(2-cyclohexyl-ethyl)-vinyl ether | 103983-46-6

• 物质功能分类: 有机原料 - 烃类化合物及其衍生物 - 环烃
• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: (2-cyclohexyl-ethyl)-vinyl ether
• 英文别名: (2-Cyclohexyl-aethyl)-vinyl-aether；Cyclohexane, [2-(ethenyloxy)ethyl]-；2-ethenoxyethylcyclohexane
• CAS: 103983-46-6
• 化学式: C₁₀H₁₈O
• 分子量: 154.252
• InChiKey: MASGJCHIQCNVSA-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  93-95 °C(Press: 25 Torr)
• 密度：
  0.864±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.9
• 重原子数：
  11
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.8
• 拓扑面积：
  9.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  (2-cyclohexyl-ethyl)-vinyl ether 、 二乙烯基醚 、 混旋樟脑磺酸 、 三乙胺 在 水 、 乙酸乙酯 、 正己烷 、 丙二醇甲醚醋酸酯 作用下， 以 乙酸乙酯 为溶剂， 反应 4.0h， 以to obtain 105.6 g of a PGMEA solution (32.7 mass %) of Resin (P-1)的产率得到丙二醇甲醚醋酸酯
  参考文献：
  名称：

  Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film using the composition and pattern forming method

  摘要：

  一种感光树脂组合物，它是一种紫外线或辐射敏感的树脂组合物，包括(P)具有以下公式（1）所表示的重复单元的树脂，使用该组合物的光阻膜，以及形成图案的方法。

  公开号：

  US08735048B2
• 作为产物：
  描述：

  2-环己基乙醇 、 乙炔 在 氢氧化钾 作用下， 生成 (2-cyclohexyl-ethyl)-vinyl ether
  参考文献：
  名称：

  Reppe et al., Justus Liebigs Annalen der Chemie, 1956, vol. 601, p. 81,104

  摘要：

  DOI：

文献信息

• 3-(2-Acylamino-1-Hydroxyethyl)-Morpholine Derivatives and Their Use as Bace Inhibitors
  申请人：Broughton Barff Howard

  公开号：US20070225267A1

  公开（公告）日：2007-09-27

  The present invention provides BACE inhibitors of Formula (I); methods for their use and preparation, and intermediates useful for their preparation.

  本发明提供了化学式（I）的BACE抑制剂；以及它们的使用和制备方法，以及用于它们制备的中间体。
• PATTERN FORMING METHOD, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM, MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE, ELECTRONIC DEVICE AND COMPOUND
  申请人：FUJIFILM CORPORATION

  公开号：US20160070167A1

  公开（公告）日：2016-03-10

  There is provided a pattern forming method comprising (i) a step of forming a film containing an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition containing (A) a compound represented by the specific formula, (B) a compound different from the compound (A) and capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, and (P) a resin that does not react with the acid generated from the compound (A) and is capable of decreasing the solubility for an organic solvent-containing developer by the action of the acid generated from the compound (B), (ii) a step of exposing the film, and (iii) a step of developing the exposed film by using an organic solvent-containing developer to form a negative pattern; the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition above; a resist film using the composition.

  提供了一种图案形成方法，包括（i）形成一种薄膜，其中包含一种感光树脂组成物，该组成物包含（A）一种特定化学式代表的化合物，（B）一种不同于化合物（A）的化合物，在接受光辐射后能够产生酸，并且（P）一种树脂，该树脂不会与从化合物（A）产生的酸发生反应，并且能够通过来自化合物（B）产生的酸的作用降低有机溶剂含有的显影剂的溶解度，（ii）曝光薄膜，（iii）使用有机溶剂含有的显影剂对曝光后的薄膜进行显影，形成负图案；上述感光树脂组成物；使用该组成物的抗蚀膜。
• Positive photoresist composition
  申请人：FUJI PHOTO FILM CO., LTD.

  公开号：US20020172886A1

  公开（公告）日：2002-11-21

  A positive photoresist composition comprising the components of: (a) a resin which decomposes by the action of an acid, thereby having an increased solubility in an alkali developer; and (b) a compound which is represented by the formula (1) and generates an acid by exposure to active rays or radiation, and a compound which is represented by the formula (2) and generates an acid by exposure to active rays or radiation.

  一种正向光致变色胶组合物，包括以下组成部分：(a)一种树脂，通过酸的作用分解，从而在碱性显影剂中具有增加的溶解度；和(b)一种化合物，其由公式(1)表示，并通过暴露于活性光线或辐射而产生酸，以及一种由公式(2)表示的化合物，通过暴露于活性光线或辐射而产生酸。
• Antireflection film, polarizing plate, and image display device
  申请人：Okamoto Yasuhiro

  公开号：US20070065660A1

  公开（公告）日：2007-03-22

  An antireflection film comprising a support and a low refractive index layer made from a coating composition containing: a fluorine-containing polymer containing at least one fluorine-containing vinyl monomer polymerization unit and at least one hydroxyl group-containing vinyl monomer polymerization unit; and a particle having a conductive metal oxide-coated layer.

  一种防反射膜，包括支撑层和低折射率层，所述低折射率层由一种涂层组合物制成，所述涂层组合物包含：一种含有至少一种含氟乙烯单体聚合单元和至少一种含羟基乙烯单体聚合单元的含氟聚合物；以及一种具有导电金属氧化物涂层层的粒子。
• ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM USING THE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD
  申请人：Inasaki Takeshi

  公开号：US20120301817A1

  公开（公告）日：2012-11-29

  An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprising (P) a resin having a repeating unit represented by the following formula (1), a resist film using the composition, and a pattern forming method.

  一种感光树脂组合物，其包括（P）一种具有以下式（1）所表示的重复单元的树脂，使用该组合物的光阻膜以及一种图案形成方法。