4-[2-[4-羟基-3,5-二(羟基甲基)苯基]丙-2-基]-2,6-二(羟基甲基)苯酚 | 3957-22-0

• 物质功能分类: 有机原料 - 醇、酚、酚醇类化合物及衍生物 - 环醇
• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 中文名称: 4-[2-[4-羟基-3,5-二(羟基甲基)苯基]丙-2-基]-2,6-二(羟基甲基)苯酚
• 中文别名: 4-【2-【4-羟基-3,5-双(羟甲基)苯基】丙-2-基】-2,6-双(羟甲基)苯酚；2,2-二[4-羟基-3,5-二(羟甲基)苯基]丙烷
• 英文名称: 5,5'-isopropylidenebis(metaxylene-2,α,α'-triol)
• 英文别名: 2,2-bis(3,5-bis(hydroxymethyl)-4-hydroxyphenyl)propane；2,2-Propandiyl-4,4'-bis(2,6-dihydroxymethylphenol)；2,2-bis(4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)propane；5,5'-isopropylidenebis(m-xylene-2,α,α'-triol)；2,2-bis(4-hydroxy-3,5-dihydroxymethylphenyl)propane；2,2-(4-hydroxy-3,5-dihydroxymethyl-phenyl)-propane；1,3-Benzenedimethanol, 5,5'-(1-methylethylidene)bis[2-hydroxy-；4-[2-[4-hydroxy-3,5-bis(hydroxymethyl)phenyl]propan-2-yl]-2,6-bis(hydroxymethyl)phenol
• CAS: 3957-22-0
• 化学式: C₁₉H₂₄O₆
• 分子量: 348.396
• InChiKey: ZRIRUWWYQXWRNY-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  564.8±45.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.367±0.06 g/cm3(Predicted)
• 溶解度：
  可溶于DMSO（少许）、甲醇（少许）

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.6
• 重原子数：
  25
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.37
• 拓扑面积：
  121
• 氢给体数：
  6
• 氢受体数：
  6

安全信息

• 海关编码：
  2907299090
• 危险性防范说明：
  P280,P305+P351+P338
• 危险性描述：
  H302
• 储存条件：
  存储条件：室温、干燥密封

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4-[2-[4-羟基-3,5-二(羟基甲基)苯基]丙-2-基]-2,6-二(羟基甲基)苯酚 在 偶氮二异丁腈 、 sodium hydride 、 potassium carbonate 作用下， 以 四氢呋喃 、 N,N-二甲基甲酰胺 、 丙酮 、 mineral oil 为溶剂， 反应 65.5h， 生成 S-[3-[[3-(3-acetylsulfanylpropoxymethyl)-5-[2-[3,5-bis(3-acetylsulfanylpropoxymethyl)-4-ethoxyphenyl]propan-2-yl]-2-ethoxyphenyl]methoxy]propyl] ethanethioate
  参考文献：
  名称：

  Investigations of thiol-modified phenol derivatives for the use in thiol–ene photopolymerizations

  摘要：

  硫醚-烯光聚合在学术研究中越来越受到关注。由于其独特特性，硫醚-烯光聚合在涂层和牙科修复方面具有有趣的应用。在大多数研究中，相对柔韧和亲水性的酯衍生物，即对羟基丙酸四羟基戊酸四酯（PETMP），被作为硫醚组分进行研究。因此，在本研究中，我们鼓励研究更具疏水性的无酯硫改性双酚和三酚衍生物在硫醚-烯光聚合中的性能。为此，通过将硫乙酸加成到适当的烯丙基改性前体中，并随后水解，合成了具有四至六个硫基团的六种不同硫改性双酚和三酚衍生物。与PETMP相比，在使用1,3,5-三烯基-1,3,5-三嗪-2,4,6-三酮（TATATO）作为烯基衍生物的硫醚-烯光聚合中，可以获得更好的抗弯强度和弹性模量。特别是，在水中存储后，抗弯强度和弹性模量比PETMP参考系统高出一倍。

