 4,4'-Dihydroxydicyclohexyl
4,4'-联环己醇 修改号码：5

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模块 3. 成分/组成信息
分子式： C12H22O2

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模块 4. 急救措施
吸入： 将受害者移到新鲜空气处，保持呼吸通畅，休息。若感不适请求医/就诊。
皮肤接触： 立即去除/脱掉所有被污染的衣物。用大量肥皂和水轻轻洗。
若皮肤刺激或发生皮疹：求医/就诊。
眼睛接触： 用水小心清洗几分钟。如果方便，易操作，摘除隐形眼镜。继续清洗。
如果眼睛刺激：求医/就诊。
食入： 若感不适，求医/就诊。漱口。
紧急救助者的防护： 救援者需要穿戴个人防护用品，比如橡胶手套和气密性护目镜。

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模块 5. 消防措施
合适的灭火剂： 干粉，泡沫，雾状水，二氧化碳
特定方法： 从上风处灭火，根据周围环境选择合适的灭火方法。
非相关人员应该撤离至安全地方。
周围一旦着火：如果安全，移去可移动容器。
消防员的特殊防护用具： 灭火时，一定要穿戴个人防护用品。

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模块 6. 泄漏应急处理
个人防护措施，防护用具， 使用个人防护用品。远离溢出物/泄露处并处在上风处。
紧急措施： 泄露区应该用安全带等圈起来，控制非相关人员进入。
环保措施： 防止进入下水道。
控制和清洗的方法和材料： 清扫收集粉尘，封入密闭容器。注意切勿分散。附着物或收集物应该立即根据合适的
法律法规处置。

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模块 7. 操作处置与储存
处理
技术措施： 在通风良好处进行处理。穿戴合适的防护用具。防止粉尘扩散。处理后彻底清洗双手
和脸。
注意事项： 如果粉尘或浮质产生，使用局部排气。
操作处置注意事项： 避免接触皮肤、眼睛和衣物。
贮存
储存条件： 保持容器密闭。存放于凉爽、阴暗处。
远离不相容的材料比如氧化剂存放。
包装材料： 依据法律。

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模块 8. 接触控制和个体防护
工程控制： 尽可能安装封闭体系或局部排风系统，操作人员切勿直接接触。同时安装淋浴器和洗
眼器。
个人防护用品
呼吸系统防护： 防尘面具。依据当地和政府法规。
手部防护： 防护手套。
眼睛防护： 安全防护镜。如果情况需要，佩戴面具。
皮肤和身体防护： 防护服。如果情况需要，穿戴防护靴。

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模块 9. 理化特性
外形（20°C）： 固体
外观： 晶体-粉末
颜色： 白色类白色
4,4'-联环己醇 修改号码：5

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模块 9. 理化特性
气味： 无资料
pH: 无数据资料
熔点： 无资料
沸点/沸程 无资料
闪点： 无资料
爆炸特性
爆炸下限： 无资料
爆炸上限： 无资料
密度： 无资料
溶解度：
[水] 无资料
[其他溶剂] 无资料

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模块 10. 稳定性和反应性
化学稳定性： 一般情况下稳定。
危险反应的可能性： 未报道特殊反应性。
须避免接触的物质 氧化剂
危险的分解产物: 一氧化碳, 二氧化碳

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模块 11. 毒理学信息
急性毒性： 无资料
对皮肤腐蚀或刺激： 无资料
对眼睛严重损害或刺激： 无资料
生殖细胞变异原性： 无资料
致癌性：
IARC = 无资料
NTP = 无资料
生殖毒性： 无资料

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模块 12. 生态学信息
生态毒性：
鱼类： 无资料
甲壳类： 无资料
藻类： 无资料
残留性 / 降解性： 无资料
潜在生物累积 （BCF): 无资料
土壤中移动性
log水分配系数： 无资料
土壤吸收系数 （Koc）： 无资料
亨利定律 无资料
constant(PaM3/mol):

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模块 13. 废弃处置
如果可能，回收处理。请咨询当地管理部门。建议在可燃溶剂中溶解混合，在装有后燃和洗涤装置的化学焚烧炉中
焚烧。废弃处置时请遵守国家、地区和当地的所有法规。

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模块 14. 运输信息
联合国分类： 与联合国分类标准不一致
UN编号： 未列明
4,4'-联环己醇 修改号码：5

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模块 15. 法规信息
《危险化学品安全管理条例》（2002年1月26日国务院发布，2011年2月16日修订）: 针对危险化学品的安全使用、
生产、储存、运输、装卸等方面均作了相应的规定。

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模块16 - 其他信息
N/A

制备方法与用途

应用领域中提到的4,4'-二羟基二环己烷是一种烃类有机化合物，可作为合成材料的重要中间体。

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4,4'-二羟基二环己烷 以 水 为溶剂， 以the target bicyclohexyl-3,3′-diene compound, by-produced water的产率得到bi-3-cyclohexen-1-yl
  参考文献：
  名称：

