4,4'-亚甲基双(2,6-二甲苯酚) | 5384-21-4

• 物质功能分类: 有机原料 - 醇、酚、酚醇类化合物及衍生物 - 酚及其卤化、磺化、硝化或亚硝化衍生物
• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 中文名称: 4,4'-亚甲基双(2,6-二甲苯酚)
• 中文别名: 双(4-羟基-3,5-二甲苯基)甲烷；4,4'-亚甲基双(2,6-二甲基)苯酚；4,4'-二羟基-3,3',5,5'-四甲基二苯甲烷；4,4-亚甲基双(2,6-二甲基酚)
• 英文名称: bis(4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)methane
• 英文别名: 4,4'-methylenebis(2,6-dimethylphenol)；tetramethyl bisphenol F；4,4'-Methylen-bis-(2,6-xylenol)；bis-(3,5-dimethyl-4-hydroxy phenyl)-methane；4,4'-dihydroxy-3,3',5,5'-tetramethyldiphenylmethane；Bis-<4-hydroxy-3,5-dimethyl-phenyl>-methan；3.5.3'.5'-Tetramethyl-4.4'-dihydroxy-diphenylmethan；4,4'-Dihydroxy-3,3',5,5'-tetramethyl-diphenylmethan；4,4′-methylenebis(2,6-dimethylphenol)；TMBPF；4,4'-Dihydroxy-3,5,3',5'-tetramethyl-diphenylmethan；4-[(4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)methyl]-2,6-dimethylphenol
• CAS: 5384-21-4
• 化学式: C₁₇H₂₀O₂
• 分子量: 256.345
• InChiKey: AZZWZMUXHALBCQ-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  176 °C
• 沸点：
  414.7±40.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1?+-.0.06 g/cm3(Predicted)
• 溶解度：
  20℃有机溶剂中的溶解度为3.95g/L
• LogP：
  3.75 at 25℃
• 稳定性/保质期：
  在常温常压下，该物质保持稳定。

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.6
• 重原子数：
  19
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.29
• 拓扑面积：
  40.5
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  2

安全信息

• 安全说明：
  S24/25
• 海关编码：
  2907299090
• 储存条件：
  请将药品存放在避光、阴凉干燥处，并密封保存。

SDS

4,4'-亚甲基双(2,6-二甲苯酚) 修改号码：5

---

模块 1. 化学品
产品名称： 4,4'-Methylenebis(2,6-dimethylphenol)
修改号码： 5

---

模块 2. 危险性概述
GHS分类
物理性危害 未分类
健康危害
皮肤腐蚀/刺激 第2级
严重损伤/刺激眼睛 2A类
环境危害 未分类
GHS标签元素
图标或危害标志
信号词 警告
危险描述 造成皮肤刺激
造成严重眼刺激
防范说明
[预防] 处理后要彻底清洗双手。
穿戴防护手套/护目镜/防护面具。
[急救措施] 眼睛接触：用水小心清洗几分钟。如果方便，易操作，摘除隐形眼镜。继续冲洗。
眼睛接触：求医/就诊
皮肤接触：用大量肥皂和水轻轻洗。
若皮肤刺激：求医/就诊。
脱掉被污染的衣物，清洗后方可重新使用。

---

模块 3. 成分/组成信息
单一物质/混和物 单一物质
化学名(中文名)： 4,4'-亚甲基双(2,6-二甲苯酚)
百分比： >98.0%(GC)
CAS编码： 5384-21-4
俗名： Bis(4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)methane , 4,4'-Dihydroxy-3,3',5,5'-
tetramethyldiphenylmethane , 2,2',6,6'-Tetramethyl-4,4'-methylenediphenol
4,4'-亚甲基双(2,6-二甲苯酚) 修改号码：5

---

模块 3. 成分/组成信息
分子式： C17H20O2

---

模块 4. 急救措施
吸入： 将受害者移到新鲜空气处，保持呼吸通畅，休息。若感不适请求医/就诊。
皮肤接触： 立即去除/脱掉所有被污染的衣物。用大量肥皂和水轻轻洗。
若皮肤刺激或发生皮疹：求医/就诊。
眼睛接触： 用水小心清洗几分钟。如果方便，易操作，摘除隐形眼镜。继续清洗。
如果眼睛刺激：求医/就诊。
食入： 若感不适，求医/就诊。漱口。
紧急救助者的防护： 救援者需要穿戴个人防护用品，比如橡胶手套和气密性护目镜。

