【課題】ラインエッジラフネスが良好なレジストパターンを製造できる塩、該塩を含有する酸発生剤、及び該酸発生剤を含有するレジスト組成物を提供することを目的とする。【解決手段】式(I)で表される塩。[式中、Q1及びQ2は、それぞれフッ素原子又はペルフルオロアルキル基を表す。R1及びR2は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基を表す。zは0〜6の整数を表す。X1は、*−CO−O−、*−O−CO−等を表す。L1及びL2は、それぞれ単結合又は飽和炭化水素基を表す。R3は、置換基を有してもよい環状炭化水素基を表す。m3は1〜4の整数を表す。R4は、ハロゲン原子又はアルキル基を表す。m4は0〜3の整数を表す。Z+は、有機カチオンを表す。]【選択図】なし
这是一个专利申请的描述,目的是提供一种可以制造出具有良好线边粗糙度的感光胶图案的盐、含有该盐的酸发生剂以及含有该酸发生剂的感光胶组合物。解决方案是一种由式(I)表示的盐。【式中,Q1和Q2分别表示
氟原子或
全氟烷基。R1和R2分别独立地表示氢原子、
氟原子或
全氟烷基。z表示0到6的整数。X1表示*−CO−O−,*−O−CO−等。L1和
L2分别表示单键或饱和碳氢基。R3表示可能带有取代基的环状碳氢基。m3表示1到4的整数。R4表示卤原子或烷基。m4表示0到3的整数。Z+表示有机阳离子。】