copper;(Z)-1,1,1,5,5,5-hexafluoro-4-hydroxypent-3-en-2-one | 14781-45-4

• 物质功能分类: 有机原料 - 有机金属类化合物 - 有机铜
• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: copper;(Z)-1,1,1,5,5,5-hexafluoro-4-hydroxypent-3-en-2-one
• CAS: 14781-45-4
• 化学式: C10H4CuF12O4
• 分子量: 479.66
• InChiKey: HFCSRRSYLKFYFX-PAMPIZDHSA-N

物化性质

• 熔点：
  97-99°C
• 沸点：
  220°C
• 密度：
  0.785 g/cm3
• 溶解度：
  易溶于甲醇、丙酮、甲苯

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.24
• 重原子数：
  27
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.4
• 拓扑面积：
  74.6
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  16

安全信息

• TSCA：
  No
• 危险品标志：
  Xi
• 安全说明：
  S22,S26,S36,S36/37
• 危险类别码：
  R20/22,R36/37/38
• 海关编码：
  2914700090
• 危险性防范说明：
  P264,P280,P302+P352+P332+P313+P362+P364,P305+P351+P338+P337+P313
• 危险性描述：
  H315,H319

制备方法与用途

生产方法： 将0.55 mL的30%氨水加入含有1.69 g六氟乙酰丙酮的水悬浮液中，随后将此混合物添加到含有0.55 g氯化铜的水中。立刻会出现蓝绿色的六氟乙酰丙酮铜配合物沉淀。该产物可以通过热甲苯重结晶进行纯化。

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  六氟乙酰丙酮 、 氧化铜 以yields Copper(II) hexafluoroacetylacetonate (Cu(II)(HFAc)2)的产率得到copper;(Z)-1,1,1,5,5,5-hexafluoro-4-hydroxypent-3-en-2-one
  参考文献：
  名称：

  Ion implant assisted metal etching

  摘要：

  描述了一种改进的金属基板蚀刻方法。在金属基板上涂覆掩模层后，进行离子注入过程，将氧离子等离子体注入金属基板的暴露区域。这种注入会创建金属氧化物区域，这些区域可能更容易被蚀刻。然后，将金属氧化物的暴露区域进行蚀刻。这个过程可能是通过蒸发或湿法蚀刻过程。在某些实施例中，选择蚀剂，以使金属氧化物与蚀剂结合形成挥发性化合物，这些化合物保持在气态或气态。这可能会减少金属对其他表面的不必要沉积。这些离子注入和蚀刻过程可以重复多次，以创建所需深度的凹陷特征。

  公开号：

  US09435038B2