---

模块 5. 消防措施
合适的灭火剂： 干粉，泡沫，雾状水，二氧化碳
特定方法： 从上风处灭火，根据周围环境选择合适的灭火方法。
非相关人员应该撤离至安全地方。
周围一旦着火：如果安全，移去可移动容器。
消防员的特殊防护用具： 灭火时，一定要穿戴个人防护用品。

---

模块 6. 泄漏应急处理
个人防护措施，防护用具， 使用个人防护用品。远离溢出物/泄露处并处在上风处。
紧急措施： 泄露区应该用安全带等圈起来，控制非相关人员进入。
环保措施： 防止进入下水道。
控制和清洗的方法和材料： 清扫收集粉尘，封入密闭容器。注意切勿分散。附着物或收集物应该立即根据合适的
法律法规处置。

---

模块 7. 操作处置与储存
处理
技术措施： 在通风良好处进行处理。穿戴合适的防护用具。防止粉尘扩散。处理后彻底清洗双手
和脸。
注意事项： 如果粉尘或浮质产生，使用局部排气。
操作处置注意事项： 避免接触皮肤、眼睛和衣物。
贮存
储存条件： 保持容器密闭。存放于凉爽、阴暗处。
远离不相容的材料比如氧化剂存放。
包装材料： 依据法律。

---

模块 8. 接触控制和个体防护
工程控制： 尽可能安装封闭体系或局部排风系统，操作人员切勿直接接触。同时安装淋浴器和洗
眼器。
个人防护用品
呼吸系统防护： 防尘面具。依据当地和政府法规。
手部防护： 防护手套。
眼睛防护： 安全防护镜。如果情况需要，佩戴面具。
皮肤和身体防护： 防护服。如果情况需要，穿戴防护靴。

---

模块 9. 理化特性
外形（20°C）： 固体
外观： 晶体-粉末
颜色： 白色-极淡的黄色
4,4'-亚甲基双(2,6-二甲苯酚) 修改号码：5

---

模块 9. 理化特性
气味： 无资料
pH: 无数据资料
熔点：
176°C
沸点/沸程 无资料
闪点： 无资料
爆炸特性
爆炸下限： 无资料
爆炸上限： 无资料
密度： 无资料
溶解度：
[水] 无资料
[其他溶剂] 无资料

---

模块 10. 稳定性和反应性
化学稳定性： 一般情况下稳定。
危险反应的可能性： 未报道特殊反应性。
须避免接触的物质 氧化剂
危险的分解产物: 一氧化碳, 二氧化碳

---

模块 11. 毒理学信息
急性毒性： 无资料
对皮肤腐蚀或刺激： 无资料
对眼睛严重损害或刺激： 无资料
生殖细胞变异原性： 无资料
致癌性：
IARC = 无资料
NTP = 无资料
生殖毒性： 无资料

---

模块 12. 生态学信息
生态毒性：
鱼类： 无资料
甲壳类： 无资料
藻类： 无资料
残留性 / 降解性： 无资料
潜在生物累积 （BCF): 无资料
土壤中移动性
log水分配系数： 无资料
土壤吸收系数 （Koc）： 无资料
亨利定律 无资料
constant(PaM3/mol):

---

模块 13. 废弃处置
如果可能，回收处理。请咨询当地管理部门。建议在可燃溶剂中溶解混合，在装有后燃和洗涤装置的化学焚烧炉中
焚烧。废弃处置时请遵守国家、地区和当地的所有法规。

---

模块 14. 运输信息
联合国分类： 与联合国分类标准不一致
UN编号： 未列明
4,4'-亚甲基双(2,6-二甲苯酚) 修改号码：5

---

模块 15. 法规信息
《危险化学品安全管理条例》（2002年1月26日国务院发布，2011年2月16日修订）: 针对危险化学品的安全使用、
生产、储存、运输、装卸等方面均作了相应的规定。

---

模块16 - 其他信息
N/A

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4,4'-亚甲基双(2,6-二甲苯酚) 以 甲醇 、 二氯甲烷 、 氩 、 乙酸乙酯 为溶剂， 生成 4,4'-dihydroxy-3,3',5,5'-tetramethylbenzophenone
  参考文献：
  名称：

