4,4,4-三氟-3-(三氟甲基)-1,3-丁二醇 | 21379-33-9

• 物质功能分类: 有机原料 - 有机氟化合物
• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 中文名称: 4,4,4-三氟-3-(三氟甲基)-1,3-丁二醇
• 英文名称: 4,4,4-trifluoro-3-(trifluoromethyl)butane-1,3-diol
• 英文别名: 4,4,4-trifluoro-3-(trifluoromethyl)-1,3-butanediol
• CAS: 21379-33-9
• 化学式: C₅H₆F₆O₂
• 分子量: 212.092
• InChiKey: PYTQULGOMFBQNV-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  177℃
• 密度：
  1.526
• 闪点：
  61℃

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.3
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  40.5
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  8

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4,4,4-三氟-3-(三氟甲基)-1,3-丁二醇 、 5-磺酸基间苯二甲酸 以 水 为溶剂， 以64%的产率得到3,5-bis((4,4,4-trifluoro-3-hydroxy-3-(trifluoromethyl)butoxy)carbonyl)benzene sulfonic acid
  参考文献：
  名称：

  Photoresist pattern trimming compositions and methods

  摘要：

  提供了光刻胶图案修整组合物。该组合物包括：基质聚合物、芳香磺酸和溶剂，其中芳香磺酸包括一个或多个氟化醇基团。还提供了使用修整组合物修整光刻胶图案的方法。该组合物和方法在半导体器件制造中具有特定的适用性。

  公开号：

  US09696629B2
• 作为产物：
  描述：

  4,4,4-Trifluor-3-hydroxy-3-(trifluormethyl)butanal 在 palladium on activated charcoal 甲基叔丁基醚 、 氢气 作用下， 170.0 ℃ 、68.95 kPa 条件下， 以99%的产率得到4,4,4-三氟-3-(三氟甲基)-1,3-丁二醇
  参考文献：
  名称：

  [EN] PROCESS FOR PREPARING FLUORINATED DIOLS
  [FR] PROCÉDÉ DE SYNTHÈSE DE DIOLS FLUORÉS

  摘要：

  一种制备含氟二元醇化合物的方法，该方法是通过在气相中使用钯催化剂，将相应的酮醇或醛醇与氢气反应而得到的。

  公开号：

  WO2012112751A1

文献信息

• Methods for Producing Fluorine-Containing Hydroxyaldehyde, Fluorine-Containing Propanediol, and Fluorine-Containing Alcohol Monomer
  申请人：Central Glass Company, Limited

  公开号：US20150361026A1

  公开（公告）日：2015-12-17

  As shown by the following reaction formula, disclosed is a fluorine-containing hydroxyaldehyde production method, including the step of obtaining a fluorine-containing hydroxyaldehyde represented by the general formula (1) by reacting a fluorine-containing ketone represented by the general formula (4) and an aldehyde represented by the general formula (5) in the presence of an organic base selected from a heterocyclic compound which contains a nitrogen atom in its ring or a tertiary amine. By this production method, it is possible to obtain the fluorine-containing hydroxyaldehyde in a high yield. Furthermore, it is possible to easily obtain in high yields a fluorine-containing propanediol, which is a derivative of this fluorine-containing hydroxyaldehyde, and a fluorine-containing alcohol monomer by using the same.

  根据以下反应方程式，揭示了一种含氟羟基醛的生产方法，包括通过在选择的含氟酮（通式（4）表示）和醛（通式（5）表示）在含有从含有氮原子的杂环化合物或三级胺中选择的有机碱的情况下反应，获得由通式（1）表示的含氟羟基醛的步骤。通过这种生产方法，可以高产率地获得含氟羟基醛。此外，可以通过使用相同方法轻松高产率地获得含氟丙二醇（这是这种含氟羟基醛的衍生物）和含氟醇单体。
• The reaction of some 3- and 4-fluorooexetanes with acids
  作者：Paul Tarrant、R.N. Bull

  DOI：10.1016/s0022-1139(00)83066-3

  日期：1988.8

  well as cleavage of the ether leakage to give chloroalkyl carbinols or in, some cases, vinyl carbinols. Individual samples of the and -3,4-difluorooxetanes formed roughly equivalent amounts of the 3-fluoro-4-chlorooxetane stereoisomers, indicating a common carbonium intermediate. Treatment of the 4-fluorooxetane with sulfuric acid gave a dioxetane, a dioxene and an unsaturated aldehyde.

