2-adamantyl-1-chloro-2-methylpropyl ether

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: 2-adamantyl-1-chloro-2-methylpropyl ether
• 英文别名: 2-(1-Chloro-2-methylpropoxy)adamantane
• 化学式: C₁₄H₂₃ClO
• 分子量: 242.789
• InChiKey: QIYUNXLQXZVMQI-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.5
• 重原子数：
  16
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  9.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  甲基丙烯酸 、 2-adamantyl-1-chloro-2-methylpropyl ether 在 2,2'-亚甲基双-(4-甲基-6-叔丁基苯酚) 、 三乙胺 作用下， 反应 4.0h， 以86%的产率得到1-(2-adamantyloxy)-2-methylpropylmethacrylate
  参考文献：
  名称：

  아세탈 화합물, 그의 제조 방법, 고분자 화합물, 레지스트 재료 및 패턴 형성 방법

  摘要：

  本发明提供一种由式1表示的缩醛化合物。<式1>（其中R1代表氢原子、甲基或三氟甲基，R2代表碳原子数为1至10的直链、支链或环状一价烃基，R3和R4各自独立地代表氢原子或碳原子数为1至10的直链、支链或环状一价烃基、R2和R3可键合在一起，与所键合的碳原子形成脂族烃环，X1可为单键或碳原子数为1至4的直链或支链二价烃基。)本发明的抗蚀剂材料，特别是化学放大正极抗蚀剂材料，在微加工技术，特别是氩焰光刻技术中具有非常高的分辨率，对精密微加工非常有用。 缩醛化合物缩醛化合物制备方法聚合物化合物抗蚀剂材料图案形成方法。

  公开号：

  KR101532099B1
• 作为产物：
  描述：

  2-金刚烷醇 在 盐酸 、 potassium tert-butylate 、 sodium hydride 作用下， 以 四氢呋喃 、 正己烷 、 二甲基亚砜 为溶剂， 反应 17.0h， 生成 2-adamantyl-1-chloro-2-methylpropyl ether
  参考文献：
  名称：

  아세탈 화합물, 그의 제조 방법, 고분자 화합물, 레지스트 재료 및 패턴 형성 방법

  摘要：

  本发明提供一种由式1表示的缩醛化合物。<式1>（其中R1代表氢原子、甲基或三氟甲基，R2代表碳原子数为1至10的直链、支链或环状一价烃基，R3和R4各自独立地代表氢原子或碳原子数为1至10的直链、支链或环状一价烃基、R2和R3可键合在一起，与所键合的碳原子形成脂族烃环，X1可为单键或碳原子数为1至4的直链或支链二价烃基。)本发明的抗蚀剂材料，特别是化学放大正极抗蚀剂材料，在微加工技术，特别是氩焰光刻技术中具有非常高的分辨率，对精密微加工非常有用。 缩醛化合物缩醛化合物制备方法聚合物化合物抗蚀剂材料图案形成方法。

  公开号：

  KR101532099B1

文献信息

• ACETAL COMPOUNDS AND THEIR PREPARATION, POLYMERS, RESIST COMPOSITIONS AND PATTERNING PROCESS
  申请人：HASEGAWA Koji

  公开号：US20100136485A1

  公开（公告）日：2010-06-03

  An acetal compound of formula (1) is provided wherein R 1 is H, methyl or trifluoromethyl, R 2 is a monovalent C 1 -C 10 hydrocarbon group, R 3 and R 4 are H or a monovalent C 1 -C 10 hydrocarbon group, R 2 and R 3 may together form an aliphatic hydrocarbon ring, and X 1 is a single bond or a divalent C 1 -C 4 hydrocarbon group. A polymer comprising recurring units derived from the acetal compound is used as a base resin to formulate a resist composition which exhibits a high resolution when processed by micropatterning technology, especially ArF lithography.

  提供了一个式为（1）的缩醛化合物，其中R1为H、甲基或三氟甲基，R2为一价的C1-C10烃基，R3和R4为H或一价的C1-C10烃基，R2和R3可能共同形成脂肪烃环，X1为单键或二价的C1-C4烃基。由这种缩醛化合物衍生的重复单位构成的聚合物被用作基础树脂，制备耐光刻蚀性能高的光刻胶组合物，特别适用于微细图案技术处理，尤其是ArF光刻技术。
• US8420290B2
  申请人：——

  公开号：US8420290B2

  公开（公告）日：2013-04-16