丙烯酸甲基环己酯 | 178889-47-9

• 物质功能分类: 有机原料 - 羧酸类化合物及衍生物
• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 中文名称: 丙烯酸甲基环己酯
• 中文别名: 1-甲基丙烯酸环己酯
• 英文名称: Propenoic acid methyl cyclohexyl ester
• 英文别名: propenoic acid methylcyclohexyl ester；acrylic acid methylcyclohexyl ester；methylcyclohexyl acrylate；1-Methylcyclohexyl prop-2-enoate；(1-methylcyclohexyl) prop-2-enoate
• CAS: 178889-47-9
• 化学式: C₁₀H₁₆O₂
• mdl: MFCD08704214
• 分子量: 168.236
• InChiKey: CJCGDEYGAIPAEN-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  118-120 °C(Press: 35 Torr)
• 密度：
  0.9620 g/cm3

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.7
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.7
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  苯酚 、 丙烯酸甲基环己酯 以48%的产率得到
  参考文献：
  名称：

  SADYXOV, SH. G.;MAMEDOV, N. A.;GUMBATOV, EH. G.;GASANOV, A. I., AZERB. NEFT. X-BO, 1983, N 4, 51-53

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  丙烯酸酐 、 Magnesium;1-methylcyclohexan-1-olate;chloride 在 吩噻嗪 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 7.0h， 以69%的产率得到丙烯酸甲基环己酯
  参考文献：
  名称：

  一锅法制备丙烯酸直链烷基环己酯的方法

  摘要：

  本申请涉及一锅法制备丙烯酸直链烷基环己酯的方法，其特征在于，所述方法包括在惰性气氛下，且在存在阻聚剂的情况下，使基于直链烷基环己酮的格氏试剂与丙烯酸酐在第一有机溶剂中于室温下反应预定时间,得到含丙烯酸直链烷基环己酯的反应产物。本申请的有益效果在于采用丙烯酸酐作为酯化试剂可以显著降低所得产物中的杂质含量，且可以合成多种丙烯酸直链烷基环己酯，如丙烯酸甲基环己酯和丙烯酸乙基环己酯。此外，本申请的一锅法工艺简洁省时，所用丙烯酸酐不会带来安全隐患，易于放大。

  公开号：

  CN109232243A

文献信息

• PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, OXIME SULFONATE COMPOUND, METHOD FOR FORMING CURED FILM, CURED FILM, ORGANIC EL DISPLAY DEVICE, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：US20130171415A1

  公开（公告）日：2013-07-04

  Disclosed is a photosensitive resin composition comprising: (Component A) an oxime sulfonate compound represented by Formula (1); (Component B) a resin comprising a constituent unit having an acid-decomposable group that is decomposed by an acid to form a carboxyl group or a phenolic hydroxy group; and (Component C) a solvent wherein in Formula (1) R 1 denotes an alkyl group, an aryl group, or a heteroaryl group, each R 2 independently denotes a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a halogen atom, Ar 1 denotes an o-arylene group or an o-heteroarylene group, X denotes O or S, and n denotes 1 or 2, provided that of two or more R 2 s present in the compound, at least one denotes an alkyl group, an aryl group, or a halogen atom.

  揭示了一种光敏树脂组合物，包括：（组分A）由式（1）表示的肟磺酸盐化合物；（组分B）包括具有可被酸分解的基团的树脂，该基团通过酸分解形成羧基或酚羟基；和（组分C）溶剂 其中在式（1）中，R1表示烷基、芳基或杂芳基，每个R2独立地表示氢原子、烷基、芳基或卤素原子，Ar1表示邻芳撑基或邻杂芳撑基，X表示O或S，n表示1或2，前提是在化合物中存在两个或两个以上的R2时，至少有一个表示烷基、芳基或卤素原子。
• SALT, RESIN, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20160052877A1

  公开（公告）日：2016-02-25

  A salt represented by the formula (I); wherein Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom or a C 1 to C 6 perfluoroalkyl group, L b1 represents a single bond or a divalent C 1 to C 24 saturated hydrocarbon groupwhere a methylene group may be replaced by an oxygen atom or a carbonyl group and where a hydrogen atom may be replaced by a hydroxyl group or a fluorine atom, and Y represents a hydrogen atom, a fluorine atom, or an optionally substituted C 3 to C 18 alicyclic hydrocarbon groupwhere a methylene group may be replaced by an oxygen atom, a carbonyl group or a sulfonyl group; and Ar represents a divalent C 6 to C 20 aromatic hydrocarbon group, and Z + represents an organic sulfonium cation or an organic iodonium cation.