  DOI：

  10.3762/bjoc.10.180
• 作为产物：
  描述：

  双酚芴 生成 4-[2-[4-羟基-3,5-二(羟基甲基)苯基]丙-2-基]-2,6-二(羟基甲基)苯酚
  参考文献：
  名称：

  CROSSLINKING AGENT, NEGATIVE RESIST COMPOSITION, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE NEGATIVE RESIST COMPOSITION

  摘要：

  本发明涉及一种负型光阻组合物，通过暴露于电子束或极紫外线下表现出优异的感光性和分辨率，以及适用于该光阻组合物的新型交联剂和使用该光阻组合物的图案形成方法。该负型光阻组合物包括：（A）一种聚酚化合物，其分子中包含两个或更多酚羟基，并且分子量为300至3,000，（B）一种酸发生剂，通过暴露于波长为248nm或更短的活性能量射线而直接或间接产生酸，以及（C）一种由以下化学式（1）表示的交联剂。（化学式（1）中所示的符号在说明中有定义）。

  公开号：

  US20120115084A1

文献信息

• Novolac resin-containing resist underlayer film-forming composition using bisphenol aldehyde
  申请人：NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.

  公开号：US10017664B2

  公开（公告）日：2018-07-10

  Resist underlayer film-forming composition for forming resist underlayer film with high dry etching resistance, wiggling resistance and exerts good flattening property and embedding property for uneven parts, including resin obtained by reacting organic compound A including aromatic ring and aldehyde B having at least two aromatic hydrocarbon ring groups having phenolic hydroxy group and having structure wherein the aromatic hydrocarbon ring groups are bonded through tertiary carbon atom. The aldehyde B may be compound of Formula (1): The obtained resin may have a unit structure of Formula (2): Ar1 and Ar2 each are C6-40 aryl group. The organic compound A including aromatic ring may be aromatic amine or phenolic hydroxy group-containing compound. The composition may contain further solvent, acid and/or acid generator, or crosslinking agent. Forming resist pattern used for semiconductor production, including forming resist underlayer film by applying the resist underlayer film-forming composition onto semiconductor substrate and baking it.

  用于形成具有高干法蚀刻抗性、抗扭曲性并具有良好的平整性和嵌入性能的抗蚀底层膜形成组合物，包括通过使含有芳香环的有机化合物A和至少具有两个含酚羟基的芳香烃环团的醛B反应而获得的树脂，并具有芳香烃环团通过三级碳原子键合的结构。醛B可以是化合物的化学式（1）： 所得的树脂可能具有化学式（2）的单元结构： Ar1和Ar2各自是C6-40芳基团。含有芳香环的有机化合物A可能是芳香胺或含酚羟基的化合物。该组合物可能进一步含有溶剂、酸和/或酸发生剂，或交联剂。用于半导体生产的形成抗蚀图案，包括通过将抗蚀底层膜形成组合物涂覆在半导体衬底上并对其进行烘烤来形成抗蚀底层膜。
• [EN] NOVEL GEMINI SURFACTANTS AND THEIR USE<br/>[FR] NOUVEAUX TENSIOACTIFS GÉMINI ET LEUR UTILISATION
  申请人：EMPIRE TECHNOLOGY DEV LLC

  公开号：WO2015084304A1

  公开（公告）日：2015-06-11

  Disclosed herein are gemini surfactants, and methods for making and using these gemini surfactants. These gemini surfactants may be incorporated in paints and coatings to provide hydrophilic and/or self-cleaning properties. Surfactants are compounds composed of both hydrophilic and hydrophobic or lipophilic groups. In view of their dual hydrophilic and hydrophobic nature, surfactants tend to concentrate at the interfaces of aqueous mixtures; the hydrophilic part of the surfactant orients itself towards the aqueous phase and the hydrophobic part orients itself away from the aqueous phase.

