5-溴-4,4,5,5-四氟戊酸 | 234443-22-2

• 物质功能分类: 有机原料 - 有机氟化合物
• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 脂肪酰基
• 中文名称: 5-溴-4,4,5,5-四氟戊酸
• 英文名称: 5-bromo-4,4,5,5-tetrafluoropentanoic acid
• 英文别名: 4-bromo-3,3,4,4-tetrafluoropentanoic acid
• CAS: 234443-22-2
• 化学式: C₅H₅BrF₄O₂
• 分子量: 252.991
• InChiKey: OIIFPRVLJLLMOZ-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  213.6±40.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.797±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.3
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.8
• 拓扑面积：
  37.3
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  6

安全信息

• 危险等级：
  IRRITANT
• 海关编码：
  2915900090

制备方法与用途

概述

5-溴-4,4,5,5-四氟戊酸是一种四氟取代羧酸。近年来的研究表明，氟取代的羧酸能够与蛋白质结合，从而帮助研究人员探讨蛋白质与配体之间的相互作用。因此，这种化合物可以用于酶催化反应动力学等生物化学方面的研究。

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  5-溴-4,4,5,5-四氟戊酸 在 N,N-二甲基甲酰胺 吡啶 、 sodium dithionite 、 碳酸氢钠 作用下， 以 二氯甲烷 、 水 、 乙腈 为溶剂， 反应 36.0h， 生成
  参考文献：
  名称：

  Lactone photoacid generators and resins and photoresists comprising same

  摘要：

  提供了含有新的内酯类光酸发生剂化合物（“PAGs”）和包含这种PAG化合物的光刻胶组合物。这些光刻胶组合物在电子器件的制造中有用。

  公开号：

  EP2452941A1
• 作为产物：
  描述：

  6-bromo-5,5,6,6-tetrafluoro-1-hexyne 在 ruthenium trichloride 、 sodium periodate 作用下， 以 四氯化碳 、 水 、 乙腈 为溶剂， 生成 5-溴-4,4,5,5-四氟戊酸
  参考文献：
  名称：

  CN117003632

  摘要：

  公开号：

文献信息

• Photocatalyzed Decarboxylative Thiolation of Carboxylic Acids Enabled by Fluorinated Disulfide
  作者：Mikhail O. Zubkov、Mikhail D. Kosobokov、Vitalij V. Levin、Alexander D. Dilman

  DOI：10.1021/acs.orglett.2c00549

  日期：2022.4.1

  of carboxylic acids using a disulfide reagent having tetrafluoropyridinyl groups is described. The light-mediated process is performed using an acridine-type photocatalyst. Primary, secondary, tertiary, and heteroatom-substituted carboxylic acids can be thiolated, and the method can be applied to the late-stage modification of a range of naturally occurring compounds and drugs. The fluorinated pyridine

  描述了使用具有四氟吡啶基的二硫化物试剂对羧酸进行硫醇化。使用吖啶型光催化剂进行光介导过程。伯、仲、叔和杂原子取代的羧酸可以被硫醇化，该方法可以应用于一系列天然存在的化合物和药物的后期修饰。氟化吡啶片段被认为能够形成 C-S 键。所得硫化物用作氧化还原活性自由基前体。
• Base reactive photoacid generators and photoresists comprising same
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials LLC

  公开号：EP2452932A2

  公开（公告）日：2012-05-16

  This invention relates to new photoacid generator compounds and photoresist compositions that comprise such compounds. In particular, the invention relates to photoacid generator compounds that comprise base-cleavable groups.

  本发明涉及新的光酸发生剂化合物和包含这种化合物的光刻胶组合物。具体而言，本发明涉及包含可基裂解基团的光酸发生剂化合物。
• 光酸产生单体、自其衍生的聚合物、包括所述聚合物的光致抗蚀剂组合物
  申请人：罗门哈斯电子材料有限责任公司

  公开号：CN107129448B

  公开（公告）日：2022-04-26

  一种单体具有以下结构：其中R为包含可聚合碳‑碳双键或碳‑碳三键的有机基团；X和Y在每次出现时独立地为氢或非氢取代基；EWG1和EWG2在每次出现时独立地为拉电子基团；p为0、1、2、3或4；n为1、2、3或4；且M+为有机阳离子。由单体制备的聚合物适用作光致抗蚀剂组合物的组分。
• 염 및 이를 포함하는 포토레지스트
  申请人：ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS LLC 롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈 엘엘씨(520040024286)

  公开号：KR20190064491A

  公开（公告）日：2019-06-10

  극 자외선 리소그래피에 유용한 광활성 텔루륨 염 화합물을 포함하는 새로운 Te-염이 제공된다.

  提供了一种新的Te-盐，其中包含对极紫外线光刻图形有用的光活性碲盐化合物。
• LACTONE PHOTOACID GENERATORS AND RESINS AND PHOTORESISTS COMPRISING SAME
  申请人：AQAD Emad

  公开号：US20120129104A1

  公开（公告）日：2012-05-24

  New lactone-containing photoacid generator compounds (“PAGs”) and photoresist compositions that comprise such PAG compounds are provided. These photoresist compositions are useful in the manufacture of electronic devices

  提供了含有新的内酯类光酸发生剂化合物（“PAGs”）和包含这些PAG化合物的光阻组合物。这些光阻组合物在电子器件的制造中很有用。