hexahydro-4,7-methanobenzo[d][1,3]dioxol-2-one

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 异戊烯醇脂质
• 英文名称: hexahydro-4,7-methanobenzo[d][1,3]dioxol-2-one
• 英文别名: 3,5-Dioxatricyclo[5.2.1.02,6]decan-4-one
• 化学式: C₈H₁₀O₃
• 分子量: 154.166
• InChiKey: MYSTVFSQZZDTBJ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.6
• 重原子数：
  11
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.88
• 拓扑面积：
  35.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  hexahydro-4,7-methanobenzo[d][1,3]dioxol-2-one 在 potassium tert-butylate 、 氢气 、 C₁₆H₁₈BrCoINO₂ 作用下， 以 二丁醚 为溶剂， 160.0 ℃ 、6.0 MPa 条件下， 反应 20.0h， 以86%的产率得到norbornane-2,3-diol
  参考文献：
  名称：

  明确定义的Cp * Co（III）催化的碳酸盐和聚碳酸酯加氢

  摘要：

  我们在此报告了使用定义明确，对空气稳定的高价钴络合物将碳酸酯和聚碳酸酯催化氢化为相应的二醇/醇。首次分离了几种带有N，O螯合的新型Cp * Co（III）配合物，并通过包括单晶X射线晶体学在内的各种光谱技术对其结构进行了表征。这些新颖的Co（III）配合物表现出优异的催化活性，以产生增值的二醇/使用分子氢作为唯一还原剂或从碳酸盐醇和聚碳酸酯通过氢化我PrOH作为转移加氢源。为了证明所开发的方法的实际适用性，我们在既定的反应条件下，使用无磷，富含地球，空气和水分稳定的高价钴催化剂，通过加氢回收了光盘（CD）中的双酚A单体。

  DOI：

  10.1002/cctc.202001490
• 作为产物：
  描述：

  降冰片烯 在 间氯过氧苯甲酸 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 13.5h， 生成 hexahydro-4,7-methanobenzo[d][1,3]dioxol-2-one 、 hexahydro-4,7-methanobenzo[d]oxazol-2(3H)-one
  参考文献：
  名称：

  一锅法从环氧化物和氯磺酰基异氰酸酯合成恶唑烷酮和五元环状碳酸酯：异步协同途径的理论证据。

  摘要：

  在没有添加剂和催化剂的温和反应条件下，研究了氯磺酰基异氰酸酯（CSI）与具有苯基，苄基和稠环烷基的环氧化物在不同溶剂中的一锅反应。在环化反应中，恶唑烷酮和五元环状碳酸酯的比例接近1：1。这些化合物在二氯甲烷（DCM）中的收率最高。与16种已知化合物一起，用一种有效而直接的方法合成了两种新型的恶唑烷酮衍生物和两种新型的环状碳酸酯。与现有方法相比，此处提出的合成方法具有以下明显的优势：与不含金属的试剂进行一锅法反应，反应时间短，收率高，纯化方法非常简单。此外，在M06-2X / 6-31 + G（d，p）的理论水平上使用密度泛函理论（DFT）方法，阐明了环加成反应的机理。对与导致恶唑烷酮和五元环状碳酸酯的两个可能通道相关的势能面的进一步研究显示，环加成反应通过气相和DCM中的异步协同机制进行。

  DOI：

  10.3762/bjoc.16.148

文献信息

• RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
  申请人：TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

  公开号：US20170371241A1

  公开（公告）日：2017-12-28

  A resist composition containing a resin component having a structural unit represented by general formula (a0-1), and a compound represented by general formula (b1). In general formula (a0-1), R is a hydrogen atom, an alkyl group, or a halogenated alkyl group. Va 1 is a divalent hydrocarbon group. n a1 represents an integer of 0 to 2. Ra′ 12 and Ra′ 13 are a monovalent chain saturated hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms or a hydrogen atom. Ra′ 14 is a phenyl group, a naphthyl group, or an anthryl group. In general formula (b1), R b1 represents a cyclic hydrocarbon group. Y b1 represents a divalent linking group containing an ester bond. V b1 represents an alkylene group, a fluorinated alkylene group, or a single bond. m is an integer of 1 or more, and M m+ is an m-valent organic cation.

  一种电阻组分，包含具有一般式（a0-1）所代表的结构单元的树脂组分，以及一种由一般式（b1）所代表的化合物。在一般式（a0-1）中，R是氢原子、烷基或卤代烷基。Va1是双价碳氢基团。na1表示0至2的整数。Ra′12和Ra′13是具有1至10个碳原子的单价链饱和碳氢基团或氢原子。Ra′14是苯基、萘基或蒽基。在一般式（b1）中，Rb1代表环烃基。Yb1代表含有酯键的双价连接基团。Vb1代表烷基、氟化烷基或单键。m是1或更多的整数，Mm+是m价有机阳离子。
• RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, ACID GENERATOR AND COMPOUND
  申请人：TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

  公开号：US20170176855A1

  公开（公告）日：2017-06-22

  A resist composition which generates acid upon exposure and exhibits changed solubility in a developing solution under action of acid, and which includes a base component (A) which exhibits changed solubility in a developing solution under action of acid and an acid-generator component (B) which generates acid upon exposure, the acid-generator component (B) including a compound (B1) represented by general formula (b1) shown below (in general formula (b1), R b1 represents a bridged alicyclic group having 7 to 30 carbon atoms and containing a polar group; Y b1 represents a linear hydrocarbon group of 9 or more carbon atoms which may have a substituent excluding at least one member selected from the group consisting of an aromatic hydrocarbon group and a vinyl group; V b1 represents a fluorinated alkylene group; m represents an integer of 1 or more; and M m+ represents an organic cation having a valency of m). R b1 —Y b1 —V b1 —SO 3 − (M m+ ) 1/m (b1)

