2-(methoxymethylene)adamantane | 29542-63-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: 2-(methoxymethylene)adamantane
• 英文别名: 2-(Methoxymethyl)-adamantan；2-(Methoxymethyl)tricyclo[3.3.1.13,7]decane；2-(methoxymethyl)adamantane
• CAS: 29542-63-0
• 化学式: C₁₂H₂₀O
• 分子量: 180.29
• InChiKey: NOHFLHFEYKODIE-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  257.8±8.0 °C(Predicted)
• 密度：
  0.983±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.4
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  9.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-(methoxymethylene)adamantane 在 sodium tetrahydroborate 、 高氯酸 、 对甲苯磺酸 作用下， 以 四氢呋喃 、 乙醚 、 二氯甲烷 、 水 为溶剂， 反应 2.0h， 生成 (±)-(1R*,5S*)-1-(adamantan-2-ylmethoxy)-4,4-dimethyl-2,3-dioxabicyclo[3.3.1]nonane
  参考文献：
  名称：

  桥联双环2,3-二氧杂双环[3.3.1]壬烷作为抗疟原虫剂：合成，构效关系及其与Fe（II）的仿生反应研究。

  摘要：

  尽管最近在控制疟疾方面取得了进展，但疟疾仍然是一种致命的寄生虫病，每年造成数百万人死亡。通过使用所谓的青蒿素联合疗法（ACT），在抵抗感染方面取得了进展。天然和合成的过氧化物是一类重要的抗疟药。在这里，我们描述了一系列新的过氧化物，这些过氧化物是由我们以前开发的双环稠合/桥连合成内过氧化物支架的新工艺合成而合成的。这些过氧化物是通过简单的合成规程生产的，并且在对氯喹敏感和耐氯喹的恶性疟原虫菌株进行测试时，具有亚微摩尔效价的特征。为了调查他们的行动方式，通过EPR研究了代表性化合物6w与Fe（II）的仿生反应，并通过NMR对反应产物进行了表征。通过分子对接进行观察到的结构-活性关系研究的合理化。综上所述，我们的数据有力地支持了过氧化物6a-cc活化的假想模式，并导致了负责抗疟原虫效力的关键结构要求的定义。这些数据将为将来合理设计适用于体内研究的新型优化抗疟药铺平道路。我们的数据有力地支持了过

  DOI：

  10.1016/j.bioorg.2019.103020
• 作为产物：
  描述：

  金刚烷酮 、 甲氧基甲基三苯基氯化膦 在 正丁基锂 作用下， 以 乙醚 为溶剂， 反应 16.0h， 以54%的产率得到2-(methoxymethylene)adamantane
  参考文献：
  名称：

  桥联双环2,3-二氧杂双环[3.3.1]壬烷作为抗疟原虫剂：合成，构效关系及其与Fe（II）的仿生反应研究。

  摘要：

  尽管最近在控制疟疾方面取得了进展，但疟疾仍然是一种致命的寄生虫病，每年造成数百万人死亡。通过使用所谓的青蒿素联合疗法（ACT），在抵抗感染方面取得了进展。天然和合成的过氧化物是一类重要的抗疟药。在这里，我们描述了一系列新的过氧化物，这些过氧化物是由我们以前开发的双环稠合/桥连合成内过氧化物支架的新工艺合成而合成的。这些过氧化物是通过简单的合成规程生产的，并且在对氯喹敏感和耐氯喹的恶性疟原虫菌株进行测试时，具有亚微摩尔效价的特征。为了调查他们的行动方式，通过EPR研究了代表性化合物6w与Fe（II）的仿生反应，并通过NMR对反应产物进行了表征。通过分子对接进行观察到的结构-活性关系研究的合理化。综上所述，我们的数据有力地支持了过氧化物6a-cc活化的假想模式，并导致了负责抗疟原虫效力的关键结构要求的定义。这些数据将为将来合理设计适用于体内研究的新型优化抗疟药铺平道路。我们的数据有力地支持了过

  DOI：

  10.1016/j.bioorg.2019.103020

文献信息

• SILANE COMPOUND, POLYSILOXANE AND RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION
  申请人：JSR Corporation

  公开号：EP1679314A1

  公开（公告）日：2006-07-12

  A novel polysiloxane suitable as a resin component of a chemically-amplified resist exhibiting particularly excellent I-D bias, depth of focus (DOF), and the like, a novel silane compound useful as a raw material for synthesizing the polysiloxane, and a radiation-sensitive resin composition comprising the polysiloxane are provided. The silane compound is shown by the following formula (I), and the polysiloxane has a structural unit shown by the following formula (1), wherein R is an alkyl group, R1 and R2 individually represent a fluorine atom, lower alkyl group, or lower fluoroalkyl group, n is 0 or 1, k is 1 or 2, and i is an integer of 0 to 10. The radiation-sensitive resin composition comprises the polysiloxane and a photoacid generator.

