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1-<4-sec.Butyl-phenyl>-aethanol-(1) | 144062-08-8

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
1-<4-sec.Butyl-phenyl>-aethanol-(1)
英文别名
1-(4-sec-butyl-phenyl)-ethanol;1-(4-sec-Butyl-phenyl)-aethanol;1-(4-Butan-2-ylphenyl)ethanol
1-<4-sec.Butyl-phenyl>-aethanol-(1)化学式
CAS
144062-08-8
化学式
C12H18O
mdl
——
分子量
178.274
InChiKey
POXXJHIATZJFKV-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    3.1
  • 重原子数:
    13
  • 可旋转键数:
    3
  • 环数:
    1.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.5
  • 拓扑面积:
    20.2
  • 氢给体数:
    1
  • 氢受体数:
    1

上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量
  • 下游产品
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为反应物:
    参考文献:
    名称:
    双螺[2.2.n.2]链二烯的闪蒸真空热解
    摘要:
    双螺[2.2.6.2]-十四碳-4,13-二烯(7a),双螺[2.2.5.2]三苯胺-4,12-二烯(7b)和双螺[2.2.2.2]十碳的闪蒸真空热解(FVT)据报道,在500 – 750°C下出现-4,9-二烯(7e)。来自7a和7b的复杂反应混合物(方案3)在较低温度下包括乙烯基螺碳二烯9,亚乙基螺碳链二烯10b,β-乙基环烷基苯11,在较高温度下包括pn-烷基-(5)和对仲烷基苯乙烯14和对-二乙烯基苯。 (15)占主导地位。产物的形成是通过调用双自由基解释8,6和12以及所述环芳1和13作为中间体。对于7e而言,产物混合物较为简单,由对乙基苯乙烯(5e),15和意外的对异丙基苯乙烯(14e)组成。),其中的碳含量比起始原料多一碳。对产物形成的分析和解释在很大程度上证实了先前提出的反应途径,并提供了进一步有趣的细节。然而,还遇到了新的和出乎意料的特征,特别是在1和13的碎片中,这可能
    DOI:
    10.1016/s0040-4020(01)87687-0
  • 作为产物:
    描述:
    1-(4-仲丁基苯基)乙酮 在 C15H20ClN3NiO2异丙醇 、 potassium hydroxide 作用下, 反应 12.0h, 以85%的产率得到1-<4-sec.Butyl-phenyl>-aethanol-(1)
    参考文献:
    名称:
    具有恶唑啉基骨架的非手性和手性 NNN-钳状镍配合物:在酮转移氢化中的应用
    摘要:
    我们描述了新的 NNN-恶唑啉基-钳状镍配合物的合成及其在酮转移氢化中的应用。非手性 NNN-配体,R' 2 -恶唑啉基-2-C 6 H 4 -NH-C(O)CH 2 NEt 2 [( R'2-Ox NNN Et2 )–H; R' = H ( 3a ), R' = Me ( 3b )], 和手性配体, ( R )-R'-恶唑啉基-2-C 6 H 4 -NH-C(O)CH 2 NEt 2 [( R )-( R'-Ox NNN Et2 )-H; R' = Ph ( 3c ), R' = CH 2 Ph (3d ), R' = i Pr ( 3e ), R' = CH 2 i Pr ( 3f )],被有效地合成。用 (DME)NiCl 2处理这些配体得到所需的酰胺-钳状镍配合物,( R'2-Ox NNN Et2 )NiCl [R' = H ( 4a ), R' = Me ( 4b )] 和 ( R'
    DOI:
    10.1039/d1nj01698a
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文献信息

  • CHEMICALLY AMPLIFIED NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING PROCESS
    申请人:Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
    公开号:US20180180998A1
    公开(公告)日:2018-06-28
    A negative resist composition comprising a sulfonium compound having formula (A) and a base polymer is provided. The resist composition exhibits a high resolution during pattern formation and forms a pattern with minimal LER.
    提供一种负型光刻胶组合物,包括具有公式(A)的磺化物化合物和基础聚合物。该光刻胶组合物在图案形成期间表现出高分辨率,并形成具有最小LER的图案。
  • Matsui, Kogyo Kagaku zasshi / Journal of the Society of Chemical Industry, 1941, vol. 44, p. 655,656
    作者:Matsui
    DOI:——
    日期:——
  • Matsui, The journal of the Society of Chemical Industry, Japan. Supplemental binding., 1941, vol. 44, p. 284
    作者:Matsui
    DOI:——
    日期:——
  • Tsutsumi et al., 1956, vol. 35, p. 395,396
    作者:Tsutsumi et al.
    DOI:——
    日期:——
  • TANAKA, YASUTAKA;KODZIMA, XIDEHTAKA
    作者:TANAKA, YASUTAKA、KODZIMA, XIDEHTAKA
    DOI:——
    日期:——
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