4-oxatricyclo[4.2.1.0^3,7]nonan-5-one | 6712-12-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 异戊烯醇脂质
• 英文名称: 4-oxatricyclo[4.2.1.0^3,7]nonan-5-one
• 英文别名: hexahydro-3,5-methano-cyclopenta[b]furan-2-one；6-oxatricyclo[3.2.1.13,8 ]nonan-7-one；Hexahydro-2h-3,5-methanocyclopenta[b]furan-2-one；4-oxatricyclo[4.2.1.03,7]nonan-5-one
• CAS: 6712-12-5；60133-51-9；68035-53-0
• 化学式: C₈H₁₀O₂
• 分子量: 138.166
• InChiKey: ARGGOKUVIPUXPJ-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  157-158 °C
• 沸点：
  284.4±8.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.264±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.1
• 重原子数：
  10
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.88
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4-oxatricyclo[4.2.1.0^3,7]nonan-5-one 、 苯硫酚 、 二异丁基氢化铝 以94%的产率得到
  参考文献：
  名称：

  COHEN, TH.;LIN, MING-TEH, J. AMER. CHEM. SOC., 1984, 106, N 4, 1130-1131

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  5-降冰片烯-2-羧酸 在 硫酸 作用下， 生成 4-oxatricyclo[4.2.1.0^3,7]nonan-5-one
  参考文献：
  名称：

  Process for the preparation of

  摘要：

  该标题化合物是通过将6-氧杂三环[3.2.1.1.sup.3,8]壬烷-7-酮与还原剂（如铝锂氢化物）在还原条件下（如回流温度和压力）接触而制备的。这种双官能团、内特异性产物在制备各种聚合物体系（如聚酯、聚氨酯、聚碳酸酯等）中很有用。

  公开号：

  US04166915A1

文献信息

• Salt suitable for an acid generator and a chemically amplified resist composition containing the same
  申请人：Harada Yukako

  公开号：US20070078269A1

  公开（公告）日：2007-04-05

  The present invention provides a salt of the formula (I): wherein ring Y represents monocyclic or polycyclic hydrocarbon group having 3 to 30 carbon atoms, in which one —CH 2 — group is substituted with —COO— group, and at least one hydrogen atom in the monocyclic or polycyclic hydrocarbon group may optionally be substituted with alkyl group having 1 to 6 carbon atom, alkoxy group having 1 to 6 carbon atom, perfluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms, hydroxyalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, hydroxyl group or cyano group; Q 1 and Q 2 each independently represent fluorine atom or perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms; A + represents organic counter ion; and n shows an integer of 0 to 12. The present invention also provides a chemically amplified resist composition comprising the salt of the formula (I).

  本发明提供了一种具有公式(I)的盐： 其中环Y代表具有3至30个碳原子的单环或多元环烃基团，其中一个—CH2—基团被—COO—基团取代，并且单环或多元环烃基团中的至少一个氢原子可以可选地被具有1至6个碳原子的烷基取代，具有1至6个碳原子的烷氧基，具有1至4个碳原子的全氟烷基，具有1至6个碳原子的羟基烷基，羟基或腈基；Q1和Q2各自独立地代表氟原子或具有1至6个碳原子的全氟烷基；A+代表有机反离子；n表示0至12的整数。 本发明还提供了一种含有公式(I)盐的化学放大抗蚀剂组合物。
• SALT AND PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME
  申请人：ICHIKAWA Koji

  公开号：US20100304293A1

  公开（公告）日：2010-12-02

  A salt represented by the formula (a): wherein Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom etc., X 1 represents a single bond etc., X 2 represents a single bond etc., Y 1 represents a C3-C6 alicyclic hydrocarbon group etc., with the proviso that —X 2 —Y 1 group has one or more fluorine atoms, and Z + represents an organic counter cation, and a photoresist composition comprising the salt represented by the formula (a) and a resin comprising a structural unit having an acid-labile group and being insoluble or poorly soluble in an aqueous alkali solution but becoming soluble in an aqueous alkali solution by the action of an acid.

