2-(三溴甲基)喹啉 | 613-53-6

• 物质功能分类: 医药中间体 - 杂环化合物 - 喹啉类化合物
• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 喹啉及其衍生物
• 中文名称: 2-(三溴甲基)喹啉
• 中文别名: 2-三溴甲基喹啉；Α,Α,Α-三溴喹哪啶；α,α,α-三溴喹哪啶
• 英文名称: 2-tribromomethyl-quinoline
• 英文别名: 2-Tribrommethyl-chinolin；Quinoline, 2-(tribromomethyl)-；2-(tribromomethyl)quinoline
• CAS: 613-53-6
• 化学式: C₁₀H₆Br₃N
• 分子量: 379.876
• InChiKey: UDYYQHILRSDDMP-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  127-131 °C
• 沸点：
  365.6±37.0 °C(Predicted)
• 密度：
  2.4706 (rough estimate)
• 稳定性/保质期：
  性质与稳定性：在常温常压下，该物质不会分解。

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.4
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.1
• 拓扑面积：
  12.9
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

安全信息

• TSCA：
  Yes
• 危险品标志：
  Xi
• 安全说明：
  S24/25,S26,S37/39
• 危险类别码：
  R36/37/38
• RTECS号：
  VC3250750
• 海关编码：
  2933499090

SDS

2-三溴甲基喹啉 修改号码：6

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模块 1. 化学品
产品名称： 2-Tribromomethylquinoline
修改号码： 6

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模块 2. 危险性概述
GHS分类
物理性危害 未分类
健康危害
皮肤腐蚀/刺激 第2级
严重损伤/刺激眼睛 2A类
环境危害 未分类
GHS标签元素
图标或危害标志
信号词 警告
危险描述 造成皮肤刺激
造成严重眼刺激
防范说明
[预防] 处理后要彻底清洗双手。
穿戴防护手套/护目镜/防护面具。
[急救措施] 眼睛接触：用水小心清洗几分钟。如果方便，易操作，摘除隐形眼镜。继续冲洗。
眼睛接触：求医/就诊
皮肤接触：用大量肥皂和水轻轻洗。
若皮肤刺激：求医/就诊。
脱掉被污染的衣物，清洗后方可重新使用。

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模块 3. 成分/组成信息
单一物质/混和物 单一物质
化学名(中文名)： 2-三溴甲基喹啉
百分比： >98.0%(HPLC)(T)
CAS编码： 613-53-6
俗名： α,α,α-Tribromoquinaldine
2-三溴甲基喹啉 修改号码：6

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模块 3. 成分/组成信息
分子式： C10H6Br3N

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模块 4. 急救措施
吸入： 将受害者移到新鲜空气处，保持呼吸通畅，休息。若感不适请求医/就诊。
皮肤接触： 立即去除/脱掉所有被污染的衣物。用大量肥皂和水轻轻洗。
若皮肤刺激或发生皮疹：求医/就诊。
眼睛接触： 用水小心清洗几分钟。如果方便，易操作，摘除隐形眼镜。继续清洗。
如果眼睛刺激：求医/就诊。
食入： 若感不适，求医/就诊。漱口。
紧急救助者的防护： 救援者需要穿戴个人防护用品，比如橡胶手套和气密性护目镜。

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模块 5. 消防措施
合适的灭火剂： 干粉，泡沫，雾状水，二氧化碳
特殊危险性： 小心，燃烧或高温下可能分解产生毒烟。
特定方法： 从上风处灭火，根据周围环境选择合适的灭火方法。
非相关人员应该撤离至安全地方。
周围一旦着火：如果安全，移去可移动容器。
消防员的特殊防护用具： 灭火时，一定要穿戴个人防护用品。

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模块 6. 泄漏应急处理
个人防护措施，防护用具， 使用个人防护用品。远离溢出物/泄露处并处在上风处。
紧急措施： 泄露区应该用安全带等圈起来，控制非相关人员进入。
环保措施： 防止进入下水道。
控制和清洗的方法和材料： 清扫收集粉尘，封入密闭容器。注意切勿分散。附着物或收集物应该立即根据合适的
法律法规处置。

