| 1402933-04-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 异戊烯醇脂质
• CAS: 1402933-04-3
• 化学式: C₁₃H₁₅F₂O₆S*C₂₀H₂₆I
• 分子量: 730.652
• InChiKey: FBPMNUIHZJXEDC-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.47
• 重原子数：
  43.0
• 可旋转键数：
  6.0
• 环数：
  6.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.58
• 拓扑面积：
  100.57
• 氢给体数：
  0.0
• 氢受体数：
  6.0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  在 sodium tetrahydroborate 、 水 、 copper(II) benzoate 作用下， 以 氯苯 、 乙腈 为溶剂， 反应 3.08h， 生成
  参考文献：
  名称：

  PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING PHOTORESIST PATTERN

  摘要：

  一种包括(A)具有含酸敏感基团结构单元和含内酯环结构单元的树脂，以及(B)由式(I)表示的盐的光刻胶组合物：其中Q1和Q2分别独立表示氟原子或C1-C6全氟烷基基团，n表示0或1，L1表示单键或C1-C10脂肪二基基团，其中亚甲基基团可被氧原子或羰基取代，但当n为0时，L1不是单键，R1表示羟基或被保护基团保护的羟基，Z+表示有机阳离子。

  公开号：

  US20120270153A1
• 作为产物：
  描述：

  5-(Imidazole-1-carbonyl)adamantan-2-one 在 盐酸 、 lithium aluminium tetrahydride 、 硫酸 作用下， 以 四氢呋喃 、 甲醇 、 氯仿 、 甲苯 、 乙腈 为溶剂， 反应 34.5h， 生成
  参考文献：
  名称：

  PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING PHOTORESIST PATTERN

  摘要：

  一种包括(A)具有含酸敏感基团结构单元和含内酯环结构单元的树脂，以及(B)由式(I)表示的盐的光刻胶组合物：其中Q1和Q2分别独立表示氟原子或C1-C6全氟烷基基团，n表示0或1，L1表示单键或C1-C10脂肪二基基团，其中亚甲基基团可被氧原子或羰基取代，但当n为0时，L1不是单键，R1表示羟基或被保护基团保护的羟基，Z+表示有机阳离子。

  公开号：

  US20120270153A1

文献信息

• 塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
  申请人：住友化学株式会社

  公开号：JP2017095448A

  公开（公告）日：2017-06-01

  【課題】良好なＣＤ均一性でレジストパターンを製造できる塩、酸発生剤及びこれを含むレジスト組成物を提供することを目的とする。【解決手段】式（Ｉ）で表される塩、酸発生剤及びレジスト組成物。［式中、Ｑ1及びＱ2は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表す。Ｌb1は、炭素数１〜２４の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる−ＣＨ２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−に置き換わっていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基で置換されていてもよい。Ａｄは、アダマンタントリイル基を表す。Ｚ＋は、有機カチオンを表す。］【選択図】なし

  目的是提供一种能够制造具有良好CD均一性的光阻图案的盐、酸发生剂以及包含它们的光阻组合物。解决方案是由式（I）表示的盐、酸发生剂和光阻组合物。【式中，Q1和Q2分别独立地表示氟原子或含有1-6个碳原子的全氟烷基。Lb1表示含有1-24个碳原子的二价饱和烷基，该饱和烷基中的-CH2-可以被-O-或-CO-取代，该饱和烷基中的氢原子可以被氟原子或羟基取代。Ad表示孔雀石脂基。Z+表示有机阳离子。】【选择图】无
• 化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
  申请人：住友化学株式会社

  公开号：JP2016047817A

  公开（公告）日：2016-04-07

  【課題】欠陥が少なく、良好な形状でレジストパターンを製造することができるレジスト組成物の提供。【解決手段】式（Ｉａ）で表される基を有する化合物に由来する構造単位を有する樹脂及びレジスト組成物。［Ｒ1及びＲ2は各々独立にＣ１〜８のフッ素化アルキル基；Ｗは置換/無置換のＣ５〜１８の脂環式炭化水素基；＊は単結合又は置換/無置換のＣ１〜１０の飽和炭化水素基を介してハロゲン置換/無置換の炭素数１〜６のアルキル基からなるオレフィン部位を有する基；Ｗはシクロヘキサントリイル基、アダマンタントリイル基又はノルボルナントリイル基］【選択図】なし

  提供具有能够在少量缺陷且形状良好的条件下制造光刻图案的光刻胶组合物。该组合物包括具有由化合物表示的基团所导致的结构单元的树脂和光刻胶组合物。[其中，R1和R2各自独立地是C1-8的氟化烷基；W是取代/未取代的C5-18脂环烃基；*通过单键或经由取代/未取代的C1-10饱和烃基连接到卤代/未卤代的炭素数为1-6的烷基而具有烯烃部分；W是环己烷基、金刚烷基或壬烯基]【选择图】无
• 塩、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
  申请人：住友化学株式会社

  公开号：JP2015063472A

  公开（公告）日：2015-04-09

  【課題】良好なＣＤ均一性のレジストパターンを製造することができる塩及びレジスト組成物を提供する。【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。［式（Ｉ）中、Ｑ1及びＱ2は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表す。Ｌb1は、炭素数１〜２４の２価の飽和炭化水素基を表す。Ａは、環を構成する構造として−Ｓ−ＣＯ−を有する炭素数２〜３６の複素環基を表す。該複素環基の水素原子はハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数１〜１２の飽和炭化水素基、炭素数６〜２４の芳香族炭化水素基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数２〜４のアシル基又は炭素数２〜４のアシルオキシ基で置換されていてもよい。Ｚ＋は、有機対イオンを表す。］【選択図】なし

  提供可以制造良好CD均一性的盐和光刻胶组合物。盐由式（I）表示。在式（I）中，Q1和Q2分别独立表示氟原子或含有1-6个碳原子的全氟烷基。Lb1表示含有1-24个碳原子的二价饱和烷基。A表示构成环的结构，是含有2-36个碳原子的复杂环基，该复杂环基的氢原子可以被卤原子、羟基、含有1-12个碳原子的饱和烷基、含有6-24个碳原子的芳香族烷基、含有1-12个碳原子的烷氧基、含有2-4个碳原子的酰基或含有2-4个碳原子的酰氧基取代。Z+表示有机阳离子。【选择图】无
• JP5879834
  申请人：——

  公开号：——

  公开（公告）日：——
• JP2015/27992
  申请人：——

  公开号：——

  公开（公告）日：——