2-Methyl-6-(trifluoromethyl)benzoic acid | 1104383-68-7

• 物质功能分类: 有机原料 - 有机氟化合物 - 氟苯甲酸系列
• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 2-Methyl-6-(trifluoromethyl)benzoic acid
• CAS: 1104383-68-7
• 化学式: C₉H₇F₃O₂
• 分子量: 204.149
• InChiKey: HNIHCUXXQZGRAU-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  252.2±40.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.345±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.7
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.22
• 拓扑面积：
  37.3
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  5

安全信息

• 海关编码：
  2916399090
• 危险性防范说明：
  P261,P280,P301+P312,P302+P352,P305+P351+P338
• 危险性描述：
  H302,H315,H319,H335

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-Methyl-6-(trifluoromethyl)benzoic acid 在 N-溴代丁二酰亚胺(NBS) 、 偶氮二异丁腈 、 碳酸氢钠 、 三乙胺 作用下， 以 N,N-二甲基甲酰胺 为溶剂， 生成 3-[3-oxo-4-(trifluoromethyl)-1H-isoindol-2-yl]piperidine-2,6-dione
  参考文献：
  名称：

  来那度胺和泊马利度胺的等规类似物：合成与生物活性

  摘要：

  制备了一系列免疫调节药物来那度胺（1）和pomalidomide（2）的类似物，其中的氨基被各种等排物取代，并测定了其免疫调节活性和针对癌细胞系的活性。4-甲基和4-氯类似物4和15分别在LPS刺激的hPBMC中显示出对肿瘤坏死因子-α（TNF-α）的有效抑制作用，在人T细胞共刺激测定中对IL-2的有效刺激作用，以及对Namalwa淋巴瘤细胞系的抗增殖活性。这两种类似物在大鼠中均显示出口服生物利用度。

  DOI：

  10.1016/j.bmcl.2012.10.071
• 作为产物：
  描述：

  碘甲烷 、 邻三氟甲基苯甲酸 在 仲丁基锂 、 盐酸 、 碳酸氢钠 作用下， 以 四氢呋喃 、 环己烷 为溶剂， 反应 17.0h， 生成 2-Methyl-6-(trifluoromethyl)benzoic acid
  参考文献：
  名称：

  [EN] COMPOUNDS HAVING ACTIVITY AT 5HT2C RECEPTOR AND USES THEREOF
  [FR] COMPOSES PRESENTANT UNE ACTIVITE PAR RAPPORT AU RECEPTEUR 5HT2C ET LEURS APPLICATIONS

  摘要：

  公开了具有式（I）的化合物及其药学上可接受的盐：其中R1是卤素、氰基、C1-6烷基、C3-7环烷基、C3-7环烷氧基、C1-6烷氧基、C1-6烷基硫基、羟基、氨基、单取代或双取代的C1-6烷基氨基、N-连接的4至7成员杂环基、硝基、卤代C1-6烷基、卤代C1-6烷氧基、芳基、-COOR3、-COR4（其中R3和R4独立地是氢或C1-6烷基）或-COR5（其中R5是氨基、单取代或双取代的C1-6烷基氨基或N-连接的4至7成员杂环基）；p为0、1、2或3；Q为6-成员芳基或6-成员杂芳基；A为-(CH2-CH2)-、-(CH=CH)-或一个基团-(CHR7)-其中R7是氢、卤素、羟基、氰基、硝基、C1-6烷基、C3-7环烷基、C3-7环烷氧基、卤代C1-6烷基、C1-6烷氧基、卤代C1-6烷氧基或C1-6烷基硫基；R2是氢、卤素、羟基、氰基、硝基、C1-6烷基、C1-6烷酰基、C3-7环烷基、C3-7环烷氧基、卤代C1-6烷基、C1-6烷氧基、卤代C1-6烷氧基、C1-6烷基硫基、氨基、单取代或双取代的C1-6烷基氨基或N-连接的4至7成员杂环基；X是氧、硫、-CH2-或NR8其中R8是氢或C1-6烷基；Y是单键、-CH2-、-(CH2)2-或-CH=CH-；Z是一个可选择取代的N-连接杂环基或含有至少一个氮的C-连接的4至7成员杂环基，或Z是-NR9R10其中R9和R10独立地是氢或C1-6烷基。还公开了其制备方法和在治疗中的用途，例如用于抑郁症或焦虑症。

  公开号：

  WO2004089897A1

文献信息

• [EN] PROSTAGLANDIN TRANSPORTER INHIBITORS AND USES THEREOF<br/>[FR] INHIBITEURS DE TRANSPORTEUR DE PROSTAGLANDINE ET LEURS UTILISATIONS
  申请人：EINSTEIN COLL MED

  公开号：WO2011037610A1

  公开（公告）日：2011-03-31

  Disclosed are compounds for inhibiting prostaglandin transporter (PGT) activity, pharmaceuticals compositions including the compounds, and methods of treating subjects using the compounds.

  揭示了用于抑制前列腺素转运体（PGT）活性的化合物，包括这些化合物的药物组合物，以及使用这些化合物治疗受试者的方法。
• PROSTAGLANDIN TRANSPORTER INHIBITORS AND USES THEREOF
  申请人：Albert Einstein College Of Medecine Of Yeshiva University

  公开号：EP2488032A1

  公开（公告）日：2012-08-22
• COLORANT COMPOUND AND INK INCLUDING THE COLORANT COMPOUND
  申请人：Tanaka Masatake

  公开号：US20100089284A1

  公开（公告）日：2010-04-15

  The invention provides a colorant compound represented by the following general formula (1): wherein R 1 and R 2 represent independently from each other a species selected from at least one of a hydrogen atom, an alkyl group, and an aralkyl group. R 3 represents a species selected from at least one of a hydrogen atom, a cyano group, and —COR 5 , where R 5 is any of a hydroxyl group, an alkoxy group, and an amino group. R 4 represents a species selected from at least one of a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, and an aralkyl group. Cy represents an aryl group. Optionally, at least one anionic group may be present in the general formula (1).
• RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Hatakeyama Jun

  公开号：US20120202153A1

  公开（公告）日：2012-08-09

  A resist composition comprising a polymer having recurring units having an acid labile group and recurring units of a magnesium, copper, zinc or cesium salt of (meth)acrylic acid, styrenecarboxylic acid or vinylnaphthalenecarboxylic acid copolymerized together exhibits a high resolution, high sensitivity, and minimal LER. The resist composition is best suited as the patterning material for VLSIs and photomasks.
• NON-CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE RESIST COMPOSITION, NON-CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE RESIST FILM, PATTERN FORMING METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：US20170174801A1

  公开（公告）日：2017-06-22

  Provided are a non-chemical amplification type resist composition in which the resolving power in an isolated line pattern or an isolated space pattern is excellent, and a non-chemical amplification type resist film, a pattern forming method, and a method for manufacturing an electronic device. The non-chemical amplification type resist composition contains a resin (Ab) having a metal salt structure.