  本文披露了双子表面活性剂，以及制备和使用这些双子表面活性剂的方法。这些双子表面活性剂可以被用于涂料中，以提供亲水性和/或自洁性能。表面活性剂是由亲水性和疏水性或亲脂性基团组成的化合物。由于它们既具有亲水性又具有疏水性的特性，表面活性剂倾向于在水性混合物的界面处聚集；表面活性剂的亲水部分朝向水相，而疏水部分朝向远离水相的方向排列。
• Optically active compound and photosensitive resin composition
  申请人：——

  公开号：US20030211421A1

  公开（公告）日：2003-11-13

  A photoactive compound is used in combination with a photosensitizer, represented by the following formula (1): A −[( J ) m −( X-Pro )] n (1) wherein A represents a hydrophobic unit comprising at least one kind of hydrophobic groups selected from a hydrocarbon group and a heterocyclic group, J represents a connecting group, X-Pro represents a hydrophilic group protected by a protective group Pro which is removable by light exposure, m represents 0 or 1, and n represents an integer of not less than 1. The protective group Pro may be removable by light exposure in association with the photosensitizer (especially, a photo acid generator), or may be a hydrophobic protective group. The hydrophilic group may be a hydroxyl group or a carboxyl group. The photoactive compound has high sensitivity to a light source of short wavelength beams, for resist application, therefore, the photoactive compound is advantageously used for forming a pattern with high resolution.

  一种光活性化合物与光敏剂结合使用，由以下公式（1）表示： A −[( J ) m −( X-Pro )] n (1) 其中，A代表至少包括一种从烃基和杂环基中选择的疏水基的疏水单元，J代表连接基团，X-Pro代表由光照可去除的保护基团Pro保护的亲水基团，m代表0或1，n代表不少于1的整数。 保护基团Pro可以与光敏剂（特别是光酸发生剂）一起通过光照可去除，也可以是疏水保护基团。亲水基团可以是羟基或羧基。光活性化合物对短波长光源具有很高的敏感性，用于光刻应用，因此，该光活性化合物有利于形成具有高分辨率的图案。
• [EN] NOVEL COMPOUND, SEMICONDUCTOR MATERIAL, AND METHODS FOR MANUFACTURING COATING AND SEMICONDUCTOR USING THE SAME<br/>[FR] NOUVEAU COMPOSÉ, MATÉRIAU SEMI-CONDUCTEUR, PROCÉDÉS DE FABRICATION DE REVÊTEMENT ET SEMI-CONDUCTEUR L'UTILISANT
  申请人：MERCK PATENT GMBH

  公开号：WO2018115043A1

  公开（公告）日：2018-06-28

  An object is to provide a semiconductor material and coating having high solubility in solvents and having advantageous filling property, high heat resistance, and/or high etching resistance. Another object is to provide a method for manufacturing a semiconductor using the semiconductor material. Still another object is to provide a novel compound. Provided are: a semiconductor material consisting of a specific aromatic hydrocarbon ring derivative; methods for manufacturing a coating and a semiconductor using the semiconductor material; and a compound consisting of a specific aromatic hydrocarbon ring derivative.

  提供一种在溶剂中具有高溶解性且具有有利的填充性能、高耐热性和/或高耐蚀性的半导体材料和涂层是一个目标。另一个目标是提供一种使用该半导体材料制造半导体的方法。还有一个目标是提供一种新型化合物。提供的是：由特定芳香烃环衍生物组成的半导体材料；使用该半导体材料制造涂层和半导体的方法；以及由特定芳香烃环衍生物组成的化合物。
• 방향족 하이드록시기를 포함하는 화합물, 이를 포함하는 광경화성 수지 조성물
  申请人：DONGWOO FINE-CHEM CO., LTD. 동우 화인켐 주식회사(119990493297) Corp. No ▼ 214911-0005738BRN ▼125-85-13136

  公开号：KR20150028686A

  公开（公告）日：2015-03-16

  본 발명은 방향족 하이드록시기를 포함하는 신규한 화합물 및 광경화성 화합물, 광 개시제 및 용제를 포함하는 광경화성 수지 조성물에 있어서, 상기 광경화성 화합물은 1개 이상의 방향족 하이드록시기 및 2개 이상의 광경화성 비닐기를 포함하는 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 광경화성 수지 조성물에 관한 것이다.

  该专利涉及一种包含芳香羟基的新化合物以及包含光固化性化合物、光引发剂和溶剂的光固化性树脂组合物，在所述光固化性化合物中包含至少一个芳香羟基和至少两个光固化性乙烯基的化合物的光固化性树脂组合物。