7-Chlorocarbonyl-2-oxohexahydro-3,5-methano-2H-cyclopenta[b]furane-6-yl Methacrylate | 1213754-87-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 异戊烯醇脂质
• 英文名称: 7-Chlorocarbonyl-2-oxohexahydro-3,5-methano-2H-cyclopenta[b]furane-6-yl Methacrylate
• 英文别名: (9-carbonochloridoyl-5-oxo-4-oxatricyclo[4.2.1.03,7]nonan-2-yl) 2-methylprop-2-enoate
• CAS: 1213754-87-0
• 化学式: C₁₃H₁₃ClO₅
• 分子量: 284.696
• InChiKey: DGYBRTBYJWATQQ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.8
• 重原子数：
  19
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.62
• 拓扑面积：
  69.7
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  5

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  7-Chlorocarbonyl-2-oxohexahydro-3,5-methano-2H-cyclopenta[b]furane-6-yl Methacrylate 、 在 4-二甲氨基吡啶 、 三乙胺 作用下， 以 甲苯 为溶剂， 反应 2.0h， 以82%的产率得到Bis[4-(1-methylcyclohexyl)oxyphenyl]methyl 2-(2-methylprop-2-enoyloxy)-5-oxo-4-oxatricyclo[4.2.1.03,7]nonane-9-carboxylate
  参考文献：
  名称：

  MONOMER, POLYMER, POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS

  摘要：

  一种聚合物，包含由可聚合单体衍生的重复单元，该单体具有两种羟基苯甲酸甲酯结构，羟基上取代有酸不稳定基团，作为正性光刻胶组成中的基础树脂，尤其是化学放大正性光刻胶组成中。该光刻胶组成形成一种光刻胶膜，通过光刻技术加工成具有高分辨率、最小边缘粗糙度和蚀刻抗性的良好轮廓图案。

  公开号：

  US20170008982A1
• 作为产物：
  描述：

  sodium p-hydroxybenzenesulfonate 以 四氢呋喃 、 水 为溶剂， 生成 7-Chlorocarbonyl-2-oxohexahydro-3,5-methano-2H-cyclopenta[b]furane-6-yl Methacrylate
  参考文献：
  名称：

  SULFONIUM SALT, POLYMER, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION USING SAID POLYMER, AND RESIST PATTERNING PROCESS

  摘要：

  公开了一种由以下一般式（1）所示的硫銨鹽。可以有一种硫銨鹽，能夠將一個能夠生成具有適當酸度並不損害與基材的粘附性的酸的酸生成單元引入到基聚合物中；使用所述硫銨鹽的聚合物；使用所述聚合物作為基聚合物的化學放大的抗蝕組成物；以及使用所述化學放大的抗蝕組成物的圖案形成過程。

  公开号：

  US20120308920A1

文献信息

• MONOMER, POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20150322027A1

  公开（公告）日：2015-11-12

  A monomer (1) is prepared by reacting a compound (9) with a base or metal to form a metal enolate reagent, and reacting the metal enolate reagent with an acyloxyketone compound (8). A polymer derived from the monomer is used as base resin to formulate a resist composition, which is shelf stable and displays a high dissolution contrast, controlled acid diffusion and low roughness in forming positive pattern via alkaline development and in forming negative pattern via organic solvent development.

  一种单体（1）是通过将一种化合物（9）与碱或金属反应形成金属烯醇盐试剂，然后将金属烯醇盐试剂与一种酰氧基酮化合物（8）反应而制备的。由该单体派生出的聚合物用作基础树脂，以配制一种光刻胶组合物，该组合物在常温下稳定，显示出高溶解对比度、控制的酸性扩散和在碱性显影形成正图案以及有机溶剂显影形成负图案时低粗糙度。
• POLYMERIZABLE ANION-CONTAINING SULFONIUM SALT AND POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：OHASHI Masaki

  公开号：US20100099042A1

  公开（公告）日：2010-04-22

  A polymerizable anion-containing sulfonium salt having formula (1) is provided wherein R 1 is H, F, methyl or trifluoromethyl, R 2 , R 3 and R 4 are C 1 -C 10 alkyl, alkenyl or oxoalkyl or C 6 -C 18 aryl, aralkyl or aryloxoalkyl, or two of R 2 , R 3 and R 4 may bond together to form a ring with S, A is a C 2 -C 20 hydrocarbon group having cyclic structure, and n is 0 or 1. The sulfonium salt generates a very strong sulfonic acid upon exposure to high-energy radiation. A resist composition comprising a polymer derived from the sulfonium salt is also provided.

