2-adamantyl-2-methyl-1-propenyl ether

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: 2-adamantyl-2-methyl-1-propenyl ether
• 英文别名: 2-(2-Methylprop-1-enoxy)adamantane
• 化学式: C₁₄H₂₂O
• 分子量: 206.328
• InChiKey: GWICOPKJEWCGSR-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.1
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.86
• 拓扑面积：
  9.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-adamantyl-2-methyl-1-propenyl ether 在 盐酸 作用下， 以 正己烷 为溶剂， 反应 2.0h， 生成 2-adamantyl-1-chloro-2-methylpropyl ether
  参考文献：
  名称：

  아세탈 화합물, 그의 제조 방법, 고분자 화합물, 레지스트 재료 및 패턴 형성 방법

  摘要：

  本发明提供一种由式1表示的缩醛化合物。<式1>（其中R1代表氢原子、甲基或三氟甲基，R2代表碳原子数为1至10的直链、支链或环状一价烃基，R3和R4各自独立地代表氢原子或碳原子数为1至10的直链、支链或环状一价烃基、R2和R3可键合在一起，与所键合的碳原子形成脂族烃环，X1可为单键或碳原子数为1至4的直链或支链二价烃基。)本发明的抗蚀剂材料，特别是化学放大正极抗蚀剂材料，在微加工技术，特别是氩焰光刻技术中具有非常高的分辨率，对精密微加工非常有用。 缩醛化合物缩醛化合物制备方法聚合物化合物抗蚀剂材料图案形成方法。

  公开号：

  KR101532099B1
• 作为产物：
  描述：

  2-金刚烷醇 在 potassium tert-butylate 、 sodium hydride 作用下， 以 四氢呋喃 、 二甲基亚砜 为溶剂， 反应 15.0h， 生成 2-adamantyl-2-methyl-1-propenyl ether
  参考文献：
  名称：

  아세탈 화합물, 그의 제조 방법, 고분자 화합물, 레지스트 재료 및 패턴 형성 방법

  摘要：

  本发明提供一种由式1表示的缩醛化合物。<式1>（其中R1代表氢原子、甲基或三氟甲基，R2代表碳原子数为1至10的直链、支链或环状一价烃基，R3和R4各自独立地代表氢原子或碳原子数为1至10的直链、支链或环状一价烃基、R2和R3可键合在一起，与所键合的碳原子形成脂族烃环，X1可为单键或碳原子数为1至4的直链或支链二价烃基。)本发明的抗蚀剂材料，特别是化学放大正极抗蚀剂材料，在微加工技术，特别是氩焰光刻技术中具有非常高的分辨率，对精密微加工非常有用。 缩醛化合物缩醛化合物制备方法聚合物化合物抗蚀剂材料图案形成方法。

  公开号：

  KR101532099B1

文献信息

• SULFONIUM SALT, RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING PROCESS
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20160090355A1

  公开（公告）日：2016-03-31

  A sulfonium salt of formula (0-1) is provided wherein W is alkylene or arylene, R 01 is a monovalent hydrocarbon group, m is 0, 1 or 2, k is an integer: 0≦k≦5+4m, R 101 , R 102 and R 103 are a monovalent hydrocarbon group, or at least two of R 101 , R 102 and R 103 may bond together to form a ring with the sulfur atom, and L is a single bond, ester, sulfonic acid ester, carbonate or carbamate bond. A resist composition comprising the sulfonium salt as PAG exhibits a very high resolution when processed by EB and EUV lithography. A pattern with minimal LER is obtainable.

  提供一种化学式为（0-1）的磺鎓盐，其中W是烷基或芳基，R01是一价碳氢基团，m为0、1或2，k为整数：0≦k≦5+4m，R101、R102和R103是一价碳氢基团，或者R101、R102和R103中至少两个可以相互结合形成与硫原子的环，L是单键、酯、磺酸酯、碳酸酯或氨基甲酸酯键。包含磺鎓盐作为PAG的抗蚀组成物在经过电子束或极紫外光刻过程时表现出非常高的分辨率。可获得具有最小LER的图案。
• Polymer, positive resist composition, and pattern forming process
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US10191372B2

  公开（公告）日：2019-01-29

  A polymer comprising recurring units derived from vinylanthraquinone, recurring units derived from acid labile group-substituted hydroxystyrene, and recurring units derived from hydroxystyrene is provided. The polymer is used as a base resin to formulate a positive resist composition having a high resolution and minimal LER.

  本发明提供了一种聚合物，它包含由乙烯基蒽醌衍生的递归单元、由酸性基团取代的羟基苯乙烯衍生的递归单元以及由羟基苯乙烯衍生的递归单元。该聚合物可用作基础树脂，配制出具有高分辨率和最小 LER 的正抗蚀剂组合物。
• POLYMER, POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND PATTERN FORMING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20170343898A1

  公开（公告）日：2017-11-30

  A polymer comprising recurring units derived from vinylanthraquinone, recurring units derived from acid labile group-substituted hydroxystyrene, and recurring units derived from hydroxystyrene is provided. The polymer is used as a base resin to formulate a positive resist composition having a high resolution and minimal LER.
• US9285678B2
  申请人：——

  公开号：US9285678B2

  公开（公告）日：2016-03-15
• US9500949B2
  申请人：——

  公开号：US9500949B2

  公开（公告）日：2016-11-22