1,1,1-三氟-2-三氟甲基-2-羟基-4-甲基丙烯酸戊酯 | 630414-85-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 中文名称: 1,1,1-三氟-2-三氟甲基-2-羟基-4-甲基丙烯酸戊酯
• 中文别名: 5,5,5-三氟-4-羟基-4-(三氟甲基)戊烷-2-基甲基丙烯酸酯
• 英文名称: 5,5,5-trifluoro-4-hydroxy-4-(trifluoromethyl)pentan-2-yl methacrylate
• 英文别名: [5,5,5-trifluoro-4-hydroxy-4-(trifluoromethyl)pentan-2-yl] 2-methylprop-2-enoate
• CAS: 630414-85-6
• 化学式: C₁₀H₁₂F₆O₃
• 分子量: 294.194
• InChiKey: CZDKPGBADTUZLK-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  291.0±40.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.321±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.3
• 重原子数：
  19
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.7
• 拓扑面积：
  46.5
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  9

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1,1,1-三氟-2-三氟甲基-2-羟基-4-甲基丙烯酸戊酯 、 二叔丁基草酸酯 在 4-二甲氨基吡啶 、 三乙胺 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 0.08h， 以80%的产率得到[5,5,5-Trifluoro-4-[(2-methylpropan-2-yl)oxycarbonyloxy]-4-(trifluoromethyl)pentan-2-yl] 2-methylprop-2-enoate
  参考文献：
  名称：

  신규 화합물 및 중합체 및 감방사선성 조성물

  摘要：

  本发明的目的是提供一种不透射线组合物，该组合物具有良好的图案几何形状，在液浸式光刻中对液体的洗脱量少，后退接触角大，显影缺陷少。本发明的不透射线组合物含有一种含氟聚合物（其重复单元（1）来自下式 1 所表示的化合物）和一种溶剂。<方案 1>（在式 1 中，R1 代表甲基，R2 代表 1-甲基乙烯基，R3 代表彼此独立的碳数为 1 至 4 的烷基，X 代表碳数为 1 至 20 的氟亚烃基）

  公开号：

  KR101596061B1
• 作为产物：
  描述：

  甲基丙烯酸酐 、 1,1,1-三氟-2-三氟甲基-2,4-戊二醇 在 2,6-二甲基吡啶 、 2,4-二甲基-6-叔丁基苯酚 、 2,2'-亚甲基双-(4-甲基-6-叔丁基苯酚) 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 5.0h， 生成 1,1,1-三氟-2-三氟甲基-2-羟基-4-甲基丙烯酸戊酯
  参考文献：
  名称：

  含フッ素重合性単量体の蒸留精製法

  摘要：

  【问题】提供一种新的方法，即使在工业生产规模下，也能抑制含氟重合单体的聚合，并有效地蒸馏精制。 【解决方案】通过在含氟重合单体中添加苯酚类化合物A，如6-叔丁基-2,4-二甲基苯酚，作为聚合抑制剂，以及苯酚类化合物B，如2,2'-亚甲基双(4-甲基-6-叔丁基苯酚)，进行蒸馏精制，从而解决上述问题。也就是说，通过同时使用苯酚类化合物A和苯酚类化合物B，可以显著抑制蒸馏过程中的寡聚和聚合反应。【选图】无

  公开号：

  JP2020026423A

文献信息

• BASIC COMPOUND, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Hatakeyama Jun

  公开号：US20120141938A1

  公开（公告）日：2012-06-07

  A chemically amplified resist composition comprising a base polymer, an acid generator, and an amine quencher in the form of a β-alanine, γ-aminobutyric acid or 5-aminovaleric acid derivative having an acid labile group-substituted carboxyl group has a high contrast of alkaline dissolution rate before and after exposure and forms a pattern of good profile at a high resolution, minimal roughness and wide focus margin.

