2-(vinyloxy)ethyl 1-adamantanecarboxylate | 219774-72-8

• 物质功能分类: 有机原料 - 羧酸类化合物及衍生物 - 羧酸酯及其衍生物
• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: 2-(vinyloxy)ethyl 1-adamantanecarboxylate
• 英文别名: 1-adamantanecarboxylic acid 2-vinyloxyethyl ester；2-Ethenoxyethyl adamantane-1-carboxylate
• CAS: 219774-72-8
• 化学式: C₁₅H₂₂O₃
• 分子量: 250.338
• InChiKey: OXAHMJHYIYFEGJ-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  122.1-123.5 °C(Press: 2 Torr)
• 密度：
  1.123±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.3
• 重原子数：
  18
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.8
• 拓扑面积：
  35.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  甲基丙烯酸 、 2-(vinyloxy)ethyl 1-adamantanecarboxylate 在 对甲苯磺酸 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 5.0h， 以41%的产率得到C₁₉H₂₈O₅
  参考文献：
  名称：

  Reworkable dimethacrylates with low shrinkage and their application to UV nanoimprint lithography

  摘要：

  合成了四种带有半缩醛酯基团的可重工二甲基丙烯酸酯，研究了其紫外光固化和降解特性。利用这些单体进行了紫外光纳米压印光刻（UV-NIL），获得了细线/间隔图案。研究了UV印刷图案在高度缩水方面与单体结构及紫外印刷条件（如光强和光引发剂、链转移试剂浓度）之间的关系。使用从UV印刷图案降解得到的线性聚合物的尺寸排斥色谱法，研究了紫外印刷条件对紫外固化网络的动力链长度的影响。讨论了动力链长度与UV印刷图案缩水之间的关系。

  DOI：

  10.1039/c0jm04386a
• 作为产物：
  描述：

  2-乙烯氧基乙醇 、 金刚烷酰氯 在 吡啶 作用下， 以 4-甲基-2-戊酮 为溶剂， 反应 24.0h， 以67%的产率得到2-(vinyloxy)ethyl 1-adamantanecarboxylate
  参考文献：
  名称：

  Reworkable dimethacrylates with low shrinkage and their application to UV nanoimprint lithography

  摘要：

  合成了四种带有半缩醛酯基团的可重工二甲基丙烯酸酯，研究了其紫外光固化和降解特性。利用这些单体进行了紫外光纳米压印光刻（UV-NIL），获得了细线/间隔图案。研究了UV印刷图案在高度缩水方面与单体结构及紫外印刷条件（如光强和光引发剂、链转移试剂浓度）之间的关系。使用从UV印刷图案降解得到的线性聚合物的尺寸排斥色谱法，研究了紫外印刷条件对紫外固化网络的动力链长度的影响。讨论了动力链长度与UV印刷图案缩水之间的关系。

  DOI：

  10.1039/c0jm04386a

文献信息

• CALIXARENE COMPOUND AND PHOTORESIST COMPOSITION COMPRISING SAME
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials LLC

  公开号：US20130157195A1

  公开（公告）日：2013-06-20

  A molecular glass compound includes (A) a tetrameric reaction product of a specific aromatic compound having at least one hydroxy group, and a specific polycyclic or fused polycyclic aromatic aldehyde; and (B) an acid-removable protecting group as an adduct with the hydroxy group of the aromatic compound and/or a hydroxy group of the polycyclic or fused polycyclic aromatic aldehyde. A photoresist composition including the molecular glass compound, and a coated substrate including a layer of the photoresist composition are also disclosed.

  一种分子玻璃化合物，包括(A)一种特定芳香化合物的四聚反应产物，该芳香化合物至少具有一个羟基，以及一种特定的多环或融合多环芳香醛；和(B)一种酸可移除的保护基，作为与芳香化合物的羟基和/或多环或融合多环芳香醛的羟基的加合物。还公开了一种包括该分子玻璃化合物的光刻胶组合物，以及包括光刻胶组合物层的涂覆基板。
• CALIXARENE AND PHOTORESIST COMPOSITION COMPRISING SAME
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials LLC

  公开号：US20130078569A1

  公开（公告）日：2013-03-28

  A molecular glass compound comprises a vinyl ether adduct of an aromatic vinyl ether of formula C(R 1 ) 2 ═C(R 2 )—O-(L) n -Ar 1 , and a calix[4]arene, wherein R 1 and R 2 are each independently a single bond, H, C 1-20 alkyl, C 1-20 haloalkyl, C 6-20 aryl, C 6-20 haloaryl, C 7-20 aralkyl, or C 7-20 haloaralkyl, L is a C 1-20 linking group, n is 0 or 1, and Ar 1 is a halo-containing monocyclic, or substituted or unsubstituted polycyclic or fused polycyclic C 6-20 aromatic-containing moiety, wherein R 1 and R 2 are connected to Ar 1 when either or both of R 1 and R 2 is a single bond and n is 0. A photoresist, comprising the molecular glass compound, a solvent, and a photoacid generator, a coated substrate, comprising (a) a substrate having one or more layers to be patterned on a surface thereof; and (b) a layer of a photoresist composition over the one or more layers to be patterned, and a method of forming the molecular glass compound, are also disclosed.

