申请人:SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤(519980708960)
公开号:KR20190022392A
公开(公告)日:2019-03-06
[과제] 산의 작용에 의해 극성이 변화되는 치환기를 포함하는 중합성 단량체, 산의 작용에 의해 극성이 변화되는 치환기를 포함하는 중합체, 이 중합체를 베이스 수지로서 포함하는 레지스트 재료 및 이 레지스트 재료를 이용한 패턴 형성 방법을 제공한다. [해결수단] 하기 식 (1)로 표시되는 부분 구조 및 중합성 작용기를 포함하는 유기기를 가지고, 산의 작용으로 극성이 변화되는 중합성 단량체. (식 중, R 및 R는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 또는 직쇄상, 분기상 혹은 환상의 탄소수 1〜6의 1가 탄화수소기이고, 이 1가 탄화수소기를 구성하는 -CH-가 -O- 또는 -C(=O)-로 치환되어 있어도 좋고, R과 R가 서로 결합하여 이들이 결합하는 탄소 원자와 함께 지환기를 형성하여도 좋다. 파선은 중합성 작용기를 포함하는 유기기와의 결합수(結合手)이다.)
This is a patent document related to the synthesis of a polymer containing substituents that change polarity due to the action of an acid, a polymer containing substituents that change polarity due to the action of an acid, a resist material containing this polymer as a base resin, and a method for pattern formation using this resist material. The organic compound containing a partial structure and a polymerization functional group represented by the following formula (1) has a structure that changes polarity due to the action of an acid. (In the formula, R and R independently represent a hydrogen atom, or a straight-chain, branched, or cyclic hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and the -CH- constituting this hydrocarbon group may be substituted with -O- or -C(=O)-, and R and R may be combined to form a cyclic group with the carbon atoms to which they are attached. The dashed line represents a bonding between the organic compound containing the polymerization functional group.)