【課題】良好なCD均一性(CDU)を有するレジストパターンを製造することができる塩及び該塩を含むレジスト組成物を提供することを目的とする。【解決手段】式(I)で表される塩、酸発生剤及びレジスト組成物。[式中、R1及びR2はそれぞれアルキル基を表す。R3及びR4はそれぞれハロゲン原子、フッ化アルキル基又はアルキル基を表し、該アルキル基又は該フッ化アルキル基に含まれる−CH2−は、−O−又は−CO−で置き換わっていてもよい。m3は0〜3のいずれかの整数、m4は0〜5のいずれかの整数を表す。Q1及びQ2はそれぞれフッ素原子又はペルフルオロアルキル基を表す。L1は飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基で置換されていてもよい。Y1は置換基を有していてもよいメチル基又は置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基を表す。]【選択図】なし
这项技术旨在提供含有盐和该盐的光刻胶组合物,可以制造具有良好CD均一性(CDU)的光刻图案。解决方案包括由式(I)表示的盐、酸发生剂和光刻胶组合物。在式中,R1和R2分别表示烷基。R3和R4分别表示卤素原子、
氟化烷基或烷基,其中包含在该烷基或
氟化烷基中的-
CH2-可以被-O-或-CO-替换。m3代表0到3之间的任何整数,m4代表0到5之间的任何整数。Q1和Q2分别表示
氟原子或
全氟烷基。L1表示饱和碳氢基,其中碳氢基中的氢原子可以被
氟原子或羟基取代。Y1表示带有取代基的甲基或带有取代基的脂
环烃基。【选择图】无