2-Aethyliden-bicyclo<2.2.1>heptan | 2146-40-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 异戊烯醇脂质
• 英文名称: 2-Aethyliden-bicyclo<2.2.1>heptan
• 英文别名: 2-Ethylidenbicyclo<2.2.1>heptan；2-Ethylidenenorbornane；2-ethylidenebicyclo[2.2.1]heptane
• CAS: 2146-40-9
• 化学式: C₉H₁₄
• 分子量: 122.21
• InChiKey: JURLNXPXCMWCHE-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  45-48 °C(Press: 3 Torr)
• 密度：
  0.8794 g/cm3
• 保留指数：
  704

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.7
• 重原子数：
  9
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.78
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

安全信息

• 海关编码：
  2902199090

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-Aethyliden-bicyclo<2.2.1>heptan 在 三氟乙酸 作用下， 生成 2-Aethyl-bicyclo<2.2.1>hepten-(2)
  参考文献：
  名称：

  Bobyleva, A. A.; Belikova, N. A.; Dzhigirkhanova, A. V., Journal of Organic Chemistry USSR (English Translation), 1980, vol. 16, p. 797 - 804

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  2-ethylbicyclo[2.2.1]heptan-2-ol 在 盐酸 作用下， 以 异丙醇 为溶剂， 生成 2-Aethyliden-bicyclo<2.2.1>heptan
  参考文献：
  名称：

  Kagawa,M., Chemical and pharmaceutical bulletin, 1961, vol. 9, p. 391 - 403

  摘要：

  DOI：

文献信息

• An Excellent Nickel Boride Catalyst for the Selective Hydrogenation of Olefins
  作者：Jaesung Choi、Nung Min Yoon

  DOI：10.1055/s-1996-4272

  日期：1996.5

  Nickel boride prepared on borohydride exchange resin (BER) in methanol is an excellent catalyst for the selective hydrogenation of olefins. Thus, monosubstituted olefins and norbornene were hydrogenated quantitatively at 0°C in 1 hour in the presence of disubstituted olefins and trisubstituted α,β-unsaturated acid derivatives, the disubstituted olefins in turn were hydrogenated at 65°C in 1 hour without affecting trisubstituted olefins, benzene, and heteroaromatic compounds

  甲醇中硼氢化物交换树脂（BER）上制备的硼化镍是一种优秀的催化剂，用于烯烃的选择性氢化。因此，在二取代烯烃和三取代α,β-不饱和酸衍生物存在下，单取代烯烃和降冰片烯在0°C下1小时内能定量氢化，而二取代烯烃则在65°C下1小时内氢化，而不影响三取代烯烃、苯和杂芳香化合物。
• Electrophilic Additions to Ethylidenenorbornene and Vinylnorbornene
  作者：T. C. Shields

  DOI：10.1139/v71-188

  日期：1971.4.1

  Electrophilic and free radical additions to 5-ethylidenebicyclo[2.2.1]hept-2-ene and 5-vinylbicyclo-[2.2.1]hept-2-ene have been carried out with peracetic acid, hydrogen chloride, and methanol. In contrast to chlorosulfonyl isocyanate, peracetic acid primarily attacks the exocyclic double bond in 5-ethylidenebicyclo[2.2.1]hept-2-ene. Several other electrophilic additions are discussed which demonstrate

  5-亚乙基双环[2.2.1]庚-2-烯和5-乙烯基双环-[2.2.1]庚-2-烯的亲电和自由基加成已用过乙酸、氯化氢和甲醇进行。与氯磺酰基异氰酸酯相反，过乙酸主要攻击 5-亚乙基双环[2.2.1]庚-2-烯中的环外双键。讨论了其他几种亲电加成，它们证明了降冰片基系统的不可预测的反应性。
• The dye-sensitized photooxygenation of 2-ethylidenebicyclo[2.2.1]hept-5-ene
  作者：W.R. Adams、D.J. Trecker

  DOI：10.1016/0040-4020(72)80072-3

  日期：1972.1

  2-ethylidenebicyclo[2.2.1]hept-5-ene (1). Reduction of the resulting allylic hydroperoxides provided the epimeric 2-hydroxy-2-vinylbicyclo[2.2.1]hept-5-enes (2 and 3) and 2-(1-hydroxyethyl)bicyclo[2.2.1]hept-2,5-diene (4), the relative yields of which were apparently controlled by steric factors. Also isolated were two novel multicyclic ketones, 5 and 6, derived from thermal rearrangements of the primary

  降冰片烯衍生物的单线态氧攻击的方式被探测通过2- ethylidenebicyclo [2.2.1]庚-5-烯（的染料敏化的光氧化的研究1）。还原得到的烯丙基氢过氧化物提供了差向异构的2-羟基-2-乙烯基双环[2.2.1]庚-5-烯（2和3）和2-（1-羟乙基）双环[2.2.1]庚-5,5。 -二烯（4），其相对产率显然受空间因素控制。还分离出了两个新的多环酮5和6，它们是由初级氧化产物的热重排衍生而来的。
• ACID-DECOMPOSABLE ESTER COMPOUND SUITABLE FOR USE IN RESIST MATERIAL
  申请人：——

  公开号：US20020115874A1

  公开（公告）日：2002-08-22

  A novel ester compound having an exo-form 2-alkylbicyclo[2.2.1]heptan-2-yl ester as the acid-decomposable site is used as a dissolution regulator to formulate a resist composition having a high sensitivity, resolution, etching resistance and storage stability.

  一种新型酯化合物，其具有外部形式的2-烷基双环[2.2.1]庚烷-2-基酯作为可酸分解的位点，用作溶解调节剂来制备具有高灵敏度、分辨率、蚀刻抗性和储存稳定性的抗蚀剂组合物。
• Resist compositions and patterning process
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US06413695B1

  公开（公告）日：2002-07-02

  A resist composition comprising an exo-form 2-alkylbicyclo[2.2.1]heptan-2-yl ester compound as a dissolution regulator has a high sensitivity, resolution, etching resistance and storage stability and lends itself to micropatterning with electron beams or deep-UV rays.

  一种抗蚀组合物，其中包括一种exo-形式的2-烷基双环[2.2.1]庚烷-2-酯化合物作为溶解调节剂，具有高灵敏度、分辨率、蚀刻抵抗力和储存稳定性，并适用于使用电子束或深紫外线进行微图案化。