  由六氟丙酮和氢氟烯烃制得的几种氧杂环丁烷用氯化铝处理。在3和4个碳原子上，氯原子取代了氟原子，并且裂解掉了醚，制得了氯代烷基甲醇，或在某些情况下，得到了乙烯基甲醇。和-3,4-二氟氧杂环丁烷的单个样品形成了大致等量的3-氟-4-氯氧杂环丁烷立体异构体，表明是常见的碳中间体。用硫酸处理4-氟氧杂环丁烷得到二氧杂环丁烷，二氧杂环丁烷和不饱和醛。
• THERMAL ACID GENERATORS AND PHOTORESIST PATTERN TRIMMING COMPOSITIONS AND METHODS
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials LLC

  公开号：US20170123313A1

  公开（公告）日：2017-05-04

  Provided are ionic thermal acid generators of the following general formula (I): wherein: Ar 1 represents an optionally substituted carbocyclic or heterocyclic aromatic group; W independently represents a group chosen from carboxyl, hydroxy, nitro, cyano, C1-5 alkoxy and formyl; X is a cation; Y independently represents a linking group; Z independently represents a group chosen from hydroxyl, fluorinated alcohols, esters, optionally substituted alkyl, C5 or higher optionally substituted monocyclic, polycyclic, fused polycyclic cycloaliphatic, or aryl, which may optionally comprise a heteroatom, provided at least one occurrence of Z is a hydroxyl group; a is an integer of 0 or greater; b is an integer of 1 or greater; provided that a+b is at least 1 and not greater than the total number of available aromatic carbon atoms of the aromatic group. Also provided are photoresist pattern trimming compositions and methods of trimming a photoresist pattern using the trimming compositions. The thermal acid generators, compositions and methods find particular applicability in the manufacture of semiconductor devices.

  提供的是以下一般式(I)的离子热酸发生剂： 其中：Ar1代表一个可选取的取代的碳环或杂环芳香基团；W独立地代表从羧基，羟基，硝基，氰基，C1-5烷氧基和甲酰基中选择的一个基团；X是一个阳离子；Y独立地代表一个连接基团；Z独立地代表从羟基，氟化醇，酯类，可选取的取代烷基，C5或更高的可选取的单环，多环，融合多环环烷基或芳基中选择的一个基团，可以可选地包含一个杂原子，但至少有一个Z是一个羟基；a是大于或等于0的整数；b是大于或等于1的整数；但要求a+b至少为1且不大于芳香基团中可用的芳香碳原子的总数。此外，还提供了修剪光刻胶图案的组合物和方法。这些热酸发生剂、组合物和方法在半导体器件制造中具有特殊的适用性。
• PHOTOACID GENERATING COMPOUND AND PHOTORESIST COMPOSITION COMPRISING SAME, COATED ARTICLE COMPRISING THE PHOTORESIST AND METHOD OF MAKING AN ARTICLE
  申请人：Aqad Emad

  公开号：US20140120471A1

  公开（公告）日：2014-05-01

  A compound having the formula (I): wherein a is an integer of from 1 to 10, and x is an integer of from 1 to 3, X 1 comprises a fluoroalcohol, fluorinated ester, or fluorinated anhydride, Y is a single bond, C 1-20 alkylene group, O, S, NR, ester, carbonate, sulfonate, sulfone, or sulfonamide, wherein R is H or C 1-20 alkyl, and wherein the C 1-20 alkylene group is structurally only carbon, or one or more structural carbon atoms in the C 1-20 alkylene group is replaced by oxygen, carbonyl, ester, or a combination comprising at least one of the foregoing, Ar is a substituted or unsubstituted, C 5 or greater monocyclic, polycyclic, or fused polycyclic cycloalkyl; or a substituted or unsubstituted, C 5 or greater monocyclic, polycyclic, or fused polycyclic aryl group, wherein the cycloalkyl or aryl is a carbocycle or comprises a heteroatom comprising O, S, N, F, or a combination comprising at least one of the foregoing, each R 1 is independently a substituted C 5-40 aryl, substituted C 5-40 heteroaryl, C 1-40 alkyl, a C 3-40 cycloalkyl, wherein when x is 1, the two groups R 1 are separate or bonded to each other to form a C 4-40 ring structure, and Z − is a carboxylate, sulfate, sulfonate, sulfamate, or the anion of a sulfonimide, wherein when Y is a single bond, Z − is not sulfonate.

  化合物的化学式为（I）：其中a是1到10的整数，x是1到3的整数，X1包括氟醇，氟酯或氟酸酐，Y是单键，C1-20烷基，O，S，NR，酯，碳酸酯，磺酸盐，磺酮或磺酰胺，其中R为H或C1-20烷基，C1-20烷基仅由碳构成，或C1-20烷基中的一个或多个结构碳原子被氧，羰基，酯或至少包括其中一种的组合所取代，Ar是取代或未取代的C5或更大的单环，多环或融合多环环烷基；或取代或未取代的C5或更大的单环，多环或融合多环芳基，其中环烷基或芳基是碳环或包含O，S，N，F或至少包括其中一种的杂原子，每个R1独立地是取代的C5-40芳基，取代的C5-40杂芳基，C1-40烷基，C3-40环烷基，当x为1时，两个R1基团可以分离或结合形成C4-40环状结构，Z-是羧酸盐，硫酸盐，磺酸盐，磺酰胺或磺酰胺的阴离子，当Y为单键时，Z-不是磺酸盐。
• TARRANT, PAUL;BULL, R. N., J. FLUOR. CHEM., 40,(1988) N 2-3, C. 201-215
  作者：TARRANT, PAUL、BULL, R. N.

  DOI：——

  日期：——