  Alicyclic diepoxy compound, epoxy resin composition comprising the same, and cured article therefrom

  摘要：

  本发明揭示了一种脂环型双环氧化合物，即使在炎热潮湿的环境或在产生强酸的情况下使用，也能产生没有性能恶化的固化制品，其在固化时具有高反应性，并且可以产生具有卓越热稳定性的固化制品。具体而言，所述脂环型双环氧化合物包括以下式（1）所表示的3,4,3′,4′-二环氧基双环己基化合物：其中R1至R18分别表示氢原子、卤素原子、可能具有氧原子或卤素原子的碳氢基团或取代或未取代的烷氧基团，在所述脂环型双环氧化合物中，3,4,3′,4′-二环氧基双环己基化合物的异构体含量低于20％，以气相色谱法测定的峰面积比为基础。

  公开号：

  US07989523B2
• 作为产物：
  描述：

  4,4'-二羟基联苯 在 10% Ru/C 、 氢气 作用下， 以 异丙醇 为溶剂， 120.0 ℃ 、1.01 MPa 条件下， 反应 12.0h， 以97%的产率得到4,4'-二羟基二环己烷
  参考文献：
  名称：

  温和条件下多相催化剂高效实用的芳烃加氢

  摘要：

  已经开发了基于使用异质铂族催化剂的有效和实用的芳烃加氢方法。Rh / C是最有效的芳环加氢催化剂，可以在中性条件下，在常压至中等H 2压力（<10 atm）下在i PrOH中进行。将各种芳烃（如烷基苯，苯甲酸，吡啶，呋喃）以良好或极好的收率氢化成相应的环己基和杂环化合物。Ru / C的使用比Rh / C便宜，它为氢化包括苯酚在内的芳烃提供了一种有效而实用的方法。在简单过滤后，两种催化剂都可以重复使用数次，而催化活性没有任何重大损失。

  DOI：

  10.1002/chem.200900361
• 作为试剂：
  描述：

  4,4'-二羟基联苯 、 disodium;carbonate 、 氢气 在 钯 异丙醇 、 4,4'-二羟基二环己烷 、 四氢呋喃 作用下， 以 异丙醇 、 四氢呋喃 为溶剂， 反应 30.0h， 以to obtain dicyclohexyl-4,4'-diol的产率得到4,4'-二羟基二环己烷
  参考文献：
  名称：

  Fluorine-substituted cyclohexylcyclohexene derivative

  摘要：

  公式（I）所代表的化合物：##STR1## 其中R代表碳数为1至9的直链烷基；##STR2## 代表##STR3## 代表氢原子或氟原子；而##STR4##则具有顺式（赤道-赤道）构型。公式（I）化合物在接近室温或高于室温的温度范围内表现出向列相，具有小的光学各向异性和正的介电各向异性，因此在制备具有良好视角特性的液晶显示器时非常有用。

  公开号：

  US04910350A1

文献信息

• Photochemical Transformations with Iodine Azide after Release from an Ion‐Exchange Resin
  作者：Teresa Kösel、Göran Schulz、Gerald Dräger、Andreas Kirschning

  DOI：10.1002/anie.202003079

  日期：2020.7.20

  This report discloses the photochemical homolytic cleavage of iodine azide after its formation following release from polymer‐bound bisazido iodate(I) anions. A series of radical reactions are reported including the 1,2‐functionlization of alkenes and the unprecedented chemoselective oxidation of secondary alcohols in the presence of primary alcohols.

  该报告公开了叠氮化碘从聚合物结合的双碘叠氮碘酸盐（I）阴离子释放后形成后的光化学均裂。据报道发生了一系列自由基反应，包括烯烃的1,2-官能化以及在伯醇存在下仲醇前所未有的化学选择性氧化。
• Efficient and Practical Arene Hydrogenation by Heterogeneous Catalysts under Mild Conditions
  作者：Tomohiro Maegawa、Akira Akashi、Kiichiro Yaguchi、Yohei Iwasaki、Masahiro Shigetsura、Yasunari Monguchi、Hironao Sajiki

  DOI：10.1002/chem.200900361

  日期：2009.7.13

  An efficient and practical arene hydrogenation procedure based on the use of heterogeneous platinum group catalysts has been developed. Rh/C is the most effective catalyst for the hydrogenation of the aromatic ring, which can be conducted in iPrOH under neutral conditions and at ordinary to medium H2 pressures (<10 atm). A variety of arenes such as alkylbenzenes, benzoic acids, pyridines, furans, are

