5-降冰片烯-2-羧酸 (2-羟乙基)酯 | 37503-42-7

• 物质功能分类: 有机原料 - 羧酸类化合物及衍生物 - 羧酸酯及其衍生物
• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 中文名称: 5-降冰片烯-2-羧酸 (2-羟乙基)酯
• 中文别名: 2-羟乙基-5-降冰片-2-羧酸盐；5-降冰片烯-2-羧酸(2-羟乙基)酯；5-降冰片烯-2-羧酸-(2-羟乙基)酯
• 英文名称: 2-hydroxyethyl 5-norbornene-2-carboxylate
• 英文别名: 5-norbornene-2-(2-hydroxy-1-ethyl)carboxylate；2-hydroxyethyl bicyclo[2.2.1]hept-5-ene-2-carboxylate
• CAS: 37503-42-7
• 化学式: C₁₀H₁₄O₃
• 分子量: 182.219
• InChiKey: PHSXOZKMZYKHLY-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  316.1±30.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.213

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.8
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.7
• 拓扑面积：
  46.5
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-[十二烷硫基(硫代羰基)硫基]-2-甲基丙酸 、 5-降冰片烯-2-羧酸 (2-羟乙基)酯 在 4-二甲氨基吡啶 、 N,N'-二环己基碳二亚胺 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 2.0h， 以80%的产率得到
  参考文献：
  名称：

  开环复分解聚合法合成瓶刷聚合物：锚定基团的意义

  摘要：

  通过大分子单体 (MM) 的开环复分解聚合 (ROMP) 对瓶刷聚合物合成的控制高度依赖于聚合动力学与催化剂寿命之间的竞争。我们评估了锚定基团化学 - 将聚合物连接到可聚合降冰片烯的原子构型 - 对由 (H2IMes)(pyr)2(Cl)2Ru=CHPh 引发的聚苯乙烯和聚（乳酸）MMs 的 ROMP 动力学的影响（格拉布斯第三代催化剂）。我们观察到具有不同锚定组的类似 MM 之间传播速度的差异 > 4 倍。无论溶剂、分子量 (MW) 或重复单元身份如何，这种现象在所有测试的 MM 中都是保守的。观察到的 > 传播速率的 4 倍差异对最大可获得的主链聚合度有显着影响，传播速度较慢的 MM 将最大瓶刷 MW 降低了一个数量级（从 ~10(6) 到 ~10(5) Da）。最初提出了一种螯合机制来解释观察到的锚定基团效应，但实验和计算研究表明，速率差异可能是由于不同锚定基团之间不同的空间需求和电子结构的组合造成的。向

  DOI：

  10.1021/jacs.5b13317
• 作为产物：
  描述：

  5-降冰片烯-2-羧酸 在 4-二甲氨基吡啶 、 碘 、 potassium carbonate 、 盐酸-N-乙基-Nˊ-(3-二甲氨基丙基)碳二亚胺 、 potassium iodide 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 12.08h， 生成 5-降冰片烯-2-羧酸 (2-羟乙基)酯
  参考文献：
  名称：

  开环复分解聚合法合成瓶刷聚合物：锚定基团的意义

  摘要：

  通过大分子单体 (MM) 的开环复分解聚合 (ROMP) 对瓶刷聚合物合成的控制高度依赖于聚合动力学与催化剂寿命之间的竞争。我们评估了锚定基团化学 - 将聚合物连接到可聚合降冰片烯的原子构型 - 对由 (H2IMes)(pyr)2(Cl)2Ru=CHPh 引发的聚苯乙烯和聚（乳酸）MMs 的 ROMP 动力学的影响（格拉布斯第三代催化剂）。我们观察到具有不同锚定组的类似 MM 之间传播速度的差异 > 4 倍。无论溶剂、分子量 (MW) 或重复单元身份如何，这种现象在所有测试的 MM 中都是保守的。观察到的 > 传播速率的 4 倍差异对最大可获得的主链聚合度有显着影响，传播速度较慢的 MM 将最大瓶刷 MW 降低了一个数量级（从 ~10(6) 到 ~10(5) Da）。最初提出了一种螯合机制来解释观察到的锚定基团效应，但实验和计算研究表明，速率差异可能是由于不同锚定基团之间不同的空间需求和电子结构的组合造成的。向

  DOI：

  10.1021/jacs.5b13317

文献信息

• Salt suitable for an acid generator and a chemically amplified resist composition containing the same
  申请人：Harada Yukako

  公开号：US20070078269A1

  公开（公告）日：2007-04-05

  The present invention provides a salt of the formula (I): wherein ring Y represents monocyclic or polycyclic hydrocarbon group having 3 to 30 carbon atoms, in which one —CH 2 — group is substituted with —COO— group, and at least one hydrogen atom in the monocyclic or polycyclic hydrocarbon group may optionally be substituted with alkyl group having 1 to 6 carbon atom, alkoxy group having 1 to 6 carbon atom, perfluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms, hydroxyalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, hydroxyl group or cyano group; Q 1 and Q 2 each independently represent fluorine atom or perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms; A + represents organic counter ion; and n shows an integer of 0 to 12. The present invention also provides a chemically amplified resist composition comprising the salt of the formula (I).

