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2-t-butoxycarbonylnorbornan-5,6-diol | 232919-96-9

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
2-t-butoxycarbonylnorbornan-5,6-diol
英文别名
Tert-butyl 5,6-dihydroxybicyclo[2.2.1]heptane-2-carboxylate
2-t-butoxycarbonylnorbornan-5,6-diol化学式
CAS
232919-96-9
化学式
C12H20O4
mdl
——
分子量
228.288
InChiKey
YQRCFRACCGAQRV-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    0.6
  • 重原子数:
    16
  • 可旋转键数:
    3
  • 环数:
    2.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.92
  • 拓扑面积:
    66.8
  • 氢给体数:
    2
  • 氢受体数:
    4

上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    2-t-butoxycarbonylnorbornan-5,6-diol丙烯酰氯三乙胺 作用下, 以 四氢呋喃 为溶剂, 反应 6.0h, 以72%的产率得到2-tert-butoxycarbonyl-5-hydroxy-6-norbornylacrylate
    参考文献:
    名称:
    Copolymer resin, preparation thereof, and photoresist using the same
    摘要:
    本发明涉及一种用于KrF或ArF等超短波光源的共聚物树脂,其制备方法以及含有相同树脂的光刻胶。根据本发明的共聚物树脂由于在光刻胶的共聚物结构中引入了去环戊烯基(甲基)丙烯酸酯单元,因此可以通过常规自由基聚合轻松制备。该树脂在193纳米波长下具有高透明度,由于去环戊烯基中的亲水性功能基团,提供了增强的刻蚀抗性和增强的粘接强度,并在实际的图案制备实验中显示出0.15微米的优异分辨率。
    公开号:
    US06372935B1
  • 作为产物:
    描述:
    5-降冰片烯-2-羧酸叔丁酯potassium permanganate 作用下, 以 丙酮 为溶剂, 反应 2.5h, 以80%的产率得到2-t-butoxycarbonylnorbornan-5,6-diol
    参考文献:
    名称:
    Copolymer resin, preparation thereof, and photoresist using the same
    摘要:
    本发明涉及一种用于KrF或ArF等超短波光源的共聚物树脂,其制备方法以及含有相同树脂的光刻胶。根据本发明的共聚物树脂由于在光刻胶的共聚物结构中引入了去环戊烯基(甲基)丙烯酸酯单元,因此可以通过常规自由基聚合轻松制备。该树脂在193纳米波长下具有高透明度,由于去环戊烯基中的亲水性功能基团,提供了增强的刻蚀抗性和增强的粘接强度,并在实际的图案制备实验中显示出0.15微米的优异分辨率。
    公开号:
    US06372935B1
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文献信息

  • US6372935B1
    申请人:——
    公开号:US6372935B1
    公开(公告)日:2002-04-16
  • Copolymer resin, preparation thereof, and photoresist using the same
    申请人:Hyundai Electronics Industries Co., Ltd.
    公开号:US06372935B1
    公开(公告)日:2002-04-16
    The present invention relates to a copolymer resin for ultra-shortwave light source such as KrF or ArF, process for preparation thereof, and photoresist comprising the same resin. The copolymer resin according to the present invention is easily prepared by conventional radical polymerization due to the introduction of norbornyl(meth)acrylate unit to a structure of copolymer for photoresist. The resin has high transparency at 193 nm wavelength, provides increased etching resistance and enhanced adhesive strength due to a hydrophilic functional group in the norbornyl group, and shows excellent resolution of 0.15 Fm in practical experiment of patterning.
    本发明涉及一种用于KrF或ArF等超短波光源的共聚物树脂,其制备方法以及含有相同树脂的光刻胶。根据本发明的共聚物树脂由于在光刻胶的共聚物结构中引入了去环戊烯基(甲基)丙烯酸酯单元,因此可以通过常规自由基聚合轻松制备。该树脂在193纳米波长下具有高透明度,由于去环戊烯基中的亲水性功能基团,提供了增强的刻蚀抗性和增强的粘接强度,并在实际的图案制备实验中显示出0.15微米的优异分辨率。
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