5-(Imidazole-1-carbonyl)adamantan-2-one | 1379588-15-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: 5-(Imidazole-1-carbonyl)adamantan-2-one
• CAS: 1379588-15-4
• 化学式: C₁₄H₁₆N₂O₂
• 分子量: 244.293
• InChiKey: ZWSYYTUWRDDFGR-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.8
• 重原子数：
  18
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  5.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.64
• 拓扑面积：
  52
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  5-(Imidazole-1-carbonyl)adamantan-2-one 在 硫酸 作用下， 以 氯仿 、 甲苯 为溶剂， 反应 14.0h， 生成 1-甲氧基羰基-金刚烷-4-酮乙基酮
  参考文献：
  名称：

  PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING PHOTORESIST PATTERN

  摘要：

  一种包括(A)具有含酸敏感基团结构单元和含内酯环结构单元的树脂，以及(B)由式(I)表示的盐的光刻胶组合物：其中Q1和Q2分别独立表示氟原子或C1-C6全氟烷基基团，n表示0或1，L1表示单键或C1-C10脂肪二基基团，其中亚甲基基团可被氧原子或羰基取代，但当n为0时，L1不是单键，R1表示羟基或被保护基团保护的羟基，Z+表示有机阳离子。

  公开号：

  US20120270153A1
• 作为产物：
  描述：

  2-金刚烷酮-5-甲酸 、 N,N'-羰基二咪唑 以 乙腈 为溶剂， 反应 1.0h， 生成 5-(Imidazole-1-carbonyl)adamantan-2-one
  参考文献：
  名称：

  塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

  摘要：

  提供含有盐的光刻胶组合物和制备光刻图案的方法，可在良好的线边粗糙度（LER）下制造光刻图案。 该盐由式（I）表示。【式（I）中，Q1和Q2分别独立地表示氟原子或C1-6的全氟烷基；R1和R2分别独立地表示H、氟原子或C1-6的全氟烷基；z表示0到6之间的任何整数，当z大于等于2时，多个R1和R2可以相同也可以不同；X1表示*−CO−O−（其中，*表示与C（R1）（R2）或C（Q1）（Q2）的结合位。）等；L1表示C1-36的二价烃基等；R3表示H或C1-6的烷基；Z+表示有机阳离子。】

  公开号：

  JP2019006761A

文献信息

• 化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
  申请人：住友化学株式会社

  公开号：JP2018203716A

  公开（公告）日：2018-12-27

  【課題】良好なマスクエラーファクター（ＭＥＦ）でレジストパターンを製造することができる化合物、樹脂及びレジスト組成物を提供する。【解決手段】例えば、式（Ｉ−１）、式（Ｉ−１２）で表される化合物、この化合物に由来する構造単位を含む樹脂、この樹脂を含むレジスト組成物。【選択図】なし

  可以提供具有良好掩模误差因子（ＭＥＦ）的化合物、树脂和光刻胶组合物，用于制造光刻图案。例如，包括由式（Ｉ−１）和式（Ｉ−１２）表示的化合物，包含这些化合物来源的结构单元的树脂，以及包含该树脂的光刻胶组合物。【选择图】无
• 염 및 이를 포함하는 포토레지스트 조성물
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL CO., LTD. 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤(519980961735)

  公开号：KR20150069543A

  公开（公告）日：2015-06-23

  화학식 I로 나타내어지는 염. 화학식 I 상기 화학식 I에서, Q 및 Q는 각각 독립적으로, 불소 원자 또는 C-C 퍼플루오로알킬 그룹을 나타내고; L은 C-C 2가 포화 탄화수소 그룹 등을 나타내고; R, R, R 및 R는 각각의 경우 독립적으로, C-C 지방족 탄화수소 그룹 등을 나타내고; Z는 유기 짝이온을 나타낸다.