  US6087502

  摘要：

  公开号：
• 作为产物：
  描述：

  2,4,6-三甲酚 在 盐酸 、 potassium nitrososulfonate 、 sodium acetate 作用下， 以 丙酮 为溶剂， 生成 4,4'-亚甲基双(2,6-二甲苯酚)
  参考文献：
  名称：

  Magnusson,R., Acta Chemica Scandinavica (1947), 1964, vol. 18, p. 759 - 768

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Aromatics to bis-triquinane: a tandem oxidative dearomatization of bis-phenol, cycloaddition, photorearrangement and a rapid entry into carbocyclic framework of Xeromphalinone E
  作者：Deepak Singh、Umesh V. Chaudhari、Pradeep T. Deota

  DOI：10.1016/j.tet.2014.05.020

  日期：2014.7

  manner. The photochemical sigmatropic 1,2-acyl shift in 4b furnished 3 and monotriquinane 9 linked with a 9-acetoxy-9-methyl-endo-tricyclo[5,2,2,02,6]undeca-4,10-diene-8-one system. Two different pentasubstituted phenols 13 and 14 were also isolated during an attempted oxa-di-π-methane (ODPM) rearrangement of mono-adduct 5d via aromatisation of the cyclohexadienone ring. The photochemical behaviour of

  已经报道了从容易获得的2，6-二甲基苯酚8合成鸟状的双-三奎烷3的新方法，该鸟形的双-三奎烷3是与Xeromphaloneone E 1的骨架紧密相关的迷人的碳环骨架。的双-环己二烯酮合成6，22A - ë由四甲基双酚的氧化乙酰化7，20A - ë已经使用不同的反应条件下，两种不同的试剂的影响。双环己二酮6的环加成反应生成两个碳环，双加合物4b和单加合物5d以立体声控制的方式。在光化学σ迁移1,2-酰基移4B布置3和monotriquinane 9与9乙酸基-9-甲基-联内三环[5,2,2,0 2,6 ]十一碳-4,10-二烯8合一系统。通过环己二烯酮环的芳构化，在单加合物5d的oxa-di-π-甲烷（ODPM）重排过程中，还分离出了两种不同的五取代苯酚13和14。的双-环己二烯酮的光化学行为6，22A - ë 还已经在紫外线辐射下进行了研究，并且通过迁移和消除乙酸酯基团为每个双环己二酮分离了两种不同的芳构化产物。
• Tetraalkylated biscyclohexylamine derivatives
  申请人：Bayer Aktiengesellschaft

  公开号：US04293687A1

  公开（公告）日：1981-10-06

  New biscyclohexylamine derivatives represented by the following formula ##STR1## wherein R.sup.1 to R.sup.4 represent identical or different alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms; X is a single bond, a divalent aliphatic straight-chain or branched-chain group having from 2 to 10 carbon atoms, a methylene group, when at least one of the substituents R.sup.1 to R.sup.4 has more than 1 carbon atom, a divalent cycloaliphatic group having from 6 to 12 carbon atoms, a divalent aliphatic straight-chain or branched-chain group with cycloaliphatic substituents having from 6 to 8 carbon atoms, a divalent straight-chain or branched-chain dialkyl cyclohexane group having from 8 to 12 carbon atoms and a divalent straight-chain or branched-chain dialkyl benzene group having from 8 to 12 carbon atoms.

  新的双环己胺衍生物由以下公式表示 ##STR1## 在该公式中，R.sup.1到R.sup.4代表具有1到6个碳原子的相同或不同的烷基基团；X是一个单键，一个具有2到10个碳原子的二价脂肪直链或支链基团，一个亚甲基基团，当R.sup.1到R.sup.4的取代基中至少有一个碳原子多于1时，一个具有6到12个碳原子的二价环脂族基团，一个具有6到8个碳原子的带环脂族取代基的二价脂肪直链或支链基团，一个具有8到12个碳原子的二价直链或支链二烷基环己烷基团和一个具有8到12个碳原子的二价直链或支链二烷基苯基团。
• Resist lower-layer composition containing thermal acid generator, resist lower layer film-formed substrate, and patterning process
  申请人：Ohsawa Youichi

