Bis[3-(trifluoromethyl)phenyl] 5-(2-methylprop-2-enoyloxy)bicyclo[2.2.1]heptane-2,3-dicarboxylate | 1350662-41-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 异戊烯醇脂质
• 英文名称: Bis[3-(trifluoromethyl)phenyl] 5-(2-methylprop-2-enoyloxy)bicyclo[2.2.1]heptane-2,3-dicarboxylate
• 英文别名: bis[3-(trifluoromethyl)phenyl] 5-(2-methylprop-2-enoyloxy)bicyclo[2.2.1]heptane-2,3-dicarboxylate
• CAS: 1350662-41-7
• 化学式: C₂₇H₂₂F₆O₆
• 分子量: 556.458
• InChiKey: KJJCOOIXJNTSSF-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  6.5
• 重原子数：
  39
• 可旋转键数：
  9
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.37
• 拓扑面积：
  78.9
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  12

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  Ditert-butyl 5-(2-methylprop-2-enoyloxy)bicyclo[2.2.1]heptane-2,3-dicarboxylate 在 N,N-二甲基甲酰胺 草酰氯 、 三氟乙酸 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 17.0h， 生成 Bis[3-(trifluoromethyl)phenyl] 5-(2-methylprop-2-enoyloxy)bicyclo[2.2.1]heptane-2,3-dicarboxylate
  参考文献：
  名称：

  RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING A PATTERN, POLYMER AND COMPOUND

  摘要：

  一种辐射敏感性树脂组合物，包括具有下式（1）所代表的基团的第一聚合物和辐射敏感性酸发生剂。n是2到4的整数。X代表单键或二价有机基团。A代表（n+1）价的连接基团。每个Q独立地代表包括可溶于碱的基团的基团。

  公开号：

  US20120276482A1

文献信息

• RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND POLYMER AND COMPOUND
  申请人：Osaki Hitoshi

  公开号：US20130122426A1

  公开（公告）日：2013-05-16

  A radiation-sensitive resin composition that provides a resist coating film in a liquid immersion lithography process is provided, the radiation-sensitive resin composition being capable of exhibiting a great dynamic contact angle during exposure, whereby the surface of the resist coating film can exhibit a superior water draining property, and the radiation-sensitive resin composition being capable of leading to a significant decrease in the dynamic contact angle during development, whereby generation of development defects can be inhibited, and further shortening of a time period required for change in a dynamic contact angle is enabled. A radiation-sensitive resin composition including (A) a fluorine-containing polymer having a structural unit (I) that includes a group represented by the following formula (1), and (B) a radiation-sensitive acid generator.

  提供一种辐射敏感的树脂组合物，可在液体浸没光刻工艺中提供抗蚀涂层膜，该辐射敏感的树脂组合物能够在曝光过程中展现出极大的动态接触角，从而使抗蚀涂层膜表面表现出优越的排水性能，并且该辐射敏感的树脂组合物能够在显影过程中引起动态接触角的显著降低，从而可以抑制显影缺陷的产生，并进一步缩短动态接触角变化所需的时间。该辐射敏感的树脂组合物包括（A）一种含氟聚合物，其具有包括以下公式（1）所表示的基团的结构单元（I），以及（B）一种辐射敏感的酸发生剂。
• US8765355B2
  申请人：——

  公开号：US8765355B2

  公开（公告）日：2014-07-01
• US9040221B2
  申请人：——

  公开号：US9040221B2

  公开（公告）日：2015-05-26
• [EN] RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, POLYMER AND COMPOUND<br/>[FR] COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AU RAYONNEMENT, PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MOTIF DE RÉSERVE, POLYMÈRE ET COMPOSÉ
  申请人：JSR CORP

  公开号：WO2011145703A1

  公开（公告）日：2011-11-24

  　本発明は、液浸露光プロセスにおいて、露光時には高い動的接触角を示すことにより、レジスト被膜表面が優れた水切れ性を示し、現像時には動的接触角が大きく低下することにより、現像欠陥の発生が抑制されるレジスト被膜を与え、さらに動的接触角の変化に要する時間を短縮できる感放射線性樹脂組成物を提供することを目的とする。本発明は［Ａ］下記式（１）で表される基を含む構造単位（Ｉ）を有する含フッ素重合体、及び［Ｂ］感放射線性酸発生体を含有する感放射線性樹脂組成物である。
• RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING A PATTERN, POLYMER AND COMPOUND
  申请人：Kimoto Takakazu

  公开号：US20120276482A1

  公开（公告）日：2012-11-01

  A radiation sensitive resin composition includes a first polymer having a group represented by a following formula (1), and a radiation sensitive acid generator. n is an integer of 2 to 4. X represents a single bond or a bivalent organic group. A represents a (n+1) valent linking group. Each Q independently represents a group that includes an alkali-dissociable group.

  一种辐射敏感性树脂组合物，包括具有下式（1）所代表的基团的第一聚合物和辐射敏感性酸发生剂。n是2到4的整数。X代表单键或二价有机基团。A代表（n+1）价的连接基团。每个Q独立地代表包括可溶于碱的基团的基团。