  这是您提供的文本的中文翻译： 化学式I表示的盐。在化学式I中，Q和Q分别独立表示氟原子或C-C全氟烷基基团；L表示C-C 2饱和烃基团等；R、R、R和R分别独立表示C-C脂肪族烃基团等；Z表示有机离子。
• SALT, ACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20160168115A1

  公开（公告）日：2016-06-16

  A salt represented by formula (I): wherein R 1 and R 2 independently represent a hydrogen atom, a hydroxy group or a C 1 to C 12 hydrocarbon group in which a methylene group may be replaced by a —O— or —CO—; m and n independently represent 1 or 2; Ar represents an optionally substituted phenyl group; Q 1 and Q 2 independently represent a fluorine atom or a C 1 to C 6 perfluoroalkyl group, A 1 represents a single bond, a C 1 to C 24 alkanediyl group or the like, and Y represents an optionally substituted C 1 to C 18 alkyl group or monovalent C 3 to C 18 alicyclic hydrocarbon group, and a methylene group therein may be replaced by a —O—, O— or —SO 2 —, provided that the alkyl group or the alicyclic hydrocarbon group has at least one substituent, or at least one methylene group contained therein is replaced by a —O—, —CO— or —SO 2 —.

  一种由化学式（I）表示的盐：其中R1和R2分别表示氢原子、羟基或C1到C12的烃基，其中亚甲基可能被—O—或—CO—取代；m和n分别表示1或2；Ar表示可选取代的苯基；Q1和Q2分别表示氟原子或C1到C6的全氟烷基基团，A1表示单键，C1到C24的烷二基基团或类似物，Y表示可选取代的C1到C18的烷基基团或一价的C3到C18的脂环烃基团，其中的亚甲基团可能被—O—、O—或—SO2—取代，前提是烷基基团或脂环烃基团至少有一个取代基，或其中至少一个亚甲基团被—O—、—CO—或—SO2—取代。
• COMPOUND, RESIN AND PHOTORESIST COMPOSITION
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20160244400A1

  公开（公告）日：2016-08-25

  A compound represented by formula (I): wherein R 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group where a hydrogen atom can be replaced by a halogen atom, L 1 represents a C1-C8 fluorinated alkanediyl group, X 1 represents *—CO—O—, *—O—CO—, *—O—CO—O— or *—O— where * represents a binding site to L 1 , and R 2 represents a C1-C18 hydrocarbon group in which a methylene group can be replaced by an oxygen atom, a carbonyl group or a sulfonyl group and in which a hydrogen atom can be replaced by a hydroxy group, or in which two hydrogen atoms can be each replaced by an oxygen atom forming one ketal structure together with a C1-C8 alkanediyl group bonded to the oxygen atom and a hydrogen atom in said ketal structure can be replaced by a fluorine atom.

  化合物的化学式（I）表示如下： 其中，R1代表氢原子、卤素原子或C1-C6烷基，其中氢原子可以被卤素原子取代，L1代表C1-C8氟代烷二基基团，X1代表*—CO—O—、*—O—CO—、*—O—CO—O—或*—O—，其中*代表与L1结合位点，R2代表C1-C18烃基团，其中亚甲基基团可以被氧原子、羰基团或磺酰基团取代，其中氢原子可以被羟基取代，或其中两个氢原子可以分别被氧原子取代，与氧原子结合形成一个与氧原子结合的C1-C8烷二基基团一起形成一个缩醛结构，所述缩醛结构中的氢原子可以被氟原子取代。
• SALT, PHOTORESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCING PHOTORESIST PATTERN
  申请人：ANRYU Yukako

  公开号：US20120328986A1

  公开（公告）日：2012-12-27

  A salt represented by formula (I): wherein Q 1 and Q 2 independently each represent a fluorine atom or a C1-C6 perfluoroalkyl group, n represents 0 or 1, L l represents a single bond or a C1-C10 alkanediyl group in which a methylene group may be replaced by an oxygen atom or carbonyl group, provided that L l is not a single bond when n is 0, ring W represents a C3-C36 aliphatic ring in which a methylene group may be replaced by an oxygen atom, a sulfur atom, a carbonyl group or a sulfonyl group and in which a hydrogen atom may be replaced by a hydroxyl group, a C1-C12 alkyl group or a C1-C12 alkoxy group, R l represents a hydroxyl group or a hydroxyl group protected by a protecting group, and Z + represents an organic cation.

  一种用化学式(I)表示的盐：其中Q1和Q2分别表示氟原子或C1-C6全氟烷基基团，n表示0或1，Ll表示单键或C1-C10脂肪二基团，其中一个亚甲基基团可被氧原子或羰基取代，但当n为0时，Ll不是单键，环W表示C3-C36脂肪环，其中一个亚甲基基团可被氧原子、硫原子、羰基或磺酰基取代，氢原子可被氢氧基、C1-C12烷基基团或C1-C12烷氧基取代，Rl表示氢氧基或受保护的氢氧基，Z+表示有机阳离子。