2-ethylbicyclo[2.2.1]heptan-2-ol | 39173-90-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 异戊烯醇脂质
• 英文名称: 2-ethylbicyclo[2.2.1]heptan-2-ol
• 英文别名: 2-Hydroxy-2-aethyl-norbornan
• CAS: 39173-90-5
• 化学式: C₉H₁₆O
• 分子量: 140.225
• InChiKey: AGVPWIGPOKZAON-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2
• 重原子数：
  10
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  20.2
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-ethylbicyclo[2.2.1]heptan-2-ol 在 盐酸 作用下， 以 异丙醇 为溶剂， 生成 2-Aethyliden-bicyclo<2.2.1>heptan
  参考文献：
  名称：

  Kagawa,M., Chemical and pharmaceutical bulletin, 1961, vol. 9, p. 391 - 403

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  2-Ethylidenbicyclo<2.2.1>heptan (trans) 在 间氯过氧苯甲酸 作用下， 以 乙醚 、 二氯甲烷 为溶剂， 以90.3%的产率得到2-ethylbicyclo[2.2.1]heptan-2-ol
  参考文献：
  名称：

  Ester compounds, polymers, resist compositions and patterning process

  摘要：

  提供一种具有外形2-烷基双环[2.2.1]庚烷-2-基团作为保护基团的新型酯化合物，以及包含该酯化合物单元的聚合物。该聚合物被用作基础树脂，用于配制一种比传统光刻胶具有更高灵敏度、分辨率和蚀刻抗性的抗蚀组合物。

  公开号：

  US06284429B1

文献信息

• ACID-LABILE ESTER MONOMER HAVING SPIROCYCLIC STRUCTURE, POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Kinsho Takeshi

  公开号：US20100304295A1

  公开（公告）日：2010-12-02

  An acid-labile ester monomer of spirocyclic structure has formula (1) wherein Z is a monovalent group having a polymerizable double bond, X is a divalent group which forms a cyclopentane, cyclohexane or norbornane ring, R 2 is H or monovalent hydrocarbon, R 3 and R 4 are H or monovalent hydrocarbon, or R 3 and R 4 , taken together, stand for a divalent group which forms a cyclopentane or cyclohexane ring, and n is 1 or 2. A polymer obtained from the acid-labile ester monomer has so high reactivity in acid-catalyzed elimination reaction that the polymer may be used to formulate a resist composition having high resolution.

  一种酸敏感酯单体具有螺环结构，其化学式如下（1），其中Z是具有可聚合双键的一价基团，X是形成环戊烷、环己烷或诺邦烷环的二价基团，R2是H或一价碳氢基团，R3和R4是H或一价碳氢基团，或者R3和R4一起表示形成环戊烷或环己烷环的二价基团，n为1或2。从酸敏感酯单体获得的聚合物在酸催化消除反应中具有很高的反应性，因此可以用于制备具有高分辨率的抗蚀组合物。
• ACID-DECOMPOSABLE ESTER COMPOUND SUITABLE FOR USE IN RESIST MATERIAL
  申请人：——

  公开号：US20020115874A1

  公开（公告）日：2002-08-22

  A novel ester compound having an exo-form 2-alkylbicyclo[2.2.1]heptan-2-yl ester as the acid-decomposable site is used as a dissolution regulator to formulate a resist composition having a high sensitivity, resolution, etching resistance and storage stability.

  一种具有外式2-烷基双环[2.2.1]庚烷-2-基酯作为酸可分解位点的新酯化合物被用作溶解调节剂，用于配制具有高灵敏度、分辨率、蚀刻抗性和储存稳定性的抗蚀组合物。
• Acid-decomposable ester compound suitable for use in resist material
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US06448420B1

  公开（公告）日：2002-09-10

  A novel ester compound having an exo-form 2-alkylbicyclo[2.2.1]heptan-2-yl ester as the acid-decomposable site is used as a dissolution regulator to formulate a resist composition having a high sensitivity, resolution, etching resistance and storage stability.

  一种具有外式2-烷基双环[2.2.1]庚烷-2-基酯作为可酸分解位点的新型酯化合物被用作溶解调节剂，以制备具有高灵敏度、分辨率、蚀刻抗性和储存稳定性的抗蚀剂组合物。
• Novel ester compounds, polymers, resist compositions and patterning process
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：EP1031879A1

  公开（公告）日：2000-08-30

  A novel ester compound having an exo-form 2-alkylbicyclo[2.2.1]heptan-2-yl group as the protective group is provided as well as a polymer comprising units of the ester compound. The polymer is used as a base resin to formulate a resist composition having a higher sensitivity, resolution and etching resistance than conventional resist compositions.

  本发明提供了一种具有外型 2-烷基双环[2.2.1]庚-2-基团作为保护基团的新型酯类化合物，以及一种包含该酯类化合物单元的聚合物。该聚合物可用作基础树脂，配制出一种光刻胶组合物，与传统光刻胶组合物相比，具有更高的灵敏度、分辨率和抗蚀刻性。
• Resist materials and compounds therefore
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：EP1053986A1

  公开（公告）日：2000-11-22

  A novel ester compound having an exo-form 2-alkylbicyclo[2.2.1]heptan-2-yl ester as the acid-decomposable site is used as a dissolution regulator to formulate a resist composition having a high sensitivity, resolution, etching resistance and storage stability.

  一种新型酯类化合物以外型 2-烷基双环[2.2.1]庚烷-2-基酯作为酸分解位点，用作溶解调节剂，用于配制具有高灵敏度、高分辨率、耐蚀刻性和储存稳定性的抗蚀剂组合物。