  根据您的要求，以下是化合物的中文翻译： 由公式(I)表示的盐； 其中Q1和Q2各自独立代表一个氟原子或一个C1至C6的过氟代烷基团，Lb1代表一个单键或一个二价的C1至C24的饱和烃基团，其中甲基烯基团可以被一个氧原子或一个羰基团所取代，并且其中氢原子可以被一个羟基或一个氟原子所取代，并且Y代表一个氢原子，一个氟原子，或一个可选地被取代的C3至C18的芳环烃基团，其中甲基烯基团可以被一个氧原子，一个羰基团或一个磺酰基团所取代；并且Ar代表一个二价的C6至C20的芳香烃基团，以及Z+代表一个有机硫正离子或一个有机碘正离子。
• SALT, ACID GENERATOR, RESIN, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20160334702A1

  公开（公告）日：2016-11-17

  A salt represented by formula (I): wherein Q 1 and Q 2 independently represent a fluorine atom or a C 1 to C 6 perfluoroalkyl group, R 1 and R 2 in each occurrence independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom or a C 1 to C 6 perfluoroalkyl group, z represents an integer of 0 to 6, X 1 represents *—CO—O—, *—O—CO— or —O—, * represents a binding position to C(R 1 )(R 2 ) or C(Q 1 )(Q 2 ), A 1 represents a C 4 to C 24 hydrocarbon group having a C 4 to C 18 divalent alicyclic hydrocarbon moiety, A 2 represents a C 2 to C 12 divalent hydrocarbon group, R 3 and R 4 independently represent a hydrogen atom or a C 1 to C 6 monovalent saturated hydrocarbon group, R 5 represents a hydrogen atom, a fluorine atom, or a C 1 to C 6 alkyl group where a hydrogen atom may be replaced by a fluorine atom, and Z + represents an organic cation.

  公式(I)表示的盐，其中Q1和Q2独立地代表一个氟原子或一个C1至C6的过氟烷基团，R1和R2每次出现独立地代表一个氢原子、一个氟原子或一个C1至C6的过氟烷基团，z代表0到6的整数，X1代表*—CO—O—，*—O—CO—或—O—，*代表与C(R1)(R2)或C(Q1)(Q2)的连接位置，A1代表具有C4至C18二价脂环烃基团的C4至C24的烃基团，A2代表C2至C12的二价烃基团，R3和R4独立地代表一个氢原子或一个C1至C6的一价饱和烃基团，R5代表一个氢原子、一个氟原子或一个C1至C6的烷基团，其中氢原子可以被氟原子替换，而Z+代表一个有机阳离子。
• SALT, ACID GENERATOR, PHOTORESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCING PHOTORESIST PATTERN
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20160200702A1

  公开（公告）日：2016-07-14

  A salt represented by the formula (I): wherein R 1 represents a C1 to C12 alkyl group in which a methylene group can be replaced by an oxygen atom or a carbonyl group; Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom or a C1 to C6 perfluoroalkyl group; A 1 represents a lactone ring-containing group which has 4 to 24 carbon atoms; R 2 represents an acid-labile group; and “m” represents an integer of 0 to 3.

  由公式(I)表示的盐： 其中 R1 代表一个C1至C12的烷基，其中一个亚甲基基团可以被一个氧原子或一个羰基团所取代； Q1 和 Q2 各自独立地代表一个氟原子或一个C1至C6的全氟烷基团； A1 代表一个含有内酯环的基团，该基团有4到24个碳原子； R2 代表一个酸不稳定的基团；并且 “m”代表一个0到3之间的整数。
• COMPOUND, RESIN, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20160130210A1

  公开（公告）日：2016-05-12

  A compound represented by formula (I), a resin including a structural unit derived from the compound and a resist composition including the resin: wherein R 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom or a C 1 to C 6 alkyl group in which a hydrogen atom may be replaced by a halogen atom, R 2 represents a C 1 to C 6 perfluoroalkyl group or *—CHR f1 R f2 , * represents a binding site to a carbonyl group, R f1 and R f2 each independently represent a C 1 to C 4 perfluoroalkyl group or R f1 and R f2 may be bonded together with a carbon atom bonded thereto to form a ring, A 1 represents a single bond, a C 1 to C 6 alkanediyl group or **-A 3 -X 1 -(A 4 -X 2 ) a -(A 5 ) b -, ** represents a binding site to an oxygen atom, A 2 , A 3 , A 4 and A 5 each independently represent a C 1 to C 6 alkanediyl group, X 1 and X 2 each independently represent —O—, —CO—O— or —O—CO—, a and b each represent 0 or 1, and W 1 represents a C 5 to C 18 divalent alicyclic hydrocarbon group.

  化合物的化学式为（I），包括从该化合物衍生的结构单元的树脂和包括该树脂的抗蚀组合物： 其中R 1 代表氢原子、卤素原子或C 1 到C 6 烷基基团，其中氢原子可以被卤素原子取代，R 2 代表C 1 到C 6 全氟烷基基团或*—CHR f1 R f2 ，*代表与羰基结合位点，R f1 和R f2 各自独立代表C 1 到C 4 全氟烷基基团或R f1 和R f2 可以与结合在一起的碳原子形成环，A 1 代表单键，C 1 到C 6 烷二基基团或**-A 3 -X 1 -(A 4 -X 2 ) a -(A 5 ) b -，**代表与氧原子结合位点，A 2 、A 3 、A 4 和A 5 各自独立代表C 1 到C 6 烷二基基团，X 1 和X 2 各自独立代表—O—、—CO—O—或—O—CO—，a和b各自代表0或1，W 1 代表C 5 到C 18 的二价脂环烃基团。