6-Methyl-3-oxatricyclo[3.2.1.02,4]octane | 19712-64-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 异戊烯醇脂质
• 英文名称: 6-Methyl-3-oxatricyclo[3.2.1.02,4]octane
• CAS: 19712-64-2
• 化学式: C₈H₁₂O
• 分子量: 124.183
• InChiKey: MMRIDVCUCJPKCG-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  176.4±8.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.079±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.6
• 重原子数：
  9
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  12.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  甲基丙烯酸 、 6-Methyl-3-oxatricyclo[3.2.1.02,4]octane 在 四甲基氯化铵 作用下， 反应 2.0h， 生成 [3-hydroxy-6-methyl-2-bicyclo[2.2.1]heptyl]methacrylate 、 [3-hydroxy-5-methyl-2-bicyclo[2.2.1]heptyl]methacrylate
  参考文献：
  名称：

  用于涂料的丙烯酸酯类化合物、制备方法和包 含其的涂料及用途

  摘要：

  本发明涉及一种用于涂料的丙烯酸酯类化合物，所述化合物具有式(I)的结构。本发明提供的用于涂料的丙烯酸酯类化合物同时具有亲油性的多环脂基和亲水性的羟基，及较高的聚合反应活性，用于溶剂型丙烯酸涂料，涂层表现出优异的耐侯性、耐磨性、高光泽度及丰满度等；用于水性丙烯酸涂料，该化合物的亲水性羟基基团及亲油性的脂环基团在乳化体系中表现出良好的相溶性，聚合活性高，单体残留量低，成膜后涂层表现出优异的耐侯性、耐水耐油性、抗冲击性及高光泽度等性质。且制备方法工艺过程简单，条件易控，且副反应少，反应原料转化率高，产品纯度高。

  公开号：

  CN109956867B
• 作为产物：
  描述：

  5-甲基二环[2.2.1]庚-2-烯 在 过氧丙酸 、 sodium carbonate 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 3.0h， 以97%的产率得到6-Methyl-3-oxatricyclo[3.2.1.02,4]octane
  参考文献：
  名称：

  用于涂料的丙烯酸酯类化合物、制备方法和包 含其的涂料及用途

  摘要：

  本发明涉及一种用于涂料的丙烯酸酯类化合物，所述化合物具有式(I)的结构。本发明提供的用于涂料的丙烯酸酯类化合物同时具有亲油性的多环脂基和亲水性的羟基，及较高的聚合反应活性，用于溶剂型丙烯酸涂料，涂层表现出优异的耐侯性、耐磨性、高光泽度及丰满度等；用于水性丙烯酸涂料，该化合物的亲水性羟基基团及亲油性的脂环基团在乳化体系中表现出良好的相溶性，聚合活性高，单体残留量低，成膜后涂层表现出优异的耐侯性、耐水耐油性、抗冲击性及高光泽度等性质。且制备方法工艺过程简单，条件易控，且副反应少，反应原料转化率高，产品纯度高。

  公开号：

  CN109956867B

文献信息

• (Meth)acrylate derivative, polymer and photoresist composition having lactone structure, and method for forming pattern by using it
  申请人：Maeda Katsumi

  公开号：US20070218403A1

  公开（公告）日：2007-09-20

  There are here disclosed a photoresist material for lithography using a light of 220 nm or less which comprises at least a polymer represented by the following formula (2) and a photo-acid generator for generating an acid by exposure: wherein R 1 , R 2 , R 3 and R 5 are each a hydrogen atom or a methyl group; R 4 is an acid-labile group, an alicyclic hydrocarbon group having 7 to 13 carbon atoms, which has an acid labile group, an alicyclic hydrocarbon group having 7 to 13 carbon atoms, which has a carboxyl group, or a hydrocarbon group having 3 to 13 carbon atoms, which has an epoxy group; R 6 is a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, or an alicyclic hydrocarbon group having 7 to 13 carbon atoms, which has a carboxyl group; x, y and z are optional values which meet x+y+z=1, 0

  本文披露了一种光刻用220纳米或以下光的光阻材料，包括至少一种由以下式子（2）表示的聚合物和用于曝光生成酸的光酸发生剂： 其中，R1、R2、R3和R5分别是氢原子或甲基基团；R4是酸敏感基团、具有7至13个碳原子的脂环烃基团、具有酸敏感基团的7至13个碳原子的脂环烃基团、具有3至13个碳原子的环烃基团、具有环氧基团；R6是氢原子、具有1至12个碳原子的碳氢基团或具有7至13个碳原子的脂环烃基团，具有羧基；x、y和z是可选值，满足x+y+z=1，0
• (METH)ACRYLATE DERIVATIVE, POLYMER AND PHOTORESIST COMPOSITION HAVING LACTONE STRUCTURE, AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING IT
  申请人：Maeda Katsumi