  一种化学放大型光刻胶组合物，包括基础聚合物、酸发生剂和胺淬灭剂，后者为β-丙氨酸、γ-氨基丁酸或5-氨基戊酸的衍生物，具有一个被酸不稳定基团所取代的羧基，这种组合物在曝光前后具有高对比度的碱性溶解速率，并且能够形成高分辨率、最小粗糙度和宽焦深度的良好图案轮廓。
• Precursors to fluoroalkanol-containing olefin monomers and associated methods of synthesis and use
  申请人：Breyta Gregory

  公开号：US20050124827A1

  公开（公告）日：2005-06-09

  The invention provides alkene fluoroalkanol and fluorinated polyol precursors to fluoroalkanol-substituted α,β-unsaturated esters. The fluoroalkanol-substituted α,β-unsaturated esters are olefins that can be readily polymerized to provide fluoroalkanol-substituted polymers useful in lithographic photoresist compositions. Also provided are methods for synthesizing the alkene fluoroalkanol and fluorinated polyol precursors.

  这项发明提供了烯烃氟烷醇和氟代多元醇前体，用于制备氟烷醇取代的α，β-不饱和酯。这些氟烷醇取代的α，β-不饱和酯是烯烃，可以方便地聚合，从而提供在光刻光阻组合物中有用的氟烷醇取代聚合物。还提供了合成烯烃氟烷醇和氟代多元醇前体的方法。
• Precursors to fluoroalkanol-containing olefin monomers, and associated methods of synthesis and use
  申请人：Breyta Gregory

  公开号：US20050124828A1

  公开（公告）日：2005-06-09

  The invention provides alkene fluoroalkanol and fluorinated polyol precursors to fluoroalkanol-substituted αβ-unsaturated esters. The fluoroalkanol-substituted αβ-unsaturated esters are olefins that can be readily polymerized to provide fluoroalkanol-substituted polymers useful in lithographic photoresist compositions. Also provided are methods for synthesizing the alkene fluoroalkanol and fluorinated polyol precursors.

  该发明提供了烯烃氟烷醇和氟代聚醇前体，用于制备氟烷醇取代的αβ-不饱和酯。这些氟烷醇取代的αβ-不饱和酯是烯烃，可以方便地聚合，从而提供在光刻光阻组合物中有用的氟烷醇取代聚合物。还提供了合成烯烃氟烷醇和氟代聚醇前体的方法。
• Processes for producing fluorine-containing 2,4-diols and their derivatives
  申请人：Komata Takeo

  公开号：US20050215836A1

  公开（公告）日：2005-09-29

  A process for producing a fluorine-containing 2,4-diol represented by the formula [4], wherein R 1 represents a hydrogen atom or an acyclic or cyclic alkyl group having a carbon atom number of 1 to 7; R 2 represents an acyclic or cyclic alkyl group having a carbon atom number of 1 to 7, a phenyl group, or a substituted phenyl group; and R 1 and R 2 are optionally bonded to each other to form a ring, includes reducing a hydroxy ketone represented by the formula [3], wherein R 1 and R 2 are defined as above, by hydrogen in the presence of a ruthenium catalyst.

  生产一种由下式表示的含氟2,4-二醇的方法， 其中R1代表氢原子或具有1至7个碳原子的非环状或环状烷基基团；R2代表具有1至7个碳原子的非环状或环状烷基基团、苯基或取代苯基；且R1和R2可以选择地相互连接以形成环，包括在钌催化剂存在下用氢还原由下式表示的羟基酮， 其中R1和R2如上定义。
• RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING A RESIST PATTERN, COMPOUND, AND POLYMER
  申请人：ASANO Yuusuke

  公开号：US20120156612A1

  公开（公告）日：2012-06-21

  A radiation-sensitive resin composition includes a first polymer that includes a repeating unit having an acid-labile group and becomes alkali-soluble upon dissociation of the acid-labile group, and a radiation-sensitive acid-generating agent. The acid-labile group has a structure shown by a general formula (1). R 1 represents a methyl group or the like, R 2 represents a hydrocarbon group that forms a cyclic structure, R 3 represents a fluorine atom or the like, R 4 represents a carbon atom, and n 1 is an integer from 1 to 7.

  一种辐射敏感树脂组合物包括第一聚合物，其中包括具有酸敏感基团的重复单元，在酸敏感基团解离后变为碱溶解性，并且包括辐射敏感酸发生剂。酸敏感基团具有通式（1）所示的结构。R1代表甲基基团或类似物，R2代表形成环状结构的碳氢基团，R3代表氟原子或类似物，R4代表碳原子，n1为1至7之间的整数。