  本发明提供了一种具有公式(I)的盐： 其中环Y代表具有3至30个碳原子的单环或多元环烃基团，其中一个—CH2—基团被—COO—基团取代，并且单环或多元环烃基团中的至少一个氢原子可以可选地被具有1至6个碳原子的烷基取代，具有1至6个碳原子的烷氧基，具有1至4个碳原子的全氟烷基，具有1至6个碳原子的羟基烷基，羟基或腈基；Q1和Q2各自独立地代表氟原子或具有1至6个碳原子的全氟烷基；A+代表有机反离子；n表示0至12的整数。 本发明还提供了一种含有公式(I)盐的化学放大抗蚀剂组合物。
• SALT AND PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME
  申请人：ICHIKAWA Koji

  公开号：US20100304293A1

  公开（公告）日：2010-12-02

  A salt represented by the formula (a): wherein Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom etc., X 1 represents a single bond etc., X 2 represents a single bond etc., Y 1 represents a C3-C6 alicyclic hydrocarbon group etc., with the proviso that —X 2 —Y 1 group has one or more fluorine atoms, and Z + represents an organic counter cation, and a photoresist composition comprising the salt represented by the formula (a) and a resin comprising a structural unit having an acid-labile group and being insoluble or poorly soluble in an aqueous alkali solution but becoming soluble in an aqueous alkali solution by the action of an acid.

  由公式(a)表示的盐：其中Q1和Q2各自独立代表氟原子等，X1代表单键等，X2代表单键等，Y1代表C3-C6的脂环烃基等，但条件是—X2—Y1基团具有一个或多个氟原子，以及Z+代表有机反离子，以及包含由公式(a)表示的盐的光阻剂组合物和包含具有酸不稳定的基团并且在水性碱液中不溶或微溶于但在酸性作用下水性碱液中变得可溶的树脂的结构单元。
• Salt suitable for an acid generator and a chemically amplified positive resist composition containing the same
  申请人：Shigematsu Junji

  公开号：US20080086014A1

  公开（公告）日：2008-04-10

  The present invention provides a salt represented by the formula (I): wherein X represents a C3-C30 divalent group containing at least one divalent alicyclic hydrocarbon group, and at least one —CH 2 — in the C3-C30 divalent group may be substituted with —O— or —CO—, Y represents a C3-C30 cyclic hydrocarbon group which may be substituted with at least one group selected from a C1-C6 alkoxy group, a C1-C4 perfluoroalkyl group, a C1-C6 hydroxyalkyl group, a hydroxyl group and a cyano group, and at least one —CH 2 — in the C3-C30 cyclic hydrocarbon group may be substituted with —O— or —CO—, Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom or a C1-C6 perfluoroalkyl group, and A + represents an organic counter ion.

  本发明提供了一种由公式(I)表示的盐：其中X代表含至少一个二价脂环烃基的C3-C30二价基团，并且C3-C30二价基团中的至少一个—CH2—可以被—O—或—CO—取代，Y代表一个C3-C30环烃基，该环烃基可以至少被选自C1-C6烷氧基、C1-C4全氟烷基、C1-C6羟基烷基、羟基和氰基的至少一个取代基取代，并且C3-C30环烃基中的至少一个— —可以被—O—或—CO—取代，Q1和Q2各自独立地代表一个氟原子或一个C1-C6全氟烷基，以及A+代表一个有机反离子。
• GENERATION OF ENDO- AND/OR EXO-NORBORNENECARBOXALDEHYDE AS AN INTERMEDIATE TO FUNCTIONALIZED NORBORNENES
  申请人：Bell Andrew

  公开号：US20090118539A1

  公开（公告）日：2009-05-07

  Embodiments in accordance with the present invention provide for forming essentially pure diastereomers of 5/6-substituted norbornene-type monomers. Further, embodiments in accordance with the present invention encompass polymerizing such diastereomers to form addition or ROMP polymers where a desired exo-/endo-ratio of the diastereomers is provided to the polymerization, such ratio designed to provide a desired ratio of endo-/exo-structured repeating units for a resulting polymer to have desired physical or chemical properties.

  根据本发明的实施例，提供形成基本纯的5/6-取代去氢莰烯型单体的异构体。此外，根据本发明的实施例涵盖聚合这种异构体以形成加成或ROMP聚合物，其中所提供给聚合反应的异构体的期望外/内比例设计为提供所得聚合物具有期望的物理或化学性质的外/内结构重复单元的期望比例。
• Chemical amplification type resist composition
  申请人：Yamada Airi

  公开号：US20080269506A1

  公开（公告）日：2008-10-30

  The present invention provides a sulfonium salt of the formula (Ia) a polymeric compound comprising a structural unit of the formula (Ib) and a chemical amplification type positive resist composition comprising (A) an acid generator comprising at least one compound selected from the group consisting of a sulfonium salt of the formula (Ia), a polymeric compound comprising a structural unit of the formula (Ib), and a sulfonium salt of the formula (Ic); and (B) resin which contains a structural unit having an acid labile group and which itself is insoluble or poorly soluble in an alkali aqueous solution but becomes soluble in an alkali aqueous solution by the action of an acid.

  本发明提供了一种公式(Ia)的硫鎓盐，包括一个结构单元的聚合物化合物的公式(Ib)，以及一种化学放大型正性光刻胶组合物，包括(A)至少选择自硫鎓盐的公式(Ia)、一个结构单元的聚合物化合物的公式(Ib)和硫鎓盐的公式(Ic)组成的酸发生剂；以及(B)含有酸敏感基团的结构单元的树脂，本身在碱性水溶液中不溶或难溶，但在酸的作用下变得可溶于碱性水溶液。