  本发明提供了一种适用于作为化学放大抗蚀剂的树脂成分的新型聚硅氧烷，该抗蚀剂具有特别优异的 I-D 偏压和焦深（DOF）等性能；一种可用作合成该聚硅氧烷的原料的新型硅烷化合物；以及一种包含该聚硅氧烷的辐射敏感树脂组合物。 硅烷化合物如下式（I）所示、 而聚硅氧烷具有下式（1）所示的结构单元、 其中 R 是烷基，R1 和 R2 分别代表氟原子、低级烷基或低级氟烷基，n 是 0 或 1，k 是 1 或 2，i 是 0 至 10 的整数。 辐射敏感树脂组合物包括聚硅氧烷和光酸发生器。
• RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION
  申请人：JSR Corporation

  公开号：EP1726608A1

  公开（公告）日：2006-11-29

  A siloxane resin exhibiting high transparency at a wavelength of 193 nm or less, very suitable as a resin component in a radiation-sensitive resin composition useful particularly for manufacturing LSIs, and a radiation-sensitive resin composition useful as a chemically-amplified resist exhibiting excellent depth of focus (DOF) and capability of remarkably decreasing development defects are provided. The siloxane resin comprises the structural unit (I) shown by the following formula (I) and the structural unit (II) shown by the following formula (II) in the same molecule, the structural unit (I) and the structural unit (II) being included in an amount of more than 0 mol% but not more than 70 mol%, wherein A and B individually represents a divalent linear, branched, or cyclic hydrocarbon group, R1 represents a monovalent acid-dissociable group, and R2 represents a linear, branched, or cyclic alkyl group. The radiation-sensitive resin composition comprises (a) the siloxane resin and (b) a photoacid generator.

  本发明提供了一种在 193 纳米或更低波长下具有高透明度的硅氧烷树脂，它非常适合用作特别是用于制造 LSI 的辐射敏感树脂组合物中的树脂成分，还提供了一种用作化学放大抗蚀剂的辐射敏感树脂组合物，它具有优异的焦深（DOF）和显著减少显影缺陷的能力。 硅氧烷树脂在同一分子中包含下式（I）所示的结构单元（I）和下式（II）所示的结构单元（II），结构单元（I）和结构单元（II）的含量超过 0 摩尔%，但不超过 70 摩尔%、 其中 A 和 B 分别代表二价直链、支链或环状烃基，R1 代表一价酸可分解基团，R2 代表直链、支链或环状烷基。 辐射敏感树脂组合物包括 (a) 硅氧烷树脂和 (b) 光酸发生器。
• van Zorge,J.A. et al., Recueil des Travaux Chimiques des Pays-Bas, 1970, vol. 89, p. 781 - 790
  作者：van Zorge,J.A. et al.

  DOI：——

  日期：——
• Radiation sensitive resin composition
  申请人：Nishimura Isao

  公开号：US20050171226A1

  公开（公告）日：2005-08-04

  A radiation-sensitive resin composition comprising (A) a resin containing a structural unit of the following formula (I), (B) a resin containing a recurring unit of the following formula (II), and (C) a photoacid generator, wherein R 1 represents a substituted or unsubstituted divalent (alicyclic) hydrocarbon, R 2 represents a lower alkyl group or a monovalent (substituted) alicyclic hydrocarbon group, or any two R 2 s form in combination a divalent (substituted) alicyclic hydrocarbon group, with the remaining R 2 being a lower alkyl group or a monovalent (substituted) alicyclic hydrocarbon group, wherein R 3 represents a hydrogen atom, fluorine atom, or trifluoromethyl group, R 4 represents a (substituted) hydrocarbon group with a valence of (c+1), (substituted) alicyclic hydrocarbon with a valence of (c+1), or (substituted) aromatic group with a valence of (c+1), R 5 represents a hydrogen atom or a monovalent acid-dissociable group, a and b individually represent an integer of 0-3, provided that (a+b)≧1 is satisfied, and c is an integer of 1-3. The radiation-sensitive resin composition has a high transparency at a wavelength of 193 nm or less and is particularly excellent in LER.
• Radiation-Sensitive Resin Composition
  申请人：Nishimura Isao

  公开号：US20070269735A1

  公开（公告）日：2007-11-22

  A siloxane resin exhibiting high transparency at a wavelength of 193 nm or less, very suitable as a resin component in a radiation-sensitive resin composition useful particularly for manufacturing LSIs, and a radiation-sensitive resin composition useful as a chemically-amplified resist exhibiting excellent depth of focus (DOF) and capability of remarkably decreasing development defects are provided. The siloxane resin comprises the structural unit (I) shown by the following formula (I) and the structural unit (II) shown by the following formula (II) in the same molecule, the structural unit (I) and the structural unit (II) being included in an amount of more than 0 mol % but not more than 70 mol %, wherein A and B individually represents a divalent linear, branched, or cyclic hydrocarbon group, R 1 represents a monovalent acid-dissociable group, and R 2 represents a linear, branched, or cyclic alkyl group. The radiation-sensitive resin composition comprises (a) the siloxane resin and (b) a photoacid generator.