[6-[3,3,3-Trifluoro-2-hydroxy-2-(trifluoromethyl)propyl]-2-bicyclo[2.2.1]heptanyl] 5-bromo-4,4,5,5-tetrafluoropentanoate | 1375104-95-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 异戊烯醇脂质
• 英文名称: [6-[3,3,3-Trifluoro-2-hydroxy-2-(trifluoromethyl)propyl]-2-bicyclo[2.2.1]heptanyl] 5-bromo-4,4,5,5-tetrafluoropentanoate
• 英文别名: [6-[3,3,3-trifluoro-2-hydroxy-2-(trifluoromethyl)propyl]-2-bicyclo[2.2.1]heptanyl] 5-bromo-4,4,5,5-tetrafluoropentanoate
• CAS: 1375104-95-2
• 化学式: C₁₆H₁₇BrF₁₀O₃
• 分子量: 527.197
• InChiKey: UTJIOCFGOJLLFZ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  6
• 重原子数：
  30
• 可旋转键数：
  8
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.94
• 拓扑面积：
  46.5
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  13

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  [6-[3,3,3-Trifluoro-2-hydroxy-2-(trifluoromethyl)propyl]-2-bicyclo[2.2.1]heptanyl] 5-bromo-4,4,5,5-tetrafluoropentanoate 在 sodium dithionite 、 sodium carbonate 、 sodium tungstate (VI) dihydrate 、 双氧水 作用下， 以 水 、 乙腈 为溶剂， 反应 32.0h， 生成 sodium 1,1,2,2-tetrafluoro-5-oxo-5-((6-(3,3,3-trifluoro-2-hydroxy-2-(trifluoromethyl)propyl)bicyclo[2.2.1]heptan-2-yl)oxy)pentane-1-sulfonate
  参考文献：
  名称：

  Base reactive photoacid generators and photoresists comprising same

  摘要：

  本发明涉及新的光酸发生剂化合物和包含这种化合物的光刻胶组合物。具体而言，本发明涉及包含可基裂解基团的光酸发生剂化合物。

  公开号：

  EP2452932A2
• 作为产物：
  描述：

  6-[3,3,3-trifluoro-2-hydroxy-2-(trifluoromethyl)propyl]-norbornan-2-ol 、 5-溴-4,4,5,5-四氟戊酸 在 N,N'-羰基二咪唑 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 18.0h， 生成 [6-[3,3,3-Trifluoro-2-hydroxy-2-(trifluoromethyl)propyl]-2-bicyclo[2.2.1]heptanyl] 5-bromo-4,4,5,5-tetrafluoropentanoate
  参考文献：
  名称：

  Base reactive photoacid generators and photoresists comprising same

  摘要：

  本发明涉及新的光酸发生剂化合物和包含这种化合物的光刻胶组合物。具体而言，本发明涉及包含可基裂解基团的光酸发生剂化合物。

  公开号：

  EP2452932A2

文献信息

• BASE REACTIVE PHOTOACID GENERATORS AND PHOTORESISTS COMPRISING SAME
  申请人：AQAD Emad

  公开号：US20120129108A1

  公开（公告）日：2012-05-24

  This invention relates to new photoacid generator compounds and photoresist compositions that comprise such compounds. In particular, the invention relates to photoacid generator compounds that comprise base-cleavable groups.

  本发明涉及新的光酸发生剂化合物和包含这些化合物的光刻胶组成物。特别地，本发明涉及包含可被碱剪断基团的光酸发生剂化合物。
• US9156785B2
  申请人：——

  公开号：US9156785B2

  公开（公告）日：2015-10-13
• Base reactive photoacid generators and photoresists comprising same
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials LLC

  公开号：EP2452932A2

  公开（公告）日：2012-05-16

  This invention relates to new photoacid generator compounds and photoresist compositions that comprise such compounds. In particular, the invention relates to photoacid generator compounds that comprise base-cleavable groups.

  本发明涉及新的光酸发生剂化合物和包含这种化合物的光刻胶组合物。具体而言，本发明涉及包含可基裂解基团的光酸发生剂化合物。