2-Ethylidenbicyclo<2.2.1>heptan (trans) | 39173-92-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 异戊烯醇脂质
• 英文名称: 2-Ethylidenbicyclo<2.2.1>heptan (trans)
• 英文别名: Z-2-Aethyliden-bicyclo<2.2.1>heptan；2-ethylidenebicyclo-[2.2.1]heptane；ethylidenenorbornane；(z)-2-Ethylidenenorbornane；(2Z)-2-ethylidenebicyclo[2.2.1]heptane
• CAS: 39173-92-7
• 化学式: C₉H₁₄
• 分子量: 122.21
• InChiKey: JURLNXPXCMWCHE-WAPJZHGLSA-N

物化性质

• 沸点：
  159.4±7.0 °C(Predicted)
• 密度：
  0.998±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.7
• 重原子数：
  9
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.78
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-Ethylidenbicyclo<2.2.1>heptan (trans) 在 间氯过氧苯甲酸 作用下， 以 乙醚 、 二氯甲烷 为溶剂， 以90.3%的产率得到2-ethylbicyclo[2.2.1]heptan-2-ol
  参考文献：
  名称：

  Ester compounds, polymers, resist compositions and patterning process

  摘要：

  提供一种具有外形2-烷基双环[2.2.1]庚烷-2-基团作为保护基团的新型酯化合物，以及包含该酯化合物单元的聚合物。该聚合物被用作基础树脂，用于配制一种比传统光刻胶具有更高灵敏度、分辨率和蚀刻抗性的抗蚀组合物。

  公开号：

  US06284429B1
• 作为产物：
  描述：

  溴乙烷 、 降樟脑 、 2-ethylbicyclo[2.2.1]heptan-2-ol 在 对甲苯磺酸一水合物 作用下， 以 四氢呋喃 、 endo-form 、 苯 为溶剂， 生成 2-Ethylidenbicyclo<2.2.1>heptan (trans)
  参考文献：
  名称：

  ACID-DECOMPOSABLE ESTER COMPOUND SUITABLE FOR USE IN RESIST MATERIAL

  摘要：

  一种具有外式2-烷基双环[2.2.1]庚烷-2-基酯作为酸可分解位点的新酯化合物被用作溶解调节剂，用于配制具有高灵敏度、分辨率、蚀刻抗性和储存稳定性的抗蚀组合物。

  公开号：

  US20020115874A1

文献信息

• Ester compounds, polymers, resist compositions and patterning process
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US06284429B1

  公开（公告）日：2001-09-04

  A novel ester compound having an exo-form 2-alkylbicyclo[2.2.1]heptan-2-yl group as the protective group is provided as well as a polymer comprising units of the ester compound. The polymer is used as a base resin to formulate a resist composition having a higher sensitivity, resolution and etching resistance than conventional resist compositions.

  提供一种具有外形2-烷基双环[2.2.1]庚烷-2-基团作为保护基团的新型酯化合物，以及包含该酯化合物单元的聚合物。该聚合物被用作基础树脂，用于配制一种比传统光刻胶具有更高灵敏度、分辨率和蚀刻抗性的抗蚀组合物。
• Resist compositions and patterning process
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：EP1053985B1

  公开（公告）日：2003-07-16
• ACID-DECOMPOSABLE ESTER COMPOUND SUITABLE FOR USE IN RESIST MATERIAL
  申请人：——

  公开号：US20020115874A1

  公开（公告）日：2002-08-22

  A novel ester compound having an exo-form 2-alkylbicyclo[2.2.1]heptan-2-yl ester as the acid-decomposable site is used as a dissolution regulator to formulate a resist composition having a high sensitivity, resolution, etching resistance and storage stability.

  一种具有外式2-烷基双环[2.2.1]庚烷-2-基酯作为酸可分解位点的新酯化合物被用作溶解调节剂，用于配制具有高灵敏度、分辨率、蚀刻抗性和储存稳定性的抗蚀组合物。