阿考替胺杂质39 | 27867-46-5

• 物质功能分类: 有机原料 - 氨基化合物
• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 中文名称: 阿考替胺杂质39
• 英文名称: 4,5-dihydroxy-2-methoxybenzoic acid
• 英文别名: 2-Methoxy-4.5-dihydroxybenzoesaeure
• CAS: 27867-46-5
• 化学式: C₈H₈O₅
• 分子量: 184.149
• InChiKey: QFQQFHLOFSFILV-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  193-194 °C
• 沸点：
  452.9±45.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.499±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.7
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.12
• 拓扑面积：
  87
• 氢给体数：
  3
• 氢受体数：
  5

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  氘代甲醇 、 阿考替胺杂质39 在 1,1-二苯基-2-苦味酰肼 作用下， 以 丙酮 为溶剂， 反应 0.17h， 生成 6-methoxy-3,4-dioxocyclohexa-1,5-diene-1-carboxylic acid 、 3-hydroxy-3,6-dimethoxy-4-oxocyclohexa-1,5-diene-1-carboxylic acid
  参考文献：
  名称：

  原儿茶酸（= 3,4-二羟基苯甲酸）的DPPH（= 2,2-二苯基-1-吡啶并肼基）自由基清除反应：酸与它们的酯之间的反应性差异

  摘要：

  与其在醇类溶剂中的酯相比，原儿茶酸（= 3,4-二羟基苯甲酸；1）显示出显着缓慢的DPPH（= 2,2-二苯基-1-吡啶基肼基）自由基清除反应。本研究旨在阐明原儿茶酸及其酯在醇中的自由基清除机理之间的差异。原儿茶酸（1）及其甲酯2均迅速清除了2当量。自由基分别被转化为相应的邻醌结构1a和2a（方案）。然后，儿茶酚的再生（=苯-1,2-二醇）的结构发生经由将甲醇分子亲核加成到邻醌上，分别得到醇加合物1f和2c，它们可以清除另外的2当量。激进的。但是，原儿茶酸（1）的反应超出了邻醌的形成要比其甲酯2的反应慢得多。结果表明，与1的酯相比，1的自由基清除反应更慢是由于吸电子的羧酸官能团与给电子的羧酸根离子的离解，从而降低了邻苯二甲酸酯的亲电子性。-醌，导致酒精分子对亲核攻击的敏感性降低。

  DOI：

  10.1002/hlca.200690139
• 作为产物：
  描述：

  2,4,5-三甲氧基苯甲酸 在 palladium on activated charcoal 水 、 氢气 、 三溴化硼 、 potassium carbonate 作用下， 以 甲醇 、 二氯甲烷 、 丙酮 为溶剂， -80.0~20.0 ℃ 、101.33 kPa 条件下， 反应 25.0h， 生成 阿考替胺杂质39
  参考文献：
  名称：

  原儿茶酸（= 3,4-二羟基苯甲酸）的DPPH（= 2,2-二苯基-1-吡啶并肼基）自由基清除反应：酸与它们的酯之间的反应性差异

  摘要：

  与其在醇类溶剂中的酯相比，原儿茶酸（= 3,4-二羟基苯甲酸；1）显示出显着缓慢的DPPH（= 2,2-二苯基-1-吡啶基肼基）自由基清除反应。本研究旨在阐明原儿茶酸及其酯在醇中的自由基清除机理之间的差异。原儿茶酸（1）及其甲酯2均迅速清除了2当量。自由基分别被转化为相应的邻醌结构1a和2a（方案）。然后，儿茶酚的再生（=苯-1,2-二醇）的结构发生经由将甲醇分子亲核加成到邻醌上，分别得到醇加合物1f和2c，它们可以清除另外的2当量。激进的。但是，原儿茶酸（1）的反应超出了邻醌的形成要比其甲酯2的反应慢得多。结果表明，与1的酯相比，1的自由基清除反应更慢是由于吸电子的羧酸官能团与给电子的羧酸根离子的离解，从而降低了邻苯二甲酸酯的亲电子性。-醌，导致酒精分子对亲核攻击的敏感性降低。

  DOI：

  10.1002/hlca.200690139

文献信息

• CHARGE CONTROL RESIN AND MANUFACTURING METHOD OF THE SAME
  申请人：YASUMATSU Masashi

  公开号：US20150025213A1

  公开（公告）日：2015-01-22

  Here is provided a charge control resin which is prompt in charge rising up, excellent in electrostatic charging propensity and easy in manufacturing. This charge control resin contains a polymer as an active ingredient having a constituent unit represented by following Formula (1) in the Formula (1), R 1 is independent of one another, and is a hydrogen atom, a hydroxyl group, a halogen atom, a carboxy-containing group, a straight-chained or branched alkyl group having 1-18 carbon atoms, or a straight-chained or branched alkoxy group having 1-18 carbon atoms; R 2 is a hydrogen atom, a hydroxyl group, a halogen atom, a carboxy-containing group, a straight-chained or branched alkyl group having 1-18 carbon atoms, or a straight-chained or branched alkoxy group having 1-18 carbon atoms; g is a number of 1-3; h is a number of 1-3; and M is a hydrogen atom, an alkali metal, a straight-chained or branched alkyl group having 1-18 carbon atoms, an ammonium radical or a mixture of any of these.

  这里提供了一种电荷控制树脂，它在电荷上升方面快速，具有优异的静电充电倾向并且易于制造。该电荷控制树脂包含一种聚合物作为活性成分，该聚合物具有由以下公式（1）表示的组成单元。在公式（1）中，R1互不相同，可以是氢原子、羟基、卤素原子、含羧基的基团、直链或支链烷基（碳数为1-18）或直链或支链烷氧基（碳数为1-18）；R2可以是氢原子、羟基、卤素原子、含羧基的基团、直链或支链烷基（碳数为1-18）或直链或支链烷氧基（碳数为1-18）；g为1-3的数字；h为1-3的数字；M可以是氢原子、碱金属、直链或支链烷基（碳数为1-18）、铵基或任何这些的混合物。
• METHOD FOR PRODUCING 2-BROMO-4,5-DIALKOXY BENZOIC ACID
  申请人：Zeria Pharmaceutical Co., Ltd.

  公开号：EP2650277B1

  公开（公告）日：2018-07-11
• RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME
  申请人：NISSAN CHEMICAL CORPORATION

  公开号：US20210397090A1

  公开（公告）日：2021-12-23

  A composition for forming a resist underlayer film enables the formation of a desired resist pattern; and a method for forming a resist pattern using this resist underlayer film forming composition. A resist underlayer film forming composition contains an organic solvent and a polymer that has a structure represented by formula (1) or (2) at an end of the polymer chain. (In formula (1) and formula (2), X represents a divalent organic group; A represents an aryl group having 6-40 carbon atoms; R1 represents a halogen atom, an alkyl group having 1-40 carbon atoms or an alkoxy group having 1-40 carbon atoms; each of R2 and R3 independently represents a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1-10 carbon atoms, an aryl group having 6-40 carbon atoms or a halogen atom; each of n1 and n3 independently represents an integer of 1-12; and n2 represents an integer of 0-11.)
• US8883946B2
  申请人：——

  公开号：US8883946B2

  公开（公告）日：2014-11-11
• US9079989B2
  申请人：——

  公开号：US9079989B2

  公开（公告）日：2015-07-14