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2-甲基-5-亚甲基己二酸 | 5363-70-2

中文名称
2-甲基-5-亚甲基己二酸
中文别名
——
英文名称
hex-1-ene-2,5-dicarboxylic acid
英文别名
1-hexene-2,5-dicarboxylic acid;2-methyl-5-methylen-adipic acid;2-Methyl-5-methylen-adipinsaeure;Hexen-(2)-dicarbonsaeure-(2.5);dimere Methacrylsaeure;2-methyl-5-methylenehexanedioic acid;2-Methyl-5-methyleneadipic acid;2-methyl-5-methylidenehexanedioic acid
2-甲基-5-亚甲基己二酸化学式
CAS
5363-70-2
化学式
C8H12O4
mdl
——
分子量
172.181
InChiKey
BMQHCCUIUKBSNF-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
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计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    1.1
  • 重原子数:
    12
  • 可旋转键数:
    5
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.5
  • 拓扑面积:
    74.6
  • 氢给体数:
    2
  • 氢受体数:
    4

安全信息

  • 海关编码:
    2917190090

SDS

SDS:dae7b0773ba4c3a3a6caeabd346dc0a6
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文献信息

  • Thermal dimerization of alkali and alkaline earth acrylate–but-3-enoate and methacrylate–but-3-enoate binary systems in the solid state
    作者:Fumihiko Akutsu、Kaoru Aoyagi、Nozomu Nishimura、Masaaki Kudoh、Yoshio Kasashima、Mari Inoki、Kiyoshi Naruchi
    DOI:10.1039/p29960000889
    日期:——
    The solid state thermal reaction of binary salts obtained from a solution of an equimolar mixture of alkali or alkaline earth salts of but-3-enoic acid and methacrylic acid (3-BA–MA), after conversion to the methyl ester, gave mainly dimethyl (E)-hex-1-ene-1,5-dicarboxylate as a novel cross-coupled dimer. The highest conversion (62.2%) to the cross-coupled dimer was obtained using the potassium salts
    由丁-3-烯酸和甲基丙烯酸(3-BA-MA)的碱或碱土属盐的等摩尔混合物形成的二元盐的固态热反应,转化为甲酯后,主要生成二甲基(E)-己-1-烯-1,5-二羧酸酯作为新型的交叉偶联的二聚体。使用盐在230°C加热2小时,可以得到最高的交联二聚体转化率(62.2%)。同样,交联的二聚体的甲酯,是由3-BA和丙烯酸AA)的盐制得的,是(E)-戊-1-烯-1,5-二羧酸二甲酯(E)-戊-1-烯-1,5-二羧酸二甲酯。异构体酯二甲基(Ë也获得了)-戊-2-烯-1,5-二羧酸酯。3-BA–MA和3-BA–AA的X射线衍射图表明存在新相,不同于各个盐。选择性的交叉偶联二聚反应,而没有将3-BA重新排列为巴豆酸,聚合反应和交联反应,这是由于二元盐的新结晶相以及在单体盐和二聚盐之间形成了固溶体晶体。
  • Method for producing hydroxyphenyl acrylate monomers and polymers
    申请人:Rohm and Haas Company
    公开号:EP1970367A3
    公开(公告)日:2011-07-06
    New syntheses of phenolic acrylate monomers are provided as well as polymers comprising such phenolic acrylate monomers. Preferred polymers of the invention are useful as a resin component of chemically-amplified positive-acting resists.
    本发明提供了苯酚丙烯酸酯单体的新合成方法,以及包含此类苯酚丙烯酸酯单体的聚合物。本发明的优选聚合物可用作化学增强正作用光阻的树脂组分。
  • Thermal cross-coupled dimerisation of alkali and alkaline earth metal salts of methacrylic–crotonic acid binary systems in this solid state
    作者:Masaaki Kudoh、Kiyoshi Naruchi、Fumihiko Akutsu、Masatoshi Miura
    DOI:10.1039/c39920000105
    日期:——
    Thermal reaction of sodium and potassium salts of methacrylic–crotonic acids in the solid state selectively affords a cross-coupled dimer, dimethyl hex-1-ene-2,4-dicarboxylate.
    固态甲基丙烯酸-巴豆酸的钠盐和盐的热反应选择性地产生交叉偶联二聚体,即己-1-烯-2,4-二甲酸二甲酯。
  • Radiation-sensitive resin composition
    申请人:——
    公开号:US20040241580A1
    公开(公告)日:2004-12-02
    A radiation-sensitive resin composition comprising an acid-labile group-containing resin and a photoacid generator is disclosed. The resin has a structure of the formula (1), 1 wherein R 1 represents a hydrogen atom, a monovalent acid-labile group, an alkyl group having 1-6 carbon atoms which does not have an acid-labile group, or an alkylcarbonyl group having 2-7 carbon atoms which does not have an acid-labile group, X 1 represents a linear or branched fluorinated alkyl group having 1-4 carbon atoms, and R 2 represents a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1-10 carbon atoms, or a linear or branched fluorinated alkyl group having 1-10 carbon atoms. The resin composition exhibits high transmittance of radiation, high sensitivity, resolution, and pattern shape, and is useful as a chemically amplified resist in producing semiconductors at a high yield.
    本发明公开了一种辐射敏感的树脂组合物,包括含有酸敏感基团的树脂和光酸发生剂。该树脂的结构为式(1),其中R1代表氢原子、一价酸敏感基团、具有1-6个碳原子且不具有酸敏感基团的烷基或具有2-7个碳原子且不具有酸敏感基团的烷基羰基基团,X1代表具有1-4个碳原子的线性或支链代烷基团,R2代表氢原子、具有1-10个碳原子的线性或支链烷基团或具有1-10个碳原子的线性或支链代烷基团。该树脂组合物表现出辐射的高透过率、高敏感性、高分辨率和良好的图案形状,并可作为化学放大型抗蚀剂在高产率下制造半导体。
  • Phenolic polymers and photoresists comprising same
    申请人:Cameron James F.
    公开号:US20080227031A1
    公开(公告)日:2008-09-18
    The present invention relates to new polymers that contain phenolic groups spaced from a polymer backbone and photoacid-labile group. Preferred polymers of the invention are useful as a component of chemically-amplified positive-acting resists.
    本发明涉及一种含有苯酚基与聚合物主链相隔离和光酸解性基团的新型聚合物。本发明中的优选聚合物可用作化学增强正向感光胶的组分。
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