N,N-dipropyl-N'-(1-naphthoyl)thiourea | 1533428-44-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 萘
• 英文名称: N,N-dipropyl-N'-(1-naphthoyl)thiourea
• CAS: 1533428-44-2
• 化学式: C₁₈H₂₂N₂OS
• 分子量: 314.451
• InChiKey: DCRATVVTRJFBIE-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.98
• 重原子数：
  22.0
• 可旋转键数：
  5.0
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.33
• 拓扑面积：
  32.34
• 氢给体数：
  1.0
• 氢受体数：
  2.0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  N,N-dipropyl-N'-(1-naphthoyl)thiourea 、 copper(II) sulfate 以 乙醇 、 水 为溶剂， 以87%的产率得到bis[N,N-dipropyl-N'-(1-naphthoyl)thioureato]copper(II)
  参考文献：
  名称：

  使用单分子前驱体相控沉积硫化铜薄膜

  摘要：

  在此，我们描述了新配体 N,N-二乙基-N'-(1-萘甲酰基)硫脲 (1a) 和 N,N-二丙基-N'-(1-萘甲酰基)硫脲 (1b) 的合成和表征，以及它们与铜、双[N,N-二乙基-N'-(1-萘甲酰基)硫脲基]CuII (2a)和双[N,N-二丙基-N'-(1-萘甲酰基)硫脲基]CuII(2b)的络合物）。所有四种化合物（即 1a、1b、2a 和 2b）均通过元素分析、1H NMR 和 13C NMR 光谱以及 FTIR 光谱进行表征。化合物1a、1b和2b的结构通过单晶X射线衍射分析确定。2a 和 2b 的热重分析表明这两种化合物在 190 到 370 °C 之间分解。然后将化合物 2a 和 2b 用作单分子前体，用于通过气溶胶辅助化学气相沉积来沉积硫化铜薄膜。沉积薄膜的相和纯度通过粉末 X 射线衍射证实，这表明生长的薄膜仅由正交 (Cu7S4) 相组成。通过使用场发射扫描电子显微镜

  DOI：

  10.1002/ejic.201301008
• 作为产物：
  描述：

  1-萘甲酰氯 以 丙酮 为溶剂， 反应 2.58h， 生成 N,N-dipropyl-N'-(1-naphthoyl)thiourea
  参考文献：
  名称：

  使用单分子前驱体相控沉积硫化铜薄膜

  摘要：

  在此，我们描述了新配体 N,N-二乙基-N'-(1-萘甲酰基)硫脲 (1a) 和 N,N-二丙基-N'-(1-萘甲酰基)硫脲 (1b) 的合成和表征，以及它们与铜、双[N,N-二乙基-N'-(1-萘甲酰基)硫脲基]CuII (2a)和双[N,N-二丙基-N'-(1-萘甲酰基)硫脲基]CuII(2b)的络合物）。所有四种化合物（即 1a、1b、2a 和 2b）均通过元素分析、1H NMR 和 13C NMR 光谱以及 FTIR 光谱进行表征。化合物1a、1b和2b的结构通过单晶X射线衍射分析确定。2a 和 2b 的热重分析表明这两种化合物在 190 到 370 °C 之间分解。然后将化合物 2a 和 2b 用作单分子前体，用于通过气溶胶辅助化学气相沉积来沉积硫化铜薄膜。沉积薄膜的相和纯度通过粉末 X 射线衍射证实，这表明生长的薄膜仅由正交 (Cu7S4) 相组成。通过使用场发射扫描电子显微镜

  DOI：

  10.1002/ejic.201301008