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4-叔丁基环己基异丁酸酯 | 5451-57-0

中文名称
4-叔丁基环己基异丁酸酯
中文别名
——
英文名称
p-tert-Butyl-cyclohexylisobutyrat
英文别名
4-tert-Butylcyclohexyl isobutyrate;(4-tert-butylcyclohexyl) 2-methylpropanoate
4-叔丁基环己基异丁酸酯化学式
CAS
5451-57-0
化学式
C14H26O2
mdl
——
分子量
226.359
InChiKey
RMCOAKZBTKDTCI-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • LogP:
    4.921 (est)

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    4.4
  • 重原子数:
    16
  • 可旋转键数:
    4
  • 环数:
    1.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.93
  • 拓扑面积:
    26.3
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    2

安全信息

  • 海关编码:
    2915900090

文献信息

  • Photosensitive composition, image forming method, film forming method, resin, image, and film
    申请人:FUJIFILM CORPORATION
    公开号:US10407531B2
    公开(公告)日:2019-09-10
    Provided are a photosensitive composition containing a resin which includes a structural unit A represented by Formula (1) or (2) and a structural unit B represented by Formula (3), (4), or (5); and a radically polymerizable monomer, an image forming method, a film forming method, a resin, an image, and a film. R11, R21, R31, R41, and R51 represent H or a hydrocarbon group, R12 to R14 and R22 to R24 represent a hydrocarbon group, H, or an OH group, R42, R43, R52, and R53 represent H or a hydrocarbon group, L1 to L3 represent a single bond or a linking group, X1 represents —O— or —NR15—, X2 represent —O— or —NR25—, R15 and R25 represent H or a hydrocarbon group, and Cy1 represents a hydrocarbon group which may contain O and has a cyclic structure.
    本发明提供了一种光敏组合物,该组合物含有一种树脂,其中包括由式(1)或(2)表示的结构单元 A 和由式(3)、(4)或(5)表示的结构单元 B;以及一种可辐射聚合的单体、一种图像形成方法、一种薄膜形成方法、一种树脂、一种图像和一种薄膜。R11、R21、R31、R41 和 R51 代表 H 或烃基,R12 至 R14 和 R22 至 R24 代表烃基、H 或 OH 基,R42、R43、R52 和 R53 代表 H 或烃基,L1 至 L3 代表单键或连接基团、X1 代表-O-或-NR15-,X2 代表-O-或-NR25-,R15 和 R25 代表 H 或烃基,Cy1 代表可能含有 O 并具有环状结构的烃基。
  • Pattern forming method, method for manufacturing electronic device, laminate film, and composition for forming upper layer film
    申请人:FUJIFILM Corporation
    公开号:US11249395B2
    公开(公告)日:2022-02-15
    One embodiment of the present invention provides a pattern forming method including a step for forming an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film on a substrate using an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, a step for forming an upper layer film on the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film using a composition for forming an upper layer film, a step for exposing a laminate film including the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film and the upper layer film, and a step for developing the exposed laminate film using a developer including an organic solvent. The composition for forming an upper layer film contains a resin (XA), a resin (XB) containing fluorine atoms, a basic compound (XC), and a solvent (XD), and the resin (XA) is a resin not containing fluorine atoms, or in a case where the resin (XA) contains fluorine atoms, the resin (XA) is a resin having a lower content of fluorine atoms than that in the resin (XB), based on a mass.
    本发明的一个实施例提供了一种图案形成方法,包括使用感光树脂或辐射敏感树脂组合物在基底上形成感光膜或辐射敏感膜的步骤、使用用于形成上层薄膜的组合物在感光膜或辐射敏感膜上形成上层薄膜的步骤,曝光包括感光膜或辐射敏感膜和上层薄膜的层压薄膜的步骤,以及使用包括有机溶剂的显影剂显影曝光的层压薄膜的步骤。用于形成上层薄膜的组合物包含树脂 (XA)、含氟原子的树脂 (XB)、碱性化合物 (XC) 和溶剂 (XD),并且树脂 (XA) 是不含氟原子的树脂,或者在树脂 (XA) 含有氟原子的情况下,树脂 (XA) 是氟原子含量低于树脂 (XB) 中氟原子含量的树脂(基于质量)。
  • PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, IMAGE FORMING METHOD, FILM FORMING METHOD, RESIN, IMAGE, AND FILM
    申请人:FUJIFILM CORPORATION
    公开号:US20180162979A1
    公开(公告)日:2018-06-14
    Provided are a photosensitive composition containing a resin which includes a structural unit A represented by Formula (1) or (2) and a structural unit B represented by Formula (3), (4), or (5); and a radically polymerizable monomer, an image forming method, a film forming method, a resin, an image, and a film. R 11 , R 21 , R 31 , R 41 , and R 51 represent H or a hydrocarbon group, R 12 to R 14 and R 22 to R 24 represent a hydrocarbon group, H, or an OH group, R 42 , R 43 , R 52 , and R 53 represent H or a hydrocarbon group, L 1 to L 3 represent a single bond or a linking group, X 1 represents —O— or —NR 15 —, X 2 represent —O— or —NR 25 —, R 15 and R 25 represent H or a hydrocarbon group, and Cy 1 represents a hydrocarbon group which may contain O and has a cyclic structure.
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