o-ethoxy trans-cinnamic acid methyl ester

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯丙烷和聚酮 - 肉桂酸及其衍生物
• 英文名称: o-ethoxy trans-cinnamic acid methyl ester
• 英文别名: 2-ethoxy-trans-cinnamic acid methyl ester；2-Aethoxy-trans-zimtsaeure-methylester；methyl (E)-3-(2-ethoxyphenyl)prop-2-enoate
• 化学式: C₁₂H₁₄O₃
• mdl: MFCD23713209
• 分子量: 206.241
• InChiKey: FWRKTDPPCXCWGQ-CMDGGOBGSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.5
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.25
• 拓扑面积：
  35.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  o-ethoxy trans-cinnamic acid methyl ester 在 tris(4-pyridyl)1,3,5-triazine-based Pd(II) 作用下， 以 重水 为溶剂， 反应 3.0h， 生成 dimethyl (1R,2S,3R,4S)-3,4-bis(2-ethoxyphenyl)cyclobutane-1,2-dicarboxylate 、 2-ethoxy-cis-cinnamic acid methyl ester
  参考文献：
  名称：

  水溶性Pd纳米笼对反肉桂酸酯的光二聚化的模板化

  摘要：

  水溶性八面体的Pd纳米笼作为反应容器模板取代的光二反式水-肉桂酸甲基酯。反式的主客体复合物的辐照-肉桂酸甲酯与Pd纳米笼形成了除相应的顺式异构体外还选择性形成顺头二聚体的现象。这些结果表明，客体分子以选择性的方式预取向，其中亲水性酯基面对水而疏水性芳基被塞在主体腔内。这样的取向发生在纳米笼外部和内部之间的疏水-亲水界面处。主体和客体之间的弱分子间CH-π和π-π相互作用可能是反应物烯烃在短的激发态寿命期间缺乏迁移率的原因。

  DOI：

  10.1021/jo0617722
• 作为产物：
  描述：

  反式-2-羟基肉桂酸 在 potassium carbonate 、 对甲苯磺酸 作用下， 以 丙酮 为溶剂， 反应 17.0h， 生成 o-ethoxy trans-cinnamic acid methyl ester
  参考文献：
  名称：

  水溶性Pd纳米笼对反肉桂酸酯的光二聚化的模板化

  摘要：

  水溶性八面体的Pd纳米笼作为反应容器模板取代的光二反式水-肉桂酸甲基酯。反式的主客体复合物的辐照-肉桂酸甲酯与Pd纳米笼形成了除相应的顺式异构体外还选择性形成顺头二聚体的现象。这些结果表明，客体分子以选择性的方式预取向，其中亲水性酯基面对水而疏水性芳基被塞在主体腔内。这样的取向发生在纳米笼外部和内部之间的疏水-亲水界面处。主体和客体之间的弱分子间CH-π和π-π相互作用可能是反应物烯烃在短的激发态寿命期间缺乏迁移率的原因。

  DOI：

  10.1021/jo0617722

文献信息

• RESIN COMPOSITION AND OPTICAL COMPENSATION FILM USING SAME
  申请人：Tosoh Corporation

  公开号：EP3208301A1

  公开（公告）日：2017-08-23

  To provide a resin composition suitable for an optical compensation film, an optical compensation film using the same, which is excellent in the retardation characteristics and wavelength dispersion characteristics, and a production method of an optical compensation film. A resin composition containing, as resin components, from 30 to 99 wt% of a cellulose-based resin represented by the following formula (1) and from 1 to 70 wt% of a cinnamic acid ester copolymer. (wherein each of R1, R2 and R3 independently represents hydrogen or a substituent having a carbon number of 1 to 12).

  提供一种适用于光学补偿膜的树脂组合物、一种使用了该树脂组合物的光学补偿膜，该光学补偿膜在延缓特性和波长色散特性方面都非常出色，还提供了一种光学补偿膜的生产方法。 一种树脂组合物，作为树脂成分，含有 30 至 99 wt%由下式（1）表示的纤维素基树脂和 1 至 70 wt%的肉桂酸酯共聚物。 (其中 R1、R2 和 R3 各自独立地代表氢或碳原子数为 1 至 12 的取代基）。
• Resin composition and optical compensation film using same
  申请人：TOSOH CORPORATION

  公开号：US10126478B2

  公开（公告）日：2018-11-13

  A resin composition suitable for an optical compensation film, an optical compensation film using the same, which is excellent in the retardation characteristics and wavelength dispersion characteristics, and a production method of an optical compensation film. A resin composition containing, as resin components, from 30 to 99 wt % of a cellulose-based resin represented by the following formula (1) and from 1 to 70 wt % of a cinnamic acid ester copolymer: where each of R1, R2 and R3 independently represents hydrogen or a substituent having a carbon number of 1 to 12.

  一种适用于光学补偿膜的树脂组合物、一种使用了该树脂组合物且延缓特性和波长色散特性优异的光学补偿膜，以及一种光学补偿膜的生产方法。一种树脂组合物，作为树脂成分，含有 30 至 99 wt % 下式（1）表示的纤维素基树脂和 1 至 70 wt % 肉桂酸酯共聚物： 其中 R1、R2 和 R3 各自独立地代表氢或碳原子数为 1 至 12 的取代基。
• HALOGENATED OXIME DERIVATIVES AND THE USE THEREOF AS LATENT ACIDS
  申请人：Ciba Specialty Chemicals Holding Inc.

  公开号：EP1595182A2

  公开（公告）日：2005-11-16
• [EN] HALOGENATED OXIME DERIVATIVES AND THE USE THEREOF AS LATENT ACIDS<br/>[FR] DERIVES D'OXIME HALOGENEE ET UTILISATION DE CEUX-CI COMME ACIDES LATENTS
  申请人：CIBA SC HOLDING AG

  公开号：WO2004074242A2

  公开（公告）日：2004-09-02

  Compounds of the formula (I) or (II) wherein R1 is C1-C10haloalkylsulfonyl, halobenzenesulfonyl, C2-C10haloalkanoyl, halobenzoyl; R2 is halogen or C1-C10haloalkyl; Arl is phenyl, biphenylyl, fluorenyl, naphthyl, anthracyl, phenanthryl, or heteroaryl, all of which are optionally substituted; Ar'1 is for example phenylene, naphthylene, diphonylene, heteroarylene, oxydiphenylene, phenyleneD-D1-D-phenylene or -A r'1-A1-Y1-A1-A r'1-; wherein these radicals optionally are substituted; Ae', is phenylene, naphthylene, anthracylene, phenanthrylene, or heteroarylene, all optionally substituted; A, is for exampfe a direct bond, -0-, -S-, or -NR6-; Y, inter alia is C1-C18alkylene; X is halogen; D is for example -0-, -S- or -NR6-; D, inter alia is C1-C18alkylene; are particularly suitable as photolatent acids in ArF resist technology.