【課題】良好なCD均一性のレジストパターンを製造できる塩、酸発生剤等の提供。【解決手段】式(I)で表される塩、酸発生剤及びこれを含むレジスト組成物。[R1はハロゲン原子等;m1は0〜5の整数;R2及びR3は、それぞれ、水素原子、ヒドロキシ基又は炭化水素基を表し、該基中の−CH2−は−O−、−S−、−SO2−又は−CO−で置き換わっていてもよく、R2とR3、2つのR2又は2つのR3は互いに結合して脂肪族環を形成してもよい;m2及びm3はそれぞれ1〜3の整数;Xは、−C(=O)−、−O−(CH2)m4−O−又は式(aa)で表される基を表し、該−(CH2)m4−に含まれる水素原子はフッ素原子で置換されていてもよい;m4は2〜6の整数;−(CH2)m5−に含まれる水素原子はフッ素原子で置換されていてもよい;;m5は2〜6の整数;AI−は有機アニオンを表す。]【選択図】なし
提供解决方案,可以制造出良好的CD均一性的光刻胶图案的盐类、酸发生剂等。这是由式(I)表示的盐类、酸发生剂以及包含它们的光刻胶组成物。其中,R1代表卤原子等;m1是0至5的整数;R2和R3分别表示氢原子、羟基或烃基,基中的-
CH2-可以被-O-、-S-、-SO2-或-CO-取代,R2和R3、两个R2或两个R3可以相互连接形成脂环;m2和m3分别是1至3的整数;X表示-C(=O)-、-O-( )m4-O-或由式(aa)表示的基,其中( )m4中的氢原子可以被
氟原子取代;m4是2至6的整数;( )m5中的氢原子可以被
氟原子取代;m5是2至6的整数;AI-代表有机阴离子。【选择图】无