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7-methoxycarbonyl-2-oxohexahydro-3,5-methano-2H-cyclopenta[b]furan-6-yl 4-chlorobutyrate | 1187392-90-0

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
7-methoxycarbonyl-2-oxohexahydro-3,5-methano-2H-cyclopenta[b]furan-6-yl 4-chlorobutyrate
英文别名
methyl 2-(4-chlorobutanoyloxy)-5-oxo-4-oxatricyclo[4.2.1.03,7]nonane-9-carboxylate
7-methoxycarbonyl-2-oxohexahydro-3,5-methano-2H-cyclopenta[b]furan-6-yl 4-chlorobutyrate化学式
CAS
1187392-90-0
化学式
C14H17ClO6
mdl
——
分子量
316.738
InChiKey
UNDZOCIFPNZBRO-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
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  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    1
  • 重原子数:
    21
  • 可旋转键数:
    7
  • 环数:
    3.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.79
  • 拓扑面积:
    78.9
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    6

上下游信息

  • 下游产品
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    甲基丙烯酸7-methoxycarbonyl-2-oxohexahydro-3,5-methano-2H-cyclopenta[b]furan-6-yl 4-chlorobutyrate 在 sodium iodide 作用下, 以 N,N-二甲基甲酰胺 为溶剂, 以73%的产率得到7-methoxycarbonyl-2-oxohexahydro-3,5-methano-2H-cyclopenta[b]furan-6-yl 4-(methacryloyloxy)butyrate
    参考文献:
    名称:
    Lactone-containing compound, polymer, resist composition, and patterning process
    摘要:
    公开号:
    EP2100887B1
  • 作为产物:
    描述:
    4-氯丁酰氯 、 methyl 6-hydroxy-2-oxohexahydro-3,5-methano-2H-cyclopenta[b]furan-7-carboxylate 在 吡啶碳酸氢钠 作用下, 以 四氢呋喃 为溶剂, 以96%的产率得到7-methoxycarbonyl-2-oxohexahydro-3,5-methano-2H-cyclopenta[b]furan-6-yl 4-chlorobutyrate
    参考文献:
    名称:
    LACTONE-CONTAINING COMPOUND, POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
    摘要:
    含有式(1)的内酯化合物是新颖的,其中R1为H、F、甲基或三氟甲基,R2和R3为H或一价碳氢基团,或R2和R3可以共同形成脂肪烃环,R4为H或CO2R5,R5为一价碳氢基团,W为CH2、O或S,k1为3、4或5。它们可用作单体以生产对辐射≦500纳米透明的聚合物。包含这些聚合物作为基础树脂的辐射敏感抗蚀组合物表现出优异的性能,包括分辨率、LER、图案密度依赖性和曝光余量。
    公开号:
    US20090233242A1
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文献信息

  • US7833694B2
    申请人:——
    公开号:US7833694B2
    公开(公告)日:2010-11-16
  • LACTONE-CONTAINING COMPOUND, POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
    申请人:HASEGAWA Koji
    公开号:US20090233242A1
    公开(公告)日:2009-09-17
    Lactone-containing compounds having formula (1) are novel wherein R 1 is H, F, methyl or trifluoromethyl, R 2 and R 3 are H or monovalent hydrocarbon groups, or R 2 and R 3 may together form an aliphatic hydrocarbon ring, R 4 is H or CO 2 R 5 , R 5 is a monovalent hydrocarbon group, W is CH 2 , O or S, and k 1 is 3, 4 or 5. They are useful as monomers to produce polymers which are transparent to radiation ≦500 nm. Radiation-sensitive resist compositions comprising the polymers as base resin exhibit excellent properties including resolution, LER, pattern density dependency and exposure margin.
    含有式(1)的内酯化合物是新颖的,其中R1为H、F、甲基或三氟甲基,R2和R3为H或一价碳氢基团,或R2和R3可以共同形成脂肪烃环,R4为H或CO2R5,R5为一价碳氢基团,W为CH2、O或S,k1为3、4或5。它们可用作单体以生产对辐射≦500纳米透明的聚合物。包含这些聚合物作为基础树脂的辐射敏感抗蚀组合物表现出优异的性能,包括分辨率、LER、图案密度依赖性和曝光余量。
  • Lactone-containing compound, polymer, resist composition, and patterning process
    申请人:Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
    公开号:EP2100887B1
    公开(公告)日:2013-07-03
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