【課題】良好なCD均一性(CDU)でレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を得ることができる塩、酸発生剤を提供することを目的とする。【解決手段】式(I0)で表される塩、これを含む酸発生剤及びレジストレジスト組成物。[式中、Q1及びQ2は、それぞれフッ素原子又はペルフルオロアルキル基;R1及びR2は、それぞれ水素原子、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基;zは0〜6の整数;X1は、*−CO−O−、*−O−CO−等;L10は、置換基を有していてもよい炭化水素基;L2及びL3は、それぞれ、単結合又はアルカンジイル基;R5は、水素原子又は置換基を有していてもよい炭化水素基;但し、L2、L3及びR5に含まれる炭素数の合計は2以上;Z+は有機カチオンを表す。]【選択図】なし
【课题】提供一种能够获得良好CD均匀性(CDU)的 resist 组成物盐、酸发生剂。
【解决方案】式(I0)表示的盐,包含该盐的酸发生剂以及 resist 组成物。其中,Q1和Q2分别表示
氟原子或
全氟烷基;R1和R2分别表示氢原子、
氟原子或
全氟烷基;z是0到6的整数;X1表示 *-CO-O-、*-O-CO-等;L10是可能含有取代基的碳氢基;
L2和L3分别表示单键或烷基;R5表示氢原子或可能含有取代基的碳氢基;但
L2、L3和R5中包含的碳原子总数应大于2;Z+表示有机阳离子。【选择图】无