  已经开发了基于使用异质铂族催化剂的有效和实用的芳烃加氢方法。Rh / C是最有效的芳环加氢催化剂，可以在中性条件下，在常压至中等H 2压力（<10 atm）下在i PrOH中进行。将各种芳烃（如烷基苯，苯甲酸，吡啶，呋喃）以良好或极好的收率氢化成相应的环己基和杂环化合物。Ru / C的使用比Rh / C便宜，它为氢化包括苯酚在内的芳烃提供了一种有效而实用的方法。在简单过滤后，两种催化剂都可以重复使用数次，而催化活性没有任何重大损失。
• The synthesis of new liquid–crystalline mesogens containing bicyclohexane units
  作者：R. Cassano、R. Dąbrowski、J. Dziaduszek、N. Picci、G. Chidichimo、G. De Filpo、R. Muzzalupo、F. Puoci

  DOI：10.1016/j.tetlet.2006.12.094

  日期：2007.2

  The synthesis and mesomorphism characterization of new thermotropic derivatives of cis,trans and trans,trans-4,4′-bicyclohexyl-bis[4-(6-hydroxyhexan-1-oxy)benzoate] are described. This last intermediate produces a liquid crystalline diacrylate, with lower refractive indices than the well-known aromatic analogues, that allows to obtain polymeric network via UV photopolymerization. The acrylate is very

  描述了顺式，反式和反式，反式-4,4'-双环己基-双[4-（6-羟基己-1-氧基）苯甲酸酯]新的热致衍生物的合成和同构特征。该最后的中间体产生具有比众所周知的芳族类似物更低的折射率的液晶二丙烯酸酯，其允许通过UV光聚合获得聚合物网络。丙烯酸酯对于优化聚合物分散液晶（PDLC）的对比度非常有用。而且，前面提到的中间体与链烷酸或全氟链烷酸的酰化作用产生了低分子液晶，该液晶显示出宽的中间相温度范围。
• 塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
  申请人：住友化学株式会社

  公开号：JP2020109081A

  公开（公告）日：2020-07-16

  【課題】ラインエッジラフネス（ＬＥＲ）が良好なレジストパターンを製造することができる塩、酸発生剤、該酸発生剤を含むレジスト組成物を提供することを目的とする。【解決手段】式（Ｉ）で表される塩、酸発生剤、該酸発生剤を含むレジスト組成物。［式中、Ｑ1、Ｑ2、Ｑ11及びＱ12はそれぞれ、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基；Ｒ1、Ｒ2、Ｒ11及びＲ12はそれぞれ、水素原子、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基；ｚ及びｚ１はそれぞれ０〜６の整数；Ｘ1及びＸ11はそれぞれ、＊−ＣＯ−Ｏ−、＊−Ｏ−ＣＯ−等；Ｌ1、Ｌ２及びＬ11はそれぞれ単結合又は２価の飽和炭化水素基；Ａ1及びＡ11はそれぞれ置換基を有してもよい２価の環状炭化水素基；Ｚ＋及びＺ11＋はそれぞれ有機カチオンを表す。］【選択図】なし

  这段文字是关于一种包含盐、酸发生剂和含有该酸发生剂的光刻胶组合物，旨在制造具有良好线边粗糙度（LER）的光刻图案。
• Resist lower-layer composition containing thermal acid generator, resist lower layer film-formed substrate, and patterning process
  申请人：Ohsawa Youichi

  公开号：US20100119970A1

  公开（公告）日：2010-05-13

  There is disclosed a resist lower-layer composition configured to be used by a multi-layer resist method used in lithography to form a layer lower than a photoresist layer acting as a resist upper layer film, wherein the resist lower-layer composition becomes insoluble or poorly-soluble in an alkaline developer after formation of the lower layer, and wherein the resist lower-layer composition comprises, at least, a thermal acid generator for generating an acid represented by the general formula (1) by heating at a temperature of 100° C. or higher. RCOO—CH 2 CF 2 SO 3 − H + (1) There can be provided a resist lower-layer composition in a multi-layer resist method (particularly, a two-layer resist method and a three-layer resist method), which composition is used to form a layer lower than a photoresist layer acting as a resist upper layer film, which composition becomes insoluble or poorly-soluble in an alkaline developer after formation of the lower layer, and which composition is capable of forming a resist lower layer film, intermediate-layered film, and the like having a higher anti-poisoning effect and exhibiting a lower load to the environment.

  揭示了一种抗性下层组合物，配置为在光刻中使用的多层抗性方法中使用，用于形成低于作为抗性上层膜的光刻胶层的一层，其中抗性下层组合物在形成下层后变得不溶解或难溶解于碱性显影剂中，且抗性下层组合物至少包括用于通过在100°C或更高温度下加热生成由通式（1）表示的酸的热酸发生剂。 可以提供一种抗性下层组合物，用于多层抗性方法（特别是双层抗性方法和三层抗性方法），该组合物用于形成低于作为抗性上层膜的光刻胶层的一层，该组合物在形成下层后变得不溶解或难溶解于碱性显影剂中，并且该组合物能够形成具有更高抗毒性效果并表现出对环境负荷较低的抗性下层膜、中间层膜等。

表征谱图