  公开号：US20110196122A1

  公开（公告）日：2011-08-11

  There are here disclosed a photoresist material for lithography using a light of 220 nm or less which comprises at least a polymer represented by the following formula (2) and a photo-acid generator for generating an acid by exposure: wherein R 1 , R 2 , R 3 and R 5 are each a hydrogen atom or a methyl group; R 4 is an acid-labile group, an alicyclic hydrocarbon group having 7 to 13 carbon atoms, which has an acid labile group, an alicyclic hydrocarbon group having 7 to 13 carbon atoms, which has a carboxyl group, or a hydrocarbon group having 3 to 13 carbon atoms, which has an epoxy group; R 6 is a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, or an alicyclic hydrocarbon group having 7 to 13 carbon atoms, which has a carboxyl group; x, y and z are optional values which meet x+y+z=1, 0

  本文披露了一种光刻用于220nm或更低波长的光的光阻材料，其包括至少由以下化学式(2)表示的聚合物和用于曝光后生成酸的光酸发生剂：其中，R1、R2、R3和R5分别为氢原子或甲基基团；R4为酸敏感基团、具有7至13个碳原子的脂环烃基团，其具有酸敏感基团、具有7至13个碳原子的脂环烃基团，其具有羧基基团，或具有3至13个碳原子的碳氢基团，其具有环氧基团；R6为氢原子、具有1至12个碳原子的碳氢基团，或具有7至13个碳原子的脂环烃基团，其具有羧基基团；x、y和z是可选值，满足x+y+z=1，0
• Organomodifizierte Polysiloxane mit Blockcharakter, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung
  申请人：Goldschmidt GmbH

  公开号：EP1792609A1

  公开（公告）日：2007-06-06

  Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zur Herstellung von organomodifizierten Siloxanen mit domänenartiger Verteilung erhalten durch teilweise oder vollständige Umsetzung von A) Wasserstoffsiloxanen mit einem Verteilungsgrad (persistency ratio) (η) der Komponenten [A] und [B] im Copolymeren [AB] η=A⁢BAB von η > 1, vorzugsweise > 1,1, insbesondere ≥ 1,2, mit B) olefinisch und/oder acetylenisch ungesättigten Verbindungen, die daraus resultierenden Verbindungen und ihre Verwendung.

  本发明的主题是一种制备具有畴状分布的有机改性硅氧烷的工艺，该工艺是通过以下物 质的部分或全部反应获得的 A) 共聚物[AB]中组分[A]和[B]的分布度（持久率）(η)为η＞1，最好＞1.1，特别是≥1.2的氢硅氧烷，与 B）烯烃和/或乙炔不饱和化合物，所得到的化合物及其用途。
• HÄRTBARE ZUSAMMENSETZUNG FÜR BESCHICHTUNGEN MIT ANTI-ADHÄSIVER EIGENSCHAFT
  申请人：Evonik Degussa GmbH

  公开号：EP3470475A1

  公开（公告）日：2019-04-17

  Härtbare Zusammensetzung zur Herstellung von Beschichtungssystemen mit anti-adhäsiver Eigenschaft enthaltend mindestens ein filmbildendes Polymer und mindestens ein organomodifiziertes, verzweigtes Siloxan der Formel (I) oder Mischungen davon.

  一种可固化组合物，用于制备具有防粘附性能的涂料体系，该组合物包含至少一种成膜聚合物和至少一种式 (I) 的有机改性支链硅氧烷或其混合物。
• Asymmetrically substituted polyorganosiloxane derivatives
  申请人：Momentive Performance Materials GmbH

  公开号：US11535751B2

  公开（公告）日：2022-12-27

  An asymmetrically substituted polyorganosiloxane comprising at least one or more siloxane blocks and different reactive groups at each end of the siloxane chain, e.g. an alkoxysilyl, alkenyl, epoxy, hydroxyaromatic or an ionic substituent. Each polyorganosiloxane block has substantially a monomodal chain length distribution and is suitable for the use as a surface modifying agent for organic or inorganic particles, as a surface active material, and/or as a compatibilizer in compositions having more two or more non-miscible phases.

  一种不对称取代的聚有机硅氧烷，至少包含一个或多个硅氧烷嵌段，硅氧烷链的两端有不同的活性基团，如烷氧基硅烷基、烯基、环氧基、羟基芳香族或离子取代基。每个聚有机硅氧烷嵌段的链长分布基本上是单模的，适合用作有机或无机颗粒的表面改性剂、表面活性材料和/或具有两个或更多非混相的组合物中的相容剂。