(1-吡咯)乙腈 | 29134-29-0

• 物质功能分类: 有机原料 - 杂环化合物
• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 吡咯烷类
• 中文名称: (1-吡咯)乙腈
• 中文别名: 1-吡咯烷乙腈；(1-吡咯烷)乙腈；(1-吡咯)乙腈,97%
• 英文名称: N-cyanomethyl pyrrolidine
• 英文别名: pyrrolidinoacetonitrile；1-pyrrolidineacetonitrile；2-(pyrrolidin-1-yl)acetonitrile；2-pyrrolidin-1-ylacetonitrile
• CAS: 29134-29-0
• 化学式: C₆H₁₀N₂
• mdl: MFCD00014098
• 分子量: 110.159
• InChiKey: NPRYXVXVLCYBNS-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  84-86°C 22mm
• 密度：
  0.994±0.06 g/cm3 (20 ºC 760 Torr)
• 闪点：
  66.2±11.9℃
• 稳定性/保质期：
  如果遵照规格使用和储存，则不会分解，也未有已知危险反应。避免与氧化物接触。

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.5
• 重原子数：
  8
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.833
• 拓扑面积：
  27
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

安全信息

• 危险等级：
  6.1
• 危险品标志：
  Xi
• 安全说明：
  S26,S36/37/39
• 危险类别码：
  R20/21/22,R36/38
• RTECS号：
  UX9678600
• 海关编码：
  2933990090
• 包装等级：
  III
• 危险类别：
  6.1
• 危险品运输编号：
  3276
• 危险性防范说明：
  P261,P280,P305+P351+P338,P311
• 危险性描述：
  H302+H312,H315,H319,H331,H335
• 储存条件：
  请将贮藏器保持密封，并存放在阴凉、干燥处。确保工作环境中具备良好的通风或排气设施。

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  (1-吡咯)乙腈 在 potassium tert-butylate 作用下， 以 四氢呋喃 、 二甲基亚砜 为溶剂， 反应 120.17h， 生成 4-(2-Benzyloxy-3,4-dimethoxy-phenyl)-5-(cyano-pyrrolidin-1-yl-methyl)-3,6-dimethyl-pyridine-2-carboxylic acid methyl ester
  参考文献：
  名称：

  Total synthesis of the antitumor antibiotic streptonigrin

  摘要：

  DOI：

  10.1021/ja00366a028
• 作为产物：
  描述：

  四氢吡咯 以20%的产率得到
  参考文献：
  名称：

  ASADA HIDEKI; NOMURA MASAKATSU; KIKKAWA SHOICHI, BULL. CHEM. SOC. JAP., 1979, 52, NO 5, 1545-1546

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Chlorine dioxide oxidation of amines: synthetic utility and a biomimetic synthesis of elaeocarpidine
  作者：Chien Kuang. Chen、Alfred G. Hortmann、Mohammad R. Marzabadi

  DOI：10.1021/ja00222a052

  日期：1988.7

  Oxydation par ClO 2 d'amino-3 propanols-1 et d'ethanolamines et cyanation oxydante d'amines tertiaires, la fonction amine pouvant etre un heterocycle azote

  氧化 par ClO 2 d'amino-3 propanols-1 et d'ethanolamines et cyanation oxydante d'amines tertiaires, la fonction amine pouvant etre unheterocycle azote
• Nickel-catalyzed cyanation of phenol derivatives activated by 2,4,6-trichloro-1,3,5-triazine
  作者：Liang Wang、Yaoyao Wang、Jun Shen、Qun Chen、Ming-Yang He

  DOI：10.1039/c8ob01034j

  日期：——

  A nickel-catalyzed cyanation of phenol derivatives activated by 2,4,6-trichloro-1,3,5-triazine (TCT) using aminoacetonitrile as the cyanating agent is described. This catalytic system delivered the desired products in moderate to good yields with good substrate compatibility. The readily available starting materials, cost-effective nickel catalyst and metal-free cyanating agent are the major features

  描述了使用氨基乙腈作为氰化剂的被2,4,6-三氯-1,3,5-三嗪（TCT）活化的苯酚衍生物的镍催化氰化反应。该催化体系以中等至良好的产率提供了所需的产物，并具有良好的底物相容性。容易获得的原料，具有成本效益的镍催化剂和不含金属的氰化剂是本方法的主要特征。
• Novel sulfonyldiazomethanes, photoacid generators, resist compositions, and patterning process
  申请人：——

  公开号：US20040167322A1

  公开（公告）日：2004-08-26

  A chemical amplification type resist composition comprising a specific benzenesulfonyldiazomethane containing a long-chain alkoxyl group at the 2-position on benzene ring has many advantages including improved resolution, improved focus latitude, minimized line width variation or shape degradation even on long-term PED, minimized debris left after coating, development and peeling, and improved pattern profile after development and is thus suited for microfabrication.

  一种化学放大型抗蚀组合物，包括在苯环上的2-位含有长链烷氧基基团的特定苯磺酰二氮甲烷，具有许多优点，包括提高分辨率，改善焦点宽度，即使在长期PED上也减少线宽变化或形状退化，涂层、显影和剥离后减少残留物，并在显影后改善图案轮廓，因此适用于微加工。
• [EN] BCL-2 INHIBITOR<br/>[FR] INHIBITEUR DE BCL -2
  申请人：BEIGENE LTD

  公开号：WO2021208963A1

  公开（公告）日：2021-10-21

  Disclosed herein is a compound of Formula (I) for inhibiting both Bcl-2 wild type and mutated Bcl-2, in particular, Bcl-2 G101V and D103Y, and a method of using the compound disclosed herein for treating dysregulated apoptotic diseases.

  本文披露了一种用于抑制Bcl-2野生型和突变型Bcl-2（特别是Bcl-2 G101V和D103Y）的化合物（I）以及使用本文披露的该化合物治疗失调的凋亡性疾病的方法。
• Photoacid generators, chemically amplified resist compositions, and patterning process
  申请人：Ohsawa Youichi

  公开号：US20070292768A1

  公开（公告）日：2007-12-20

  A photoacid generator has formula (1). A chemically amplified resist composition comprising the photoacid generator has advantages including a high resolution, focus latitude, long-term PED dimensional stability, and a satisfactory pattern profile shape. When the photoacid generator is combined with a resin having acid labile groups other than those of the acetal type, resolution and top loss are improved. The composition is suited for deep UV lithography.

  一种光酸发生剂的化学式为（1）。包括该光酸发生剂的化学增感抗蚀组合物具有诸如高分辨率、焦点宽度、长期PED尺寸稳定性和令人满意的图案轮廓形状等优点。当该光酸发生剂与具有除了缩醛类型以外的酸敏感基团的树脂结合时，可以改善分辨率和顶部损失。该组合物适用于深紫外光刻。

表征谱图