  一种分子玻璃化合物包括芳香基乙烯醚的乙烯醚加合物，化学式为C(R1)2═C(R2)—O-(L)n-Ar1，以及一种杯芳烃[4]，其中R1和R2分别独立为单键，H，C1-20烷基，C1-20卤代烷基，C6-20芳基，C6-20卤代芳基，C7-20芳基烷基，或C7-20卤代芳基烷基，L是C1-20连接基，n为0或1，Ar1是含卤素的单环芳基，或取代或未取代的多环或融合多环C6-20芳基结构，当R1和R2中的一个或两个为单键且n为0时，R1和R2与Ar1相连。此外，还公开了包括该分子玻璃化合物、溶剂和光酸发生剂的光阻剂，包括（a）具有一个或多个要在其表面上进行图案化的层的基板；和（b）覆盖在要进行图案化的一个或多个层上的光阻剂组合物层，以及形成该分子玻璃化合物的方法。
• PHOTOSENSITIVE COPOLYMER AND PHOTORESIST COMPOSITION
  申请人：Thackeray James W.

  公开号：US20120129105A1

  公开（公告）日：2012-05-24

  A copolymer has formula: wherein R 1 -R 5 are independently H, C 1-6 alkyl, or C 4-6 aryl, R 6 is a fluorinated or non-fluorinated C 5-30 acid decomposable group; each Ar is a monocyclic, polycyclic, or fused polycyclic C 6-20 aryl group; each R 7 and R 8 is —OR 11 or —C(CF 3 ) 2 OR 11 where each R 11 is H, a fluorinated or non-fluorinated C 5-30 acid decomposable group, or a combination; each R 9 is independently F, a C 1-10 alkyl, C 1-10 fluoroalkyl, C 1-10 alkoxy, or a C 1-10 fluoroalkoxy group; R 10 is a cation-bound C 10-40 photoacid generator-containing group, mole fractions a, b, and d are 0 to 0.80, c is 0.01 to 0.80, e is 0 to 0.50 provided where a, b, and d are 0, e is greater than 0, the sum a+b+c+d+e is 1, l and m are integers of 1 to 4, and n is an integer of 0 to 5. A photoresist and coated substrate, each include the copolymer.

  一种共聚物的化学式为：其中R1-R5独立地为H、C1-6烷基或C4-6芳基，R6为氟化或非氟化的C5-30酸分解基团；每个Ar为单环、多环或融合多环的C6-20芳基基团；每个R7和R8为—OR11或—C(CF3)2OR11，其中每个R11为H、氟化或非氟化的C5-30酸分解基团或其组合；每个R9独立地为F、C1-10烷基、C1-10氟烷基、C1-10烷氧基或C1-10氟烷氧基基团；R10为带正离子的C10-40光酸发生剂含基团，摩尔分数a、b和d为0至0.80，c为0.01至0.80，e为0至0.50，其中若a、b和d为0，则e大于0，a+b+c+d+e之和为1，l和m为1至4的整数，n为0至5的整数。一种光刻胶和涂层基板，均包括该共聚物。
• Photosensitive copolymer and photoresist composition
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials LLC

  公开号：EP2455812A2

  公开（公告）日：2012-05-23

  A copolymer has the formula: wherein R1-R5 are each independently H, C1-6 alkyl, or C4-6 aryl, R6 is a fluorinated or non-fluorinated C5-30 acid decomposable group; each Ar is independently a monocyclic, polycyclic, or fused polycyclic C6-20 aryl group; each of R7 and R8 is independently -OR11 or a - C(CF3)2OR11 group where each occurrence of R11 is independently H, a fluorinated or non-fluorinated C5-30 acid decomposable group, or a combination of these; each R9 is independently F, a C1-10 alkyl, C1-10 fluoroalkyl, C1-10 alkoxy, or a C1-10 fluoroalkoxy group; R10 is a cation-bound C10-40 photoacid generator-containing group, mole fractions a, b, and d are independently 0 to 0.80, mole fraction c is 0.01 to 0.80, e is 0 to 0.50 provided that where a, b, and d are 0, e is greater than 0, the sum of the mole fractions a+b+c+d+e is 1, 1 and m are independently integers of 1 to 4, and n is an integer of 0 to 5. A photoresist, and a coated substrate, each also include the copolymer.

  共聚物的分子式为 其中R1-R5各自独立地为H、C1-6烷基或C4-6芳基，R6为氟化或非氟化C5-30可酸分解基团；每个Ar独立地为单环、多环或融合多环C6-20芳基；R7和R8各自独立地为-OR11或-C(CF3)2OR11基团，其中R11的每个出现独立地为H、氟化或非氟化C5-30可酸分解基团或它们的组合；每个 R9 独立地是 F、C1-10 烷基、C1-10 氟烷基、C1-10 烷氧基或 C1-10 氟烷氧基； R10 是含阳离子的 C10-40 光酸发生器基团，摩尔分数 a、b 和 d 独立地为 0 至 0.80，摩尔分数 c 为 0.01 至 0.80，e 为 0 至 0.50，条件是其中 a、b 和 d 为 0，e 大于 0，摩尔分数 a+b+c+d+e 之和为 1，1 和 m 独立地为 1 至 4 的整数，n 为 0 至 5 的整数。光致抗蚀剂和涂层基底也分别包括共聚物。
• US5770346A
  申请人：——

  公开号：US5770346A

  公开（公告）日：1998-06-23