1-金刚烷基甲基丙烯酸酯 | 16887-36-8

• 物质功能分类: 有机原料 - 羧酸类化合物及衍生物
• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 中文名称: 1-金刚烷基甲基丙烯酸酯
• 中文别名: 1-甲基丙烯酸金刚烷酯；1-金刚烷甲基丙烯酸酯
• 英文名称: 1-adamantyl methacrylate
• 英文别名: (3s,5s,7s)-adamantan-1-yl methacrylate；1-adamantyl 2-methylprop-2-enoate
• CAS: 16887-36-8
• 化学式: C₁₄H₂₀O₂
• 分子量: 220.312
• InChiKey: MZVABYGYVXBZDP-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  289.3±9.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.07±0.1 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.8
• 重原子数：
  16
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.79
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

安全信息

• 危险性防范说明：
  P261,P305+P351+P338
• 危险性描述：
  H315,H319,H335
• 储存条件：
  0-10°C

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1-金刚烷基甲基丙烯酸酯 在 四氧化锇 、 N-甲基吗啉氧化物 作用下， 以 氯仿 为溶剂， 反应 24.0h， 生成 1-Adamantyl 2,3-dihydroxy-2-methylpropanoate
  参考文献：
  名称：

  SALT, PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING PHOTORESIST PATTERN

  摘要：

  一种光阻剂组合物，包括由式(I)表示的盐：其中Q1和Q2分别独立表示氟原子或C1-C6全氟烷基基团，R1、R2和R3分别独立表示氢原子或C1-C10一价脂肪饱和碳氢基团，X1和X2分别独立表示单键、羰基或C1-C10双价脂肪饱和碳氢基团，其中氢原子可以被羟基取代，亚甲基基团可以被氧原子、磺酰基或羰基取代，A1表示C1-C30有机基，m1表示1到4的整数，Z+表示有机阳离子，以及一种树脂，该树脂在酸的作用下几乎不溶或不溶，但在水性碱溶液中可溶。

  公开号：

  US20130040237A1
• 作为产物：
  描述：

  甲基丙烯酸酐 、 1-金刚烷醇 在 Acidic catalyst 作用下， 以 环己烷 为溶剂， 以95%的产率得到1-金刚烷基甲基丙烯酸酯
  参考文献：
  名称：

  Otsu, Takayuki; Matsumoto, Akikazu; Horie, Atsushi, Chemistry Letters, 1991, # 7, p. 1145 - 1148

  摘要：

  DOI：

文献信息

• MONOMERS, POLYMERS AND PHOTORESIST COMPOSITIONS
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials Korea Ltd.

  公开号：US20180059545A1

  公开（公告）日：2018-03-01

  In one preferred embodiment, polymers are provided that comprise a structure of the following Formula (I): Photoresists that comprises such polymers also are provided.

  在一个首选实施例中，提供了包含以下化学式（I）结构的聚合物： 还提供了包含这种聚合物的光刻胶。
• SALT AND PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME
  申请人：ICHIKAWA Koji

  公开号：US20100304293A1

  公开（公告）日：2010-12-02

  A salt represented by the formula (a): wherein Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom etc., X 1 represents a single bond etc., X 2 represents a single bond etc., Y 1 represents a C3-C6 alicyclic hydrocarbon group etc., with the proviso that —X 2 —Y 1 group has one or more fluorine atoms, and Z + represents an organic counter cation, and a photoresist composition comprising the salt represented by the formula (a) and a resin comprising a structural unit having an acid-labile group and being insoluble or poorly soluble in an aqueous alkali solution but becoming soluble in an aqueous alkali solution by the action of an acid.

  由公式(a)表示的盐：其中Q1和Q2各自独立代表氟原子等，X1代表单键等，X2代表单键等，Y1代表C3-C6的脂环烃基等，但条件是—X2—Y1基团具有一个或多个氟原子，以及Z+代表有机反离子，以及包含由公式(a)表示的盐的光阻剂组合物和包含具有酸不稳定的基团并且在水性碱液中不溶或微溶于但在酸性作用下水性碱液中变得可溶的树脂的结构单元。
• MONOMER, POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20150322027A1

  公开（公告）日：2015-11-12

  A monomer (1) is prepared by reacting a compound (9) with a base or metal to form a metal enolate reagent, and reacting the metal enolate reagent with an acyloxyketone compound (8). A polymer derived from the monomer is used as base resin to formulate a resist composition, which is shelf stable and displays a high dissolution contrast, controlled acid diffusion and low roughness in forming positive pattern via alkaline development and in forming negative pattern via organic solvent development.

  一种单体（1）是通过将一种化合物（9）与碱或金属反应形成金属烯醇盐试剂，然后将金属烯醇盐试剂与一种酰氧基酮化合物（8）反应而制备的。由该单体派生出的聚合物用作基础树脂，以配制一种光刻胶组合物，该组合物在常温下稳定，显示出高溶解对比度、控制的酸性扩散和在碱性显影形成正图案以及有机溶剂显影形成负图案时低粗糙度。
• BASIC COMPOUND, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Hatakeyama Jun

  公开号：US20120141938A1

  公开（公告）日：2012-06-07

  A chemically amplified resist composition comprising a base polymer, an acid generator, and an amine quencher in the form of a β-alanine, γ-aminobutyric acid or 5-aminovaleric acid derivative having an acid labile group-substituted carboxyl group has a high contrast of alkaline dissolution rate before and after exposure and forms a pattern of good profile at a high resolution, minimal roughness and wide focus margin.

  一种化学放大型光刻胶组合物，包括基础聚合物、酸发生剂和胺淬灭剂，后者为β-丙氨酸、γ-氨基丁酸或5-氨基戊酸的衍生物，具有一个被酸不稳定基团所取代的羧基，这种组合物在曝光前后具有高对比度的碱性溶解速率，并且能够形成高分辨率、最小粗糙度和宽焦深度的良好图案轮廓。
• Salt suitable for an acid generator and a chemically amplified positive resist composition containing the same
  申请人：Shigematsu Junji

  公开号：US20080086014A1

  公开（公告）日：2008-04-10

  The present invention provides a salt represented by the formula (I): wherein X represents a C3-C30 divalent group containing at least one divalent alicyclic hydrocarbon group, and at least one —CH 2 — in the C3-C30 divalent group may be substituted with —O— or —CO—, Y represents a C3-C30 cyclic hydrocarbon group which may be substituted with at least one group selected from a C1-C6 alkoxy group, a C1-C4 perfluoroalkyl group, a C1-C6 hydroxyalkyl group, a hydroxyl group and a cyano group, and at least one —CH 2 — in the C3-C30 cyclic hydrocarbon group may be substituted with —O— or —CO—, Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom or a C1-C6 perfluoroalkyl group, and A + represents an organic counter ion.

  本发明提供了一种由公式(I)表示的盐：其中X代表含至少一个二价脂环烃基的C3-C30二价基团，并且C3-C30二价基团中的至少一个—CH2—可以被—O—或—CO—取代，Y代表一个C3-C30环烃基，该环烃基可以至少被选自C1-C6烷氧基、C1-C4全氟烷基、C1-C6羟基烷基、羟基和氰基的至少一个取代基取代，并且C3-C30环烃基中的至少一个—CH2—可以被—O—或—CO—取代，Q1和Q2各自独立地代表一个氟原子或一个C1-C6全氟烷基，以及A+代表一个有机反离子。