  一种抗蚀组合物，在暴露后产生酸，并在酸的作用下在显影溶液中表现出改变的溶解度，包括在酸的作用下在显影溶液中表现出改变的溶解度的基组分（A）和在暴露后产生酸的酸生成组分（B），其中酸生成组分（B）包括下面所示的一般式（b1）表示的化合物（B1）（在一般式（b1）中，Rb1代表具有7至30个碳原子并含有极性基团的桥环脂环基团；Yb1代表具有9个或更多碳原子的线性烃基团，可能具有一个取代基，但不包括由芳香烃基团和乙烯基组成的至少一种成员；Vb1代表氟代烷基烯基团；m表示1或更多的整数；Mm+代表价数为m的有机阳离子）。Rb1—Yb1—Vb1—SO3−(Mm+)1/m（b1）
• RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, AND COMPOUND
  申请人：TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

  公开号：US20200174365A1

  公开（公告）日：2020-06-04

  A resist composition containing a base material component of which solubility in a developing solution is changed due to an action of an acid and a compound represented by Formula (bd1); in the formula, R bd1 to R bd3 each independently represent an aryl group which may have a substituent, provided that one or more of R bd1 to R bd3 are aryl groups having a fluorinated alkyl group which may have a substituent, and at least one of the fluorinated alkyl groups which may have a substituent in these aryl groups is bonded to a carbon atom adjacent to a carbon atom that is bonded to a sulfur atom in the formula, and a total number of the fluorinated alkyl groups which may have a substituent is 2 or more; X − represents a counter anion.

  一种抗蚀组合物，含有基础材料组分，其在显影溶液中的溶解性由酸的作用和由化合物代表的公式（bd1）改变；在公式中，Rbd1到Rbd3各自独立地代表可能具有取代基的芳基，前提是Rbd1到Rbd3中的一个或多个是可能具有取代基的芳基，而这些芳基中至少有一个可能具有取代基的氟代烷基与公式中与硫原子相结合的碳原子相邻的碳原子结合，可能具有取代基的氟代烷基的总数为2或更多；X−代表一个对离子。
• POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, PHOTO-REACTIVE QUENCHER, AND POLYMERIC COMPOUND
  申请人：TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

  公开号：US20160376233A1

  公开（公告）日：2016-12-29

  A positive-type resist composition which generates an acid upon exposure and whose solubility in an alkali developing solution increases under the action of an acid, the composition including a base material component whose solubility in an alkali developing solution increases under the action of an acid; and a compound represented by the following general formula (m0): Z 01 to Z 04 each independently represent a substituent having electron withdrawing properties, Rb 21 and Rb 22 each independently represent an alkyl group, an alicyclic hydrocarbon group which may have a substituent, or a hydroxyl group, Rb 1 represents an aryl group which may have a substituent, an alkyl group, or an alkenyl group, n1 and n2 represent an integer of 0 to 3, and X0 − represents an organic anion.

  一种正型抗蚀组合物，曝光后生成酸，其在碱性显影溶液中的溶解度在酸的作用下增加，该组合物包括一种基材组分，在酸的作用下在碱性显影溶液中的溶解度增加；以及由以下一般式（m0）表示的化合物：Z01至Z04分别独立表示具有电子吸引性的取代基，Rb21和Rb22分别独立表示烷基基团、可能具有取代基的脂环烃基团或羟基，Rb1表示可能具有取代基的芳基、烷基或烯基，n1和n2表示0至3的整数，X0−表示有机阴离子。
• RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, ACID GENERATOR, PHOTOREACTIVE QUENCHER, AND COMPOUND
  申请人：TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

  公开号：US20160280679A1

  公开（公告）日：2016-09-29

  A resist composition which generates acid upon exposure and exhibits changed solubility in a developing solution under action of acid, and which includes a base component which exhibits changed solubility in a developing solution under action of acid and an acid-generator component including a compound (B0-1) represented by general formula (b0) shown below in which Ra 1 represents an aromatic ring; Ra 01 represents an alkyl group of 5 or more carbon atoms optionally having a substituent; Ra 02 and Ra 03 each independently represents an alkyl group of 1 to 10 carbon atoms optionally having a substituent; n1 represents an integer of 1 to 5; n2 represents an integer of 0 to 2; n3 represents an integer of 0 to 4; and X − represents a counteranion.

  一种抗蚀组合物，暴露后产生酸并在酸的作用下在显影溶液中表现出溶解度改变，包括在酸的作用下在显影溶液中表现出溶解度改变的碱性组分和包括一种化合物（B0-1）的酸发生组分，该化合物由下面所示的一般式（b0）表示，其中Ra1代表芳香环；Ra01代表具有5个或更多碳原子的烷基基团，可选地具有取代基；Ra02和Ra03各自独立地表示具有1至10个碳原子的烷基基团，可选地具有取代基；n1表示1至5的整数；n2表示0至2的整数；n3表示0至4的整数；X−表示一个反离子。