1-(2,2,2-Trifluoro-1-trifluoromethyl-ethyl)-4-vinyl-benzene | 397302-06-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 异戊烯醇脂质
• 英文名称: 1-(2,2,2-Trifluoro-1-trifluoromethyl-ethyl)-4-vinyl-benzene
• 英文别名: 4-hexafluoroisopropylstyrene；1-ethenyl-4-(1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl)benzene
• CAS: 397302-06-6
• 化学式: C₁₁H₈F₆
• 分子量: 254.175
• InChiKey: DESOAHPPHTYDHF-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  173.7±40.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.282±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.27
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  6

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1-(2,2,2-Trifluoro-1-trifluoromethyl-ethyl)-4-vinyl-benzene 在 sodium periodate 、 四氧化锇 作用下， 以 1,4-二氧六环 、 水 、 叔丁醇 为溶剂， 反应 2.0h， 以61%的产率得到4-(2,2,2-Trifluoro-1-trifluoromethyl-ethyl)-benzaldehyde
  参考文献：
  名称：

  Gonadotropin releasing hormone receptor antagonists

  摘要：

  本发明涉及促性腺激素释放激素（“GnRH”）（也称为促黄体生成激素释放激素）受体拮抗剂。

  公开号：

  US20060019965A1
• 作为产物：
  描述：

  1-bromo-4-(2,2,2-trifluoro-1-trifluoromethyl-ethyl)-benzene 、 三丁基乙烯基锡 在 tetrakis palladium lithium chloride 作用下， 以 二乙二醇二甲醚 、 甲苯 为溶剂， 反应 18.0h， 生成 1-(2,2,2-Trifluoro-1-trifluoromethyl-ethyl)-4-vinyl-benzene
  参考文献：
  名称：

  Gonadotropin releasing hormone receptor antagonists

  摘要：

  本发明涉及促性腺激素释放激素（“GnRH”）（也称为促黄体生成激素释放激素）受体拮抗剂。

  公开号：

  US20060019965A1

文献信息

• Low abosorbing resists for 157 nm lithography
  申请人：——

  公开号：US20020160297A1

  公开（公告）日：2002-10-31

  The present invention provides photoresist materials for use in photolithography at wavelengths less than about 248 nm. More particularly, the photoresists of the invention are particularly suited for use in 157 nm lithography. A photoresist composition of the invention includes a polymer having at least one monomeric unit having an aromatic moiety. The monomeric unit further includes at least a group, such as an electron withdrawing group, attached to the aromatic moiety. The attached group includes at least one CF bond. The polymer further includes an acidic hydroxyl group. A photoresist composition of the invention can have an absorbance in a range of 1-5 &mgr;m −1 at 157 nm, rendering it particularly suitable for use as a single layer resist in 157 nm lithography.

  本发明提供了用于在波长小于约248nm的光刻术中使用的光阻材料。更具体地说，本发明的光阻特别适用于157nm光刻术中使用。本发明的光阻组合物包括具有至少一个具有芳香基团的单体单元的聚合物。该单体单元进一步包括至少一个连接到芳香基团的基团，例如电子吸引基团。连接的基团包括至少一个CF键。该聚合物还包括一个酸性羟基。本发明的光阻组合物在157nm的吸收范围为1-5&mgr;m-1，使其特别适用于作为157nm光刻术中的单层光阻。
• Film forming composition, hardcoat film, polarizing plate, and method for manufacturing hydrophilized hardcoat film
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：US10641938B2

  公开（公告）日：2020-05-05

  According to the present invention, there are provided a film forming composition, which contains a polymer having a repeating unit represented by General Formula (I) and a curable compound, an optical film having a film formed of the composition, a hardcoat film, a polarizing plate, and a method for manufacturing a hydrophilized hardcoat film. In General Formula (I), R1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, L represents an ester bond, an ether bond, a phenylene group, or an amide bond, R2 and R4 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or a halogenated alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and R3 represents a hydrogen atom or a substituent.