  由公式(a)表示的盐：其中Q1和Q2各自独立代表氟原子等，X1代表单键等，X2代表单键等，Y1代表C3-C6的脂环烃基等，但条件是—X2—Y1基团具有一个或多个氟原子，以及Z+代表有机反离子，以及包含由公式(a)表示的盐的光阻剂组合物和包含具有酸不稳定的基团并且在水性碱液中不溶或微溶于但在酸性作用下水性碱液中变得可溶的树脂的结构单元。
• SALT AND PROCESS FOR PRODUCING ACID GENERATOR
  申请人：YOSHIDA Isao

  公开号：US20110201823A1

  公开（公告）日：2011-08-18

  A salt represented by the formula (I0): wherein Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom or a C1-C6 perfluoroalkyl group, L 1 represents a divalent C1-C17 hydrocarbon group in which one or more —CH 2 — can be replaced by —O— or —CO—, m represents 1 or 2, and Z m+ represents m-valent organic or inorganic cation.

  根据您提供的化学公式(I0)，其翻译成中文为： 其中Q1和Q2各自独立代表一个氟原子或一个C1-C6全氟烷基团，L1代表一个二价的C1-C17碳氢化合物基团，在该基团中，一个或多个—CH2—可以被—O—或—CO—所替换，m代表1或2，而Zm+代表m价有机或无机阳离子。
• HYDROXYAPATITE WITH SILVER SUPPORTED ON THE SURFACE THEREOF
  申请人：Kaneda Kiyotomi

  公开号：US20100331574A1

  公开（公告）日：2010-12-30

  An object of the present invention is to provide a hydroxyapatite with silver supported on the surface thereof, a new compound useful as a catalyst for the reaction of producing an amide compound by hydration of the corresponding nitrile compound. The hydroxyapatite with silver supported on the surface thereof according to the present invention is obtained by supporting zero-valent Ag on the surface of a hydroxyapatite. Also provided are a hydroxyapatite with silver supported on the surface thereof used as a catalyst, and a method for producing an amide compound, comprising producing the amide compound by hydration of the corresponding nitrile compound in the presence of a hydroxyapatite with silver supported on the surface thereof having zero-valent Ag supported on the surface of the hydroxyapatite.

  本发明的一个目的是提供一种在其表面上支持银的羟基磷灰石，作为一种新的化合物，可用作催化剂，用于通过相应腈化合物的水合反应产生酰胺化合物。根据本发明，所述表面支持银的羟基磷灰石是通过在羟基磷灰石表面支持零价Ag而获得的。还提供了一种作为催化剂使用的表面支持银的羟基磷灰石，以及一种生产酰胺化合物的方法，包括在表面支持零价Ag的羟基磷灰石存在下，通过对应腈化合物的水合反应产生酰胺化合物。
• SALT, RESIN, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20160052877A1

  公开（公告）日：2016-02-25

  A salt represented by the formula (I); wherein Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom or a C 1 to C 6 perfluoroalkyl group, L b1 represents a single bond or a divalent C 1 to C 24 saturated hydrocarbon groupwhere a methylene group may be replaced by an oxygen atom or a carbonyl group and where a hydrogen atom may be replaced by a hydroxyl group or a fluorine atom, and Y represents a hydrogen atom, a fluorine atom, or an optionally substituted C 3 to C 18 alicyclic hydrocarbon groupwhere a methylene group may be replaced by an oxygen atom, a carbonyl group or a sulfonyl group; and Ar represents a divalent C 6 to C 20 aromatic hydrocarbon group, and Z + represents an organic sulfonium cation or an organic iodonium cation.

  根据您的要求，以下是化合物的中文翻译： 由公式(I)表示的盐； 其中Q1和Q2各自独立代表一个氟原子或一个C1至C6的过氟代烷基团，Lb1代表一个单键或一个二价的C1至C24的饱和烃基团，其中甲基烯基团可以被一个氧原子或一个羰基团所取代，并且其中氢原子可以被一个羟基或一个氟原子所取代，并且Y代表一个氢原子，一个氟原子，或一个可选地被取代的C3至C18的芳环烃基团，其中甲基烯基团可以被一个氧原子，一个羰基团或一个磺酰基团所取代；并且Ar代表一个二价的C6至C20的芳香烃基团，以及Z+代表一个有机硫正离子或一个有机碘正离子。