3-乙氧基-1,1,5-三甲基环己烷 | 67583-77-1

• 物质功能分类: 有机原料 - 醚类化合物及其衍生物
• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 中文名称: 3-乙氧基-1,1,5-三甲基环己烷
• 英文名称: 3-ethoxy-1,1,5-trimethylcyclohexane
• 英文别名: 3,3,5-trimethylcyclohexyl ethyl ether
• CAS: 67583-77-1
• 化学式: C₁₁H₂₂O
• mdl: MFCD08273063
• 分子量: 170.295
• InChiKey: JVBNHJDWWBSWLE-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  187.8±8.0 °C(Predicted)
• 密度：
  0.85±0.1 g/cm3(Predicted)
• LogP：
  3.91 at 20℃

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.5
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  9.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  3,3,5-三甲基环己酮 、 原甲酸三乙酯 在 5%-palladium/activated carbon 、 氢气 、 对甲苯磺酸 作用下， 以 乙醇 为溶剂， 130.0 ℃ 、3.0 MPa 条件下， 反应 7.0h， 以88.6%的产率得到3-乙氧基-1,1,5-三甲基环己烷
  参考文献：
  名称：

  EP2813482

  摘要：

  公开号：

文献信息

• ONIUM SALT, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20200223796A1

  公开（公告）日：2020-07-16

  A novel onium salt of formula (1) and a chemically amplified resist composition comprising the same as a PAG are provided. When processed by photolithography using KrF or ArF excimer laser, EB or EUV, the resist composition has a high sensitivity and reduced acid diffusion and is improved in exposure latitude, MEF, and LWR.

  提供了一种化学增感剂组合物，其中包括式（1）的新型离子盐作为PAG。当使用KrF或ArF准分子激光、EB或EUV进行光刻工艺处理时，该抗蚀组合物具有高灵敏度、减少酸扩散，并在曝光宽度、MEF和LWR方面得到改善。
• HEMIACETAL COMPOUND, POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20160238930A1

  公开（公告）日：2016-08-18

  A polymer for resist use is obtainable from a hemiacetal compound having formula (1 a ) wherein R 1 is H, CH 3 or CF 3 , R 2 to R 4 each are H or a monovalent hydrocarbon group, X 1 is a divalent hydrocarbon group, ZZ designates a non-aromatic mono- or polycyclic ring of 4 to 20 carbon atoms having a hemiacetal structure, k 1 =0 or 1, and k 2 =0 to 3. A resist composition comprising the polymer displays controlled acid diffusion and low roughness during both positive and negative tone developments.

  从具有以下式（1a）的半缩醛化合物获得用于抗蚀的聚合物，其中R1为H、CH3或CF3，R2至R4分别为H或单价碳氢基团，X1为二价碳氢基团，ZZ表示具有半缩醛结构的非芳香性4至20个碳原子的单环或多环环，k1=0或1，k2=0至3。包含该聚合物的抗蚀组合物显示出在正片和负片显影过程中控制酸扩散和低粗糙度。
• MONOMER, POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20150323865A1

  公开（公告）日：2015-11-12

  A polymer for resist use is obtainable from a monomer having formula (1) wherein R 1 is H, CH 3 or CF 3 , R 2 and R 3 each are H or a monovalent hydrocarbon group, X 1 is a divalent hydrocarbon group, k 1 =0 or 1, and Z forms a 5 or 6-membered alicyclic ring. A resist composition comprising the polymer is shelf stable and displays a high dissolution contrast, controlled acid diffusion and low roughness during both alkaline development and organic solvent development.

  可以从具有式（1）的单体获得用于抗蚀的聚合物，其中R1为H、CH3或CF3，R2和R3各自为H或一价碳氢基团，X1为二价碳氢基团，k1=0或1，Z形成5或6元脂环。包含该聚合物的抗蚀组合物具有货架稳定性，显示高溶解对比度，控制酸扩散和低粗糙度，在碱性显影和有机溶剂显影过程中表现出色。
• CYCLOPROPANE COMPOUND
  申请人：Kao Corporation

  公开号：US20190055179A1

  公开（公告）日：2019-02-21

  Provided are a compound and a fragrance composition that are excellent in harmony with various other fragrance materials and can be blended to impart a natural and fresh floral feeling. The present invention provides a cyclopropane compound represented by Formula (I) and a fragrance composition containing a cyclopropane compound represented by Formula (I): where R 1 is a methyl group and R 2 is a methyl group, or R 1 is a hydrogen atom and R 2 is an ethyl group.

  提供了一种化合物和香料组合物，与各种其他香料材料协调良好，可以混合使用，赋予自然和清新的花香感。本发明提供了一种由式（I）表示的环丙烷化合物和含有由式（I）表示的环丙烷化合物的香料组合物：其中R1为甲基基团，R2为甲基基团，或者R1为氢原子，R2为乙基基团。
• NOVEL ONIUM SALT COMPOUND, RESIST COMPOSITION, AND PATTERN FORMING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20160131972A1

  公开（公告）日：2016-05-12

  Sulfonium and iodonium salts of a carboxylate having an aromatic ring to which a nitrogen-containing alkyl or cyclic structure is attached are novel. The onium salt functions as an acid diffusion controlling agent in a resist composition, enabling to form a pattern of good profile with high resolution, improved MEF, LWR and DOF.

  一种具有芳香环的羧酸酯的砜和碘化物盐，其中连接有含氮烷基或环状结构，是一种新颖的化合物。该砜盐在抗蚀组合物中作为酸扩散控制剂，有助于形成具有高分辨率、改善MEF、LWR和DOF的良好轮廓图案。