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模块 7. 操作处置与储存
处理
技术措施： 在通风良好处进行处理。穿戴合适的防护用具。防止粉尘扩散。处理后彻底清洗双手
和脸。
注意事项： 如果粉尘或浮质产生，使用局部排气。
操作处置注意事项： 避免接触皮肤、眼睛和衣物。
贮存
储存条件： 保持容器密闭。存放于凉爽、阴暗处。
远离不相容的材料比如氧化剂存放。
光敏
包装材料： 依据法律。

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模块 8. 接触控制和个体防护
工程控制： 尽可能安装封闭体系或局部排风系统，操作人员切勿直接接触。同时安装淋浴器和洗
眼器。
个人防护用品
呼吸系统防护： 防尘面具。依据当地和政府法规。
手部防护： 防护手套。
眼睛防护： 安全防护镜。如果情况需要，佩戴面具。
皮肤和身体防护： 防护服。如果情况需要，穿戴防护靴。

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模块 9. 理化特性
外形（20°C）： 固体
2-三溴甲基喹啉 修改号码：6

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模块 9. 理化特性
外观： 晶体-粉末
颜色： 白色-灰红黄色
气味： 无资料
pH: 无数据资料
熔点： 129°C
沸点/沸程 无资料
闪点： 无资料
爆炸特性
爆炸下限： 无资料
爆炸上限： 无资料
密度： 无资料
溶解度：
[水] 无资料
[其他溶剂] 无资料

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模块 10. 稳定性和反应性
化学稳定性： 一般情况下稳定。
危险反应的可能性： 未报道特殊反应性。
须避免接触的物质 氧化剂
危险的分解产物: 一氧化碳, 二氧化碳, 氮氧化物 (NOx), 溴化氢

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模块 11. 毒理学信息
急性毒性： orl-rat LD50:6769 mg/kg
对皮肤腐蚀或刺激： 无资料
对眼睛严重损害或刺激： 无资料
生殖细胞变异原性： 无资料
致癌性：
IARC = 无资料
NTP = 无资料
生殖毒性： 无资料
RTECS 号码: VC3250750

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模块 12. 生态学信息
生态毒性：
鱼类： 无资料
甲壳类： 无资料
藻类： 无资料
残留性 / 降解性： 无资料
潜在生物累积 （BCF): 无资料
土壤中移动性
log水分配系数： 无资料
土壤吸收系数 （Koc）： 无资料
亨利定律 无资料
constant(PaM3/mol):

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模块 13. 废弃处置
如果可能，回收处理。请咨询当地管理部门。建议在可燃溶剂中溶解混合，在装有后燃和洗涤装置的化学焚烧炉中
焚烧。废弃处置时请遵守国家、地区和当地的所有法规。
2-三溴甲基喹啉 修改号码：6

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模块 14. 运输信息
联合国分类： 与联合国分类标准不一致
UN编号： 未列明

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模块 15. 法规信息
《危险化学品安全管理条例》（2002年1月26日国务院发布，2011年2月16日修订）: 针对危险化学品的安全使用、
生产、储存、运输、装卸等方面均作了相应的规定。

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模块16 - 其他信息
N/A

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-(三溴甲基)喹啉 在 盐酸 、 titanium(III) chloride 、 乙醇 、 丙酮 作用下， 生成 2-(喹啉-2-基)乙酸甲酯
  参考文献：
  名称：

  Borsche; Manteuffel, Justus Liebigs Annalen der Chemie, 1936, vol. 526, p. 22,33

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  2-benzoylmethylquinoline 在 溴 、 sodium acetate 、 溶剂黄146 作用下， 生成 2-(三溴甲基)喹啉
  参考文献：
  名称：

  Claisen Type Condensations with Quinaldine and Related Ammono Ketone Ethers

  摘要：

  DOI：

  10.1021/ja01287a029

文献信息

• Strahlungsempfindliches Gemisch und Verfahren zur Herstellung von Reliefbildern
  申请人：HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT

  公开号：EP0006627A2

  公开（公告）日：1980-01-09

  Es wird ein strahlungsempfindliches Gemisch beschrieben. das (a) eine unter Einwirkung von aktinischer Strahlung. insbesondere UV-Licht, Säure bildende Verbindung und (b) eine Verbindung enthält, die mindestens eine Enoläthergruppe entnält, und deren Löslichkeit in einem flüßigen Entwickler durch Einwirkung von Säure erhöht wird. Der Enoläther ist bevorzugt eine Verbindung der ailgemeinen Formel I in der R, einen n-wertigen aliphatischen Rest mit wenigstens 2 Kohlenstoffatomen bedeutet. R2, R3 und R4 gleich oder verschieden sind und Wasserstoffatome. Alkyl- oder Arylreste bedeuten oder jeweils zu zweit zu einem gesättigten oder olefinisch ungesättigten Ring verbunden sind, und eine ganze Zahl von 1 bis 4 ist. Das Gemisch wird in Form einer strahlungsempfindlichen Schicht bildmäßig bestrahlt und an den bestrahlten Stellen mit einem Entwickler ausgewaschen, so daß ein positives Reliefbild entsteht

  本文描述了一种辐射敏感混合物，它含有 (a) 在光辐射，特别是紫外线作用下会形成酸的化合物，以及 (b) 至少含有一个烯醇醚基团的化合物，在酸的作用下，该化合物在液体显影剂中的溶解度会增加。烯醇醚最好是通式 I 的化合物 其中 R 是至少有 2 个碳原子的正价脂族基。 R2、R3 和 R4 相同或不同，均为氢原子。是烷基或芳基，或各自成对连接形成饱和环或烯烃不饱和环，以及 是 1 至 4 的整数。 混合物以辐射敏感层的形式进行图像辐照，并用显影剂冲洗辐照区域，从而形成正浮雕图像。
• A method of forming an image, and an imaging element for inhibiting image formation with cobalt (III) complexes
  申请人：EASTMAN KODAK COMPANY (a New Jersey corporation)

  公开号：EP0003263A1

  公开（公告）日：1979-08-08

  An imaging element contains an energy-activatable image precursor composition comprising a cobalt III complex having releasable ligands which react with an image forming material to form a visible image. The element also contains a photoinhibitor which, on activating exposure, inhibits the release of ligands from the cobalt III complex or inhibits their image forming action. Images may be formed by imagewise activating the photoinhibitor, preferably with radiation longer than 300 nm, and thereafter activating the image precursor composition, for instance by heating. Images of a different sense may be formed by varying the exposure and activation treatments of the element.

  一种成像元件包含一种能量可激活的成像前体组合物，该组合物由钴 III 复合物组成，该钴 III 复合物具有可释放的配体，这些配体与成像材料反应形成可见图像。 该元件还包含一种光抑制剂，该光抑制剂在激活曝光时可抑制配体从钴 III 复合物中释放或抑制其成像作用。 可以通过成像激活光抑制剂（最好使用长于 300 纳米的辐射），然后激活成像前体组合物（例如通过加热）来形成图像。 可以通过改变元件的曝光和激活处理来形成不同意义的图像。
• A method of making indolizinone-dyes, novel indolizinone-dyes obtained according to the process, method of producing images with oxoindolizinone-dyes and radiation sensitive element to produce the images
  申请人：EASTMAN KODAK COMPANY (a New Jersey corporation)

  公开号：EP0068879A1

  公开（公告）日：1983-01-05

  Indolizinone dyes and compositions are obtained by reacting cyclopropenones with di- or tri-halogenated compounds in the presence of pyridine. A layer containing the cyclopropenone and halogenated compound can be imagewise exposed to radiation which decomposes the cyclopropenone and the residual cyclopropenone reacted with the halogenated compound and pyridine to yield a positive dye image.

