5-vinyloxy-3-oxatricyclo[4.2.1.04,8]nonan-2-one | 500541-94-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 异戊烯醇脂质
• 英文名称: 5-vinyloxy-3-oxatricyclo[4.2.1.04,8]nonan-2-one
• 英文别名: 2-vinyloxy-4-oxatricyclo[4.2.1.03,7]nonan-5-one；2-Vinyloxy-4-oxatricyclo[4.2.1.03,7]nonane-5-on；2-ethenoxy-4-oxatricyclo[4.2.1.03,7]nonan-5-one
• CAS: 500541-94-6
• 化学式: C₁₀H₁₂O₃
• 分子量: 180.203
• InChiKey: WYHSMTHTZATXOX-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.4
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.7
• 拓扑面积：
  35.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  5-vinyloxy-3-oxatricyclo[4.2.1.04,8]nonan-2-one 、 、 甲基丙烯酸 、 磷酸 在 4-甲氧基苯酚 氮气 、 disodium;carbonate 作用下， 以 甲苯 为溶剂， 反应 6.0h， 生成 2-(1-methacryloyloxyethoxy)-4-oxatricyclo[4.2.1.03,7]nonane-5-on
  参考文献：
  名称：

  Unsaturated carboxylic acid hemicacetal ester, polymeric compound and photoresist resin composition

  摘要：

  一种聚合物化合物，其重复单元对应于由以下式（1）表示的不饱和羧酸半缩醛酯： 其中，R为氢原子，卤素原子，碳数为1到6的烷基或碳数为1到6的卤代烷基，Rb为在第一位置具有氢原子的碳氢基，Rc为氢原子或碳氢基，而Rd为具有环状骨架的有机基团。此聚合物化合物还可以具有对应于至少一种单体的重复单元，所述单体具有内酯骨架、环状酮骨架、酸酐基或亚酰胺基[除了对应于所述不饱和羧酸半缩醛酯的重复单元]和/或对应于至少一种具有羟基的单体的重复单元和其他单体。该聚合物化合物在用作光刻胶时表现出优越的酸消除功能。

  公开号：

  US20060160247A1
• 作为产物：
  描述：

  乙酸乙烯酯 、 2-羟基-4-氧杂三环[4,2,1,0 37]-5-壬酮 在 bis(1,5-cyclooctadiene)diiridium(I) dichloride 、 sodium carbonate 作用下， 以 甲苯 为溶剂， 反应 5.0h， 以96%的产率得到5-vinyloxy-3-oxatricyclo[4.2.1.04,8]nonan-2-one
  参考文献：
  名称：

  Vinyl ether compounds

  摘要：

  公开号：

  EP1826196B1

文献信息

• BASIC COMPOUND, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Hatakeyama Jun

  公开号：US20120141938A1

  公开（公告）日：2012-06-07

  A chemically amplified resist composition comprising a base polymer, an acid generator, and an amine quencher in the form of a β-alanine, γ-aminobutyric acid or 5-aminovaleric acid derivative having an acid labile group-substituted carboxyl group has a high contrast of alkaline dissolution rate before and after exposure and forms a pattern of good profile at a high resolution, minimal roughness and wide focus margin.

  一种化学放大型光刻胶组合物，包括基础聚合物、酸发生剂和胺淬灭剂，后者为β-丙氨酸、γ-氨基丁酸或5-氨基戊酸的衍生物，具有一个被酸不稳定基团所取代的羧基，这种组合物在曝光前后具有高对比度的碱性溶解速率，并且能够形成高分辨率、最小粗糙度和宽焦深度的良好图案轮廓。
• MONOMER, POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20140045123A1

  公开（公告）日：2014-02-13

  A polymer comprising recurring units derived from a (meth)acrylate monomer of tertiary ester type having branched alkyl on alicycle is used to form a resist composition. When subjected to exposure, PEB and organic solvent development, the resist composition is improved in dissolution contrast.

  一种聚合物，包括由具有支链烷基的萜酸酯单体衍生的重复单元，用于形成抗蚀组合物。在经过曝光、PEB和有机溶剂显影处理后，抗蚀组合物在溶解对比度方面得到改善。
• RESIST COMPOSITION, PATTERNING PROCESS, AND BARIUM, CESIUM AND CERIUM SALTS
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20170115566A1

  公开（公告）日：2017-04-27

  A resist composition comprising a base resin comprising acid labile group-containing recurring units and preferably acid generator-containing recurring units, and a sodium, magnesium, potassium, calcium, rubidium, strontium, yttrium, cesium, barium or cerium salt of α-fluorinated sulfonic acid bonded to an alkyl, alkenyl, alkynyl or aryl group exhibits a high resolution and sensitivity and forms a pattern of satisfactory profile with minimal LWR after exposure and development.

  一种抗蚀组合物包括基树脂，其中包含含酸敏感基团的重复单元，最好包含含酸发生剂的重复单元，以及与烷基、烯基、炔基或芳基结合的α-氟磺酸的钠、镁、钾、钙、铷、锶、钇、铯、钡或铈盐，表现出高分辨率和灵敏度，并在曝光和显影后形成具有最小LWR的满意轮廓图案。
• Process for producing vinyl ether compounds
  申请人：——

  公开号：US20030083529A1

  公开（公告）日：2003-05-01

  A process produces vinyl ether compounds and includes allowing a vinyl ester compound represented by following Formula (1): 1 wherein R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are the same or different and are each a hydrogen atom or an organic group, to react with a hydroxy compound represented by following Formula (2): R 5 OH  (2) wherein R 5 is an organic group, in the presence of at least one transition element compound to thereby yield a vinyl ether compound represented by following Formula (3): 2 wherein R 2 , R 3 , R 4 and R 5 have the same meanings as defined above. Such transition element compounds include iridium compounds and other compounds containing Group VIII elements.

  该过程生产乙烯醚化合物，包括使得由以下化学式（1）表示的乙烯酯化合物发生反应：其中R1、R2、R3和R4相同或不同，每个都是氢原子或有机基团，与由以下化学式（2）表示的羟基化合物反应：其中R5是有机基团，在至少一种过渡元素化合物存在下，从而产生由以下化学式（3）表示的乙烯醚化合物：其中R2、R3、R4和R5的含义与上述定义相同。这样的过渡元素化合物包括铱化合物和其他含有第VIII族元素的化合物。
• MONOMER, POLYMER, CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Hatakeyama Jun

  公开号：US20110294070A1

  公开（公告）日：2011-12-01

  A polymer is obtained from a hydroxyphenyl methacrylate monomer having an acid labile group substituted thereon. A positive resist composition comprising the polymer as a base resin has a very high contrast of alkaline dissolution rate before and after exposure, a high resolution, a good profile and minimal line edge roughness of a pattern after exposure, a retarded acid diffusion rate, and good etching resistance.

  一种聚合物是由一种具有酸敏感基团的羟基苯甲酸甲酯单体合成得到的。该聚合物作为基础树脂的正性光阻组合物具有极高的曝光前后碱溶解速率对比度、高分辨率、曝光后图案的良好轮廓和极小的线边粗糙度、缓慢的酸扩散速率和良好的蚀刻抗性。