  提供具有式（1）的可聚合含阴离子的亚砜盐，其中R1为H、F、甲基或三氟甲基，R2、R3和R4为C1-C10烷基、烯基或氧代烷基或C6-C18芳基、芳基烷基或芳基氧代烷基，或R2、R3和R4中的两个可以结合在一起形成与S的环，A为具有环状结构的C2-C20烃基团，n为0或1。该亚砜盐在暴露于高能辐射时生成非常强的磺酸。还提供了一种包含从该亚砜盐衍生的聚合物的抗蚀组合物。
• RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND POLYMER AND COMPOUND
  申请人：Osaki Hitoshi

  公开号：US20130122426A1

  公开（公告）日：2013-05-16

  A radiation-sensitive resin composition that provides a resist coating film in a liquid immersion lithography process is provided, the radiation-sensitive resin composition being capable of exhibiting a great dynamic contact angle during exposure, whereby the surface of the resist coating film can exhibit a superior water draining property, and the radiation-sensitive resin composition being capable of leading to a significant decrease in the dynamic contact angle during development, whereby generation of development defects can be inhibited, and further shortening of a time period required for change in a dynamic contact angle is enabled. A radiation-sensitive resin composition including (A) a fluorine-containing polymer having a structural unit (I) that includes a group represented by the following formula (1), and (B) a radiation-sensitive acid generator.

  提供一种辐射敏感的树脂组合物，可在液体浸没光刻工艺中提供抗蚀涂层膜，该辐射敏感的树脂组合物能够在曝光过程中展现出极大的动态接触角，从而使抗蚀涂层膜表面表现出优越的排水性能，并且该辐射敏感的树脂组合物能够在显影过程中引起动态接触角的显著降低，从而可以抑制显影缺陷的产生，并进一步缩短动态接触角变化所需的时间。该辐射敏感的树脂组合物包括（A）一种含氟聚合物，其具有包括以下公式（1）所表示的基团的结构单元（I），以及（B）一种辐射敏感的酸发生剂。
• POLYMERIZABLE ESTER COMPOUND, POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：HASEGAWA Koji

  公开号：US20130017484A1

  公开（公告）日：2013-01-17

  Polymerizable ester compounds having formula (1) are novel wherein R 1 is H, F, methyl or trifluoromethyl, R 2 is an acid labile group, Aa is a divalent hydrocarbon group which may be separated by —O— or —C(═O)—, and k 1 is 0 or 1. They are useful as monomers to produce polymers which are transparent to radiation ≦500 nm. Radiation-sensitive resist compositions comprising the polymers as base resin exhibit excellent developed properties.

  具有式（1）的可聚合酯化合物是新颖的，其中R1为H、F、甲基或三氟甲基，R2为酸敏感基团，Aa为二价的碳氢基团，可以通过—O—或—C（═O）—分离，k1为0或1。它们可用作单体，用于生产对辐射≦500 nm透明的聚合物。以这些聚合物作为基础树脂的辐射敏感抗蚀剂组合物表现出优异的显影性能。
• Polymerizable anion-containing sulfonium salt and polymer, resist composition, and patterning process
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US08105748B2

  公开（公告）日：2012-01-31

  A polymerizable anion-containing sulfonium salt having formula (1) is provided wherein R1 is H, F, methyl or trifluoromethyl, R2, R3 and R4 are C1-C10 alkyl, alkenyl or oxoalkyl or C6-C18 aryl, aralkyl or aryloxoalkyl, or two of R2, R3 and R4 may bond together to form a ring with S, A is a C2-C20 hydrocarbon group having cyclic structure, and n is 0 or 1. The sulfonium salt generates a very strong sulfonic acid upon exposure to high-energy radiation. A resist composition comprising a polymer derived from the sulfonium salt is also provided.

  提供了一种具有式（1）的聚合可的含阴离子的硫鎓盐，其中R1为H、F、甲基或三氟甲基，R2、R3和R4为C1-C10烷基、烯基或氧代烷基或C6-C18芳基、芳基烷基或芳基氧代烷基，或者R2、R3和R4中的两个可以结合形成含S的环，A是具有环状结构的C2-C20烃基，n为0或1。该硫鎓盐在高能辐射下产生非常强的磺酸。还提供了一种包含由该硫鎓盐衍生的聚合物的抗蚀剂组合物。