4-Amino-3-phenyl-<1>benzopyran-2-on | 91622-60-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯丙烷和聚酮 - 异黄酮类化合物
• 英文名称: 4-Amino-3-phenyl-<1>benzopyran-2-on
• 英文别名: 4-amino-3-phenyl2H-chromen-2-one；4-Amino-3-phenylcoumarin；2H-Benzopyran-2-one, 4-amino-3-phenyl-；4-amino-3-phenylchromen-2-one
• CAS: 91622-60-5
• 化学式: C₁₅H₁₁NO₂
• 分子量: 237.258
• InChiKey: NVHGQWZMRWAHNJ-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  211 °C
• 沸点：
  433.7±45.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.283±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.6
• 重原子数：
  18
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  52.3
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4-Amino-3-phenyl-<1>benzopyran-2-on 在 palladium on activated charcoal 氧气 作用下， 以 二苯醚 为溶剂， 反应 48.0h， 以13%的产率得到chromeno[4,3-b]indol-6(11H)-one
  参考文献：
  名称：

  Synthese von Indolen und Isochinolonen aus Phenylmalonylheterocyclen

  摘要：

  DOI：

  10.1007/bf00810008
• 作为产物：
  描述：

  4-hydroxycoumarin 在 potassium fluoride 、 18-冠醚-6 、 ammonium acetate 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 6.0h， 生成 4-Amino-3-phenyl-<1>benzopyran-2-on
  参考文献：
  名称：

  Transition-metal free C(sp²)–C(sp²) bond formation: arylation of 4-aminocoumarins using arynes as an aryl source

  摘要：

  已开发出一种温和、高效且无过渡金属的合成策略，用于利用芳炔作为芳基源对4-氨基香豆素进行α-芳基化。这种合成策略通过在无金属催化剂的情况下，在一个步骤中在4-氨基香豆素和芳炔前体之间形成C(sp²)–C(sp²)键。

  DOI：

  10.1039/c9ob01919g

文献信息

• Fuerstner, Alois; Jumbam, Denis N.; Shi, Nongyuan, Zeitschrift fur Naturforschung, B: Chemical Sciences, 1995, vol. 50, # 3, p. 326 - 332
  作者：Fuerstner, Alois、Jumbam, Denis N.、Shi, Nongyuan

  DOI：——

  日期：——
• STADLBAUER, W.;KAPPE, TH., MONATSH. CHEM., 1984, 115, N 4, 467-475
  作者：STADLBAUER, W.、KAPPE, TH.

  DOI：——

  日期：——
• PHOTOSENSITIVE COMPOSITIONS CONTAINING COMB POLYMER BINDERS
  申请人：E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY

  公开号：EP0573609A1

  公开（公告）日：1993-12-15
• US3994990A
  申请人：——

  公开号：US3994990A

  公开（公告）日：1976-11-30
• [EN] PHOTOSENSITIVE COMPOSITIONS CONTAINING COMB POLYMER BINDERS
  申请人：——

  公开号：WO1992015628A1

  公开（公告）日：1992-09-17

  [EN] A novel class of comb polymer compositions are disclosed which are particularly useful in photosensitive formulations such as photoresists solder masks and the like. These compositions comprise a branched polymer product containing hydrophilic groups, i.e., comb polymer, comprising one or more branch polymer segment(s) chemically linked along a linear polymer backbone segment. The linear polymer backbone segment has a weight average molecular weight (Mw) between about 10,000 and about 500,000 and the branch polymer segments have a weight average molecular weight (Mw) of about 40,000 or less, wherein the weight ratio of the backbone segment to the branch segments ranges between 200/1 to 1/4, and wherein the branch segments contain 35 % to 100 % of the hydrophilic groups. The comb polymers of this invention are particularly useful as binders in photosensitive compositions containing crosslinking monomers such as solder masks. Upon exposure to actinic radiation, solder mask coatings of such photosensitive compositions form permanent protective solder masks having superior toughness and flexibility.
  [FR] Nouvelle classe de compositions polymères à structure en peigne particulièrement utiles comme compositions photosensibles tels que les masques à souder photorésistants et matières analogues. Ces compositions comprennent un produit polymère ramifié contenant des groupes hydrophiles, c'est-à-dire un polymère à structure en peigne comprenant un ou plusieurs segment(s) polymères de ramification reliés à un segment squelette polymère linéaire. Le segment de squelette polymère linéaire a une masse moléculaire moyenne (Mw) se situant entre 10 000 et environ 500 000 et les segments polymères ramifiés ont une masse moléculaire moyenne (Mw) d'environ 40 000 ou moins, de telle sorte que le rapport massique du segment squelette aux segments ramifiés se situe entre 200/1 et 1/4, et de telle sorte que les segments ramifiés comportent 30 à 100 % de groupes hydrophiles. Les polymères à structure en peigne de cette invention sont particulièrement utiles en tant que liants dans des compositions photosensibles renfermant des monomères réticulés tels que des masques de soudure. Sous l'effet d'une exposition à une radiation actinique, les revêtements de masque de soudure élaborés à partir de telles compositions photosensibles forment des masques protecteurs permanents présentant une dureté et une flexibilité supérieures.