  公开号：US20100119970A1

  公开（公告）日：2010-05-13

  There is disclosed a resist lower-layer composition configured to be used by a multi-layer resist method used in lithography to form a layer lower than a photoresist layer acting as a resist upper layer film, wherein the resist lower-layer composition becomes insoluble or poorly-soluble in an alkaline developer after formation of the lower layer, and wherein the resist lower-layer composition comprises, at least, a thermal acid generator for generating an acid represented by the general formula (1) by heating at a temperature of 100° C. or higher. RCOO—CH 2 CF 2 SO 3 − H + (1) There can be provided a resist lower-layer composition in a multi-layer resist method (particularly, a two-layer resist method and a three-layer resist method), which composition is used to form a layer lower than a photoresist layer acting as a resist upper layer film, which composition becomes insoluble or poorly-soluble in an alkaline developer after formation of the lower layer, and which composition is capable of forming a resist lower layer film, intermediate-layered film, and the like having a higher anti-poisoning effect and exhibiting a lower load to the environment.

  揭示了一种抗性下层组合物，配置为在光刻中使用的多层抗性方法中使用，用于形成低于作为抗性上层膜的光刻胶层的一层，其中抗性下层组合物在形成下层后变得不溶解或难溶解于碱性显影剂中，且抗性下层组合物至少包括用于通过在100°C或更高温度下加热生成由通式（1）表示的酸的热酸发生剂。 可以提供一种抗性下层组合物，用于多层抗性方法（特别是双层抗性方法和三层抗性方法），该组合物用于形成低于作为抗性上层膜的光刻胶层的一层，该组合物在形成下层后变得不溶解或难溶解于碱性显影剂中，并且该组合物能够形成具有更高抗毒性效果并表现出对环境负荷较低的抗性下层膜、中间层膜等。
• Optically active compound and photosensitive resin composition
  申请人：——

  公开号：US20030211421A1

  公开（公告）日：2003-11-13

  A photoactive compound is used in combination with a photosensitizer, represented by the following formula (1): A −[( J ) m −( X-Pro )] n (1) wherein A represents a hydrophobic unit comprising at least one kind of hydrophobic groups selected from a hydrocarbon group and a heterocyclic group, J represents a connecting group, X-Pro represents a hydrophilic group protected by a protective group Pro which is removable by light exposure, m represents 0 or 1, and n represents an integer of not less than 1. The protective group Pro may be removable by light exposure in association with the photosensitizer (especially, a photo acid generator), or may be a hydrophobic protective group. The hydrophilic group may be a hydroxyl group or a carboxyl group. The photoactive compound has high sensitivity to a light source of short wavelength beams, for resist application, therefore, the photoactive compound is advantageously used for forming a pattern with high resolution.

  一种光活性化合物与光敏剂结合使用，由以下公式（1）表示： A −[( J ) m −( X-Pro )] n (1) 其中，A代表至少包括一种从烃基和杂环基中选择的疏水基的疏水单元，J代表连接基团，X-Pro代表由光照可去除的保护基团Pro保护的亲水基团，m代表0或1，n代表不少于1的整数。 保护基团Pro可以与光敏剂（特别是光酸发生剂）一起通过光照可去除，也可以是疏水保护基团。亲水基团可以是羟基或羧基。光活性化合物对短波长光源具有很高的敏感性，用于光刻应用，因此，该光活性化合物有利于形成具有高分辨率的图案。
• NOVEL TETRACARBOXYLIC DIANHYDRIDE, POLYIMIDE RESIN AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITIONS, PATTERNING PROCESS, METHOD FOR FORMING CURED FILM, INTERLAYER INSULATING FILM, SURFACE PROTECTIVE FILM, AND ELECTRONIC PARTS
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20190169211A1

  公开（公告）日：2019-06-06

  The present invention has been made in view of the circumstances herein. An object of the present invention is to provide: a tetracarboxylic dianhydride which can lead to a polyimide usable as a base resin of a photosensitive resin composition capable of forming a fine pattern and obtaining high resolution without impairing excellent characteristics such as mechanical strength and adhesiveness; a polyimide resin obtained by using the tetracarboxylic dianhydride; and a method for producing the polyimide resin. The tetracarboxylic dianhydride is shown by the following general formula (1).

  本发明是基于本文中的情况而作出的。本发明的目的是提供：一种四羧酸二酐，可导致聚酰亚胺，作为感光树脂组合物的基树脂，能够形成细微图案并获得高分辨率，同时不损害优异的特性，如机械强度和粘附性；通过使用该四羧酸二酐获得的聚酰亚胺树脂；以及生产该聚酰亚胺树脂的方法。该四羧酸二酐由以下通用式（1）所示。

表征谱图