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bis(acetylacetonato)dibutoxytitanium | 16902-59-3

中文名称
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中文别名
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英文名称
bis(acetylacetonato)dibutoxytitanium
英文别名
titanium acetylacetonate butoxide;bis(2,4-pentanedionate)titanium dibutoxide;Dibutoxybis(pentane-2,4-dionato-O,O')titanium;butan-1-olate;(Z)-4-oxopent-2-en-2-olate;titanium(4+)
bis(acetylacetonato)dibutoxytitanium化学式
CAS
16902-59-3
化学式
C18H32O6Ti
mdl
——
分子量
392.328
InChiKey
SNGBJBMVMHFZON-VGKOASNMSA-L
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 密度:
    1,085 g/cm3
  • 闪点:
    >110°C

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    -0.03
  • 重原子数:
    25
  • 可旋转键数:
    6
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.67
  • 拓扑面积:
    126
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    6

安全信息

  • TSCA:
    Yes
  • 安全说明:
    S16,S26,S36/37/39
  • 危险类别码:
    R36/37/38

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    strontium(II) carbonatebis(acetylacetonato)dibutoxytitaniumbismuth(III) acetate乙酸酐溶剂黄146 为溶剂, 生成 bismuth strontium titanate
    参考文献:
    名称:
    高c轴取向化学溶液沉积衍生SrBi4Ti4O15薄膜的介电性能
    摘要:
    SrBi4Ti4O15 的 C 轴取向薄膜是通过化学溶液沉积法制备的。研究了前驱体化学和加工条件对所得薄膜形态和 SrBi4Ti4O15 薄膜介电性能的影响。通过控制成膜过程,在600℃和700℃的温度下,在(111)Pt/Si衬底上获得了高c轴取向的SrBi4Ti4O15薄膜。薄膜的介电常数约为 200,与 55 至 160 nm 的薄膜厚度无关。随着温度从 25 °C 升高到 200 °C,介电常数也显示出稳定值。在 500 kV/cm 的施加电场下,薄膜在 125 °C 下的漏电流约为 10-7 A/cm2。这些薄膜表现出稳定的介电常数和优异的绝缘性能。
    DOI:
    10.1002/pssa.200824317
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文献信息

  • Dielectric properties of highly<i>c</i>-axis oriented chemical solution deposition derived SrBi<sub>4</sub>Ti<sub>4</sub>O<sub>15</sub>thin films
    作者:Hiroyuki Kambara、Theodor Schneller、Yukio Sakabe、Rainer Waser
    DOI:10.1002/pssa.200824317
    日期:2009.1
    C-axis oriented thin films of SrBi4Ti4O15 were prepared by a chemical solution deposition method. The influence of precursor chemistry and processing conditions on the resulting film morphology and the dielectric properties of SrBi4Ti4O15 thin films were investigated. By controlling the film formation process, highly c-axis oriented SrBi4Ti4O15 thin films on (111)Pt/Si substrates were obtained at temperatures
    SrBi4Ti4O15 的 C 轴取向薄膜是通过化学溶液沉积法制备的。研究了前驱体化学和加工条件对所得薄膜形态和 SrBi4Ti4O15 薄膜介电性能的影响。通过控制成膜过程,在600℃和700℃的温度下,在(111)Pt/Si衬底上获得了高c轴取向的SrBi4Ti4O15薄膜。薄膜的介电常数约为 200,与 55 至 160 nm 的薄膜厚度无关。随着温度从 25 °C 升高到 200 °C,介电常数也显示出稳定值。在 500 kV/cm 的施加电场下,薄膜在 125 °C 下的漏电流约为 10-7 A/cm2。这些薄膜表现出稳定的介电常数和优异的绝缘性能。
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