  吲哚嗪酮染料和组合物是通过环丙烯酮与二卤化或三卤化化合物在吡啶存在下发生反应而得到的。含有环丙烯酮和卤代化合物的层可以图像方式暴露在辐射中，辐射会分解环丙烯酮，残留的环丙烯酮与卤代化合物和吡啶反应，产生正染料图像。
• Fluormethylchinolin-Derivate und ihre Herstellung
  申请人：ALKALOIDA VEGYESZETI GYAR

  公开号：EP0111329A1

  公开（公告）日：1984-06-20

  Die Erfindung betrifft Chinolinderivate der allgemeinen Formel I worin bedeuten: R1 -CF3, -CF2Cl, -CCI3, -CF2Br, -CFBr2 oder -CBr3, R2 Wasserstoff oder Halogen, C1- bis C4-Alkyl oder R1 mit der Maßgabe, daß R1 und R2 nicht gleichzeitig -CCI3 oder -CBr3 sind, R3 Wasserstoff, Halogen oder C1- bis C4-Alkyl, R4 Wasserstoff oder Halogen und X Halogen. sowie Verfahren zu ihrer Herstellung. Die Verbindungen werden durch Fluorieren von Chinolinderivaten erhalten, wobei als Fluorierungsmittel vorzugsweise Antimonfluoride oder Fluorwasserstoff in Gegenwart eines Katalysators verwendet werden. Die erfindungsgemäßen Verbindungen der Formel I eignen sich als Zwischenprodukte bei der Herstellung pharmazeutisch wirksamer fluorhaltiger Chinolinderivate.

  本发明涉及通式 I 的喹啉衍生物 其中 R1 是-CF3、-CF2Cl、-CCI3、-CF2Br、-CFBr2 或-CBr3、 R2 是氢或卤素、C1-至 C4-烷基或 R1，但 R1 和 R2 不能同时是-CCI3 或-CBr3、 R3 是氢、卤素或 C1 至 C4-烷基、 R4 是氢或卤素，以及 X 卤素。 及其制备工艺。 本发明化合物是通过氟化喹啉衍生物得到的，最好在催化剂存在下使用氟化锑或氟化氢作为氟化剂。 根据本发明的式 I 化合物适用于作为制备具有医药活性的含氟喹啉衍生物的中间体。
• Strahlungsempfindliches Gemisch, daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial und Verfahren zur Herstellung von wärmebeständigen Reliefaufzeichnungen
  申请人：HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT

  公开号：EP0184044A2

  公开（公告）日：1986-06-11

  Strahlungsempfindliches Gemisch, daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial und Verfahren zur Herstellung von wärmebeständigen Reliefaufzeichnungen Es wird ein strahlungsempfindliches Gemisch und ein daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial für die Herstellung von Druckplatten und Photoresists beschrieben, das ein 1, 2-Chinondiazid oder eine Kombination aus 1.) einer unter Einwirkung von atkinischer Strahlung eine starke Säure bildenden Verbindung und 2.) einer Verbindung mit mindestens einer spaltbaren C-O-C-Bindung enthält, deren Löslichkeit in einem flüssigen Entwickler durch Einwirkung von Säure erhöht wird, und als Bindemittel ein Polymeres mit seitenständigen vernetzenden Gruppen der Formel -CH20R enthält, worin R ein Wasserstoffatom, eine niedere Alkyl-, Acyl- oder Hydroxyalkylgruppe ist. Das Gemisch läßt sich nach dem Belichten und Entwickeln thermisch härten und ergibt eine Bildschablone mit sauberem Hintergrund.

  辐射敏感混合物、用其制备的记录材料和生产耐热浮雕记录的工艺 本文描述了一种辐射敏感混合物及其制备的记录材料，用于生产印版和光刻胶，该混合物包括 1, 2-重氮醌或其组合 1.) 在阿特金酸辐射下会形成强酸的化合物，以及 2.) 具有至少一个可裂解 C-O-C 键的化合物，其在液体显影剂中的溶解度在酸的作用下会增加、 并含有一种聚合物作为粘合剂，该聚合物具有-CH20R 式的悬垂交联基团，其中 R 为氢原子、低级烷基、酰基或羟烷基。该混合物在曝光和显影后可进行热固化，并生成具有干净背景的图像模板。

表征谱图