  根据本发明，提供了一种成膜组合物，该组合物含有一种具有通式（I）所代表的重复单元的聚合物和一种可固化化合物；还提供了一种具有由该组合物形成的薄膜的光学薄膜、一种硬涂层薄膜、一种偏光板和一种制造亲水硬涂层薄膜的方法。在通式（I）中，R1 代表氢原子或具有 1 至 20 个碳原子的烷基，L 代表酯键、醚键、亚苯基或酰胺键，R2 和 R4 各自独立地代表氢原子、卤素原子、具有 1 至 20 个碳原子的烷基或具有 1 至 20 个碳原子的卤代烷基，R3 代表氢原子或取代基。
• Acetal protected polymers and photoresists compositions thereof
  申请人：ARCH SPECIALITY CHEMICALS, INC.

  公开号：US20040034160A1

  公开（公告）日：2004-02-19

  A polymer comprises an acetal-containing monomer unit having the general structure I and at least one of the fluorine-containing monomer units having the general structures II and III: 1 wherein R 1 , R 4 , R 5 and R 6 are each independently H, lower alkyl, CH 2 CO 2 R 10 , cyano, CH 2 CN, or halogen, wherein R 10 is any alkyl, cycloalkyl, aryl, arylalkyl, alkylenecycloalkyl, silyl or siloxy or linear or cyclic polysiloxane group; R 2 is CHR 11 R 12 where R 11 and R 12 are each independently H, lower alkyl, cycloalkyl or aryl; A is a substituted or unsubstituted alkylene, cycloalkylene, alkylenecycloalkylene, or alkylenearylene; and R 3 is linear, branched or cyclic fluoroalkyl group or SiR 13 R 14 R 15 where R 13 , R 14 , and R 15 are each independently alkyl, cycloalkyl, aryl, arylalkyl, alkylenecycloalkyl, silyl, siloxy, linear or cyclic polysiloxane or silsesquioxane alkyl group; B is an aryl, C(═O)—O—(CH 2 ) x where x= 0−4 , lower alkyl, cycloalkyl, alkene cycloalkyl, silyl, siloxyl, or linear or cyclic polysiloxane group. R 7 is H or an acid sensitive group; R 8 and R 9 are each independently H or —CN group; and y=0−4 and the use of these polymers in radiation sensitive compositions for exposure to actinic radiation, especially radiation of 157 nm.

  一种聚合物包括具有一般结构 I 的含缩醛单体单元和至少一种具有一般结构 II 和 III 的含氟单体单元： 1 其中 R 1 , R 4 , R 5 和 R 6 各自独立地为 H、低级烷基、CH 2 CO 2 R 10 氰基，CH 2 CN 或卤素，其中 R 10 是任何烷基、环烷基、芳基、芳烷基、亚烷基环烷基、硅烷基或硅氧基或线性或环状聚硅氧烷基团；R 2 是 CHR 11 R 12 其中 R 11 和 R 12 各自独立地为 H、低级烷基、环烷基或芳基； A 为取代或未取代的亚烷基、环烷基、亚烷基环烷基或亚烷基芳基；以及 R 3 是直链、支链或环状氟烷基或 SiR 13 R 14 R 15 其中 R 13 , R 14 和 R 15 各自独立地为烷基、环烷基、芳基、芳烷基、亚烷基环烷基、硅烷基、硅氧基、线性或环状聚硅氧烷或硅烷基烷基；B 为芳基、C(═O)-O-(CH) 2 ) x 其中 x 等于 0-4 、低级烷基、环烷基、烯环烷基、硅烷基、硅氧基或线性或环状聚硅氧烷基团。R 7 是 H 或酸敏感基团 8 和 R 9 y=0-4 以及这些聚合物在辐射敏感性组合物中的使用，用于暴露于辐射，特别是 157 纳米的辐射。
• ACETAL PROTECTED POLYMERS AND PHOTORESISTS COMPOSITIONS THEREOF
  申请人：Arch Specialty Chemicals, Inc.

  公开号：EP1509814A2

  公开（公告）日：2005-03-02
• EP1509814A4
  申请人：——

  公开号：EP1509814A